一种显示基板、显示面板及显示装置的制作方法

文档序号:15642733发布日期:2018-10-12 22:14阅读:143来源:国知局

本发明实施例涉及显示领域,尤其涉及一种显示基板、显示面板及显示装置。



背景技术:

随着显示技术的不断发展,显示面板被广泛应用于各种电子设备中,极大的方便了用户的使用,备受用户青睐。

现有技术中显示面板的像素排列出现同色子像素同行相邻设置时,用于形成该色子像素的掩膜版的最小垮桥宽度为行方向上相邻子像素的间距,随着显示面板集成度的不断提高,相邻子像素的间距需要不断缩小,但在制备掩膜版时,受制程极限的限制,掩膜版的最小垮桥宽度达到一定值后无法继续缩小,导致相邻子像素的间距随之无法缩小,从而限制了显示面板分辨率的提升。另一方面,制备掩膜版的过程中,最小垮桥宽度越接近制程极限制备难度越大,因此,当不断提升显示基板集成度时,掩膜版的制备难度也会随之增大,导致显示面板的制备难度增大。



技术实现要素:

本发明提供一种显示基板、显示面板及显示装置,以降低显示基板的制备难度,提高显示面板的分辨率。

第一方面,本发明实施例提供了一种显示基板,所述显示基板包括多个像素单元行;每个所述像素单元行包括多个像素单元组,每个像素单元组包括多个像素单元,所述多个像素单元包括多个第一像素单元、多个第二像素单元以及多个第三像素单元;

奇数像素单元行的所述像素单元组包括沿所述像素单元行的延伸方向依次设置的所述第一像素单元、所述第二像素单元和所述第三像素单元;

偶数像素单元行的所述像素单元组包括沿所述像素单元行的延伸方向依次设置的所述第三像素单元、所述第一像素单元和所述第二像素单元;

每个所述像素单元包括多个不同颜色的子像素;

同一所述像素单元组中,不同所述像素单元的所述子像素的颜色排布不同;

同一所述像素单元行中,相邻所述像素单元的相邻所述子像素的颜色相同且间隙为零。

第二方面,本发明实施例还提供了一种显示面板,所述显示面板包括第一方面所述的显示基板

第三方面,本发明实施例还提供了一种显示装置,其特征在于,包括第二方面所述的显示面板。

本发明实施例提供的显示基板包括多个像素单元行,每个像素单元行包括多个像素单元组,每个像素单元组包括多个像素单元,同一像素单元组中,不同像素单元的子像素的颜色排布不同,同一像素单元行中,相邻像素单元的相邻子像素的颜色相同且间隙为零。这样的设计使得相邻像素单元的相邻子像素之间没有阴影区,相邻像素单元的相邻子像素的至少一个功能层能够采用同一掩膜版孔洞形成,增大了掩膜版相邻孔洞之间的最小垮桥宽度,降低了掩膜版的制备难度,进而降低了显示基板的制备工艺难度,另一方面,还能够使得具有制程极限尺寸的掩膜版在相同尺寸的显示基板上形成更多的子像素,达到提升显示面板物理分辨率的有益效果。此外,由于两者之间不存在间隙,相邻像素单元的相邻子像素属于一个物理子像素,通过对驱动方式的设置还能够达到低物理分辨率实现高显示分辨率的效果。

附图说明

为了更加清楚地说明本发明示例性实施例的技术方案,下面对描述实施例中所需要用到的附图做一简单介绍。显然,所介绍的附图只是本发明所要描述的一部分实施例的附图,而不是全部的附图,对于本领域普通技术人员,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图得到其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图;

图2是沿图1中虚线ab的一种剖面结构示意图;

图3是沿图1中虚线cd的一种剖面结构示意图;

图4是沿图1中虚线cd的又一种剖面结构示意图;

图5是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图;

图6是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图;

图7是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本发明提出的一种显示面板及其制作方法的具体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如后。

图1是本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图。如图1所示,显示基板包括多个像素单元行10,每个所述像素单元行10包括多个像素单元组11,每个像素单元组11包括多个像素单元110,所述多个像素单元110包括多个第一像素单元1/110、多个第二像素单元2/110以及多个第三像素单元3/110。奇数像素单元行的所述像素单元组11包括沿所述像素单元行10的延伸方向x依次设置的所述第一像素单元1/110、所述第二像素单元2/110和所述第三像素单元3/110,偶数像素单元行的所述像素单元组11包括沿所述像素单元行10的延伸方向x依次设置的所述第三像素单元3/110、所述第一像素单元1/110和所述第二像素单元2/110。每个所述像素单元110包括多个不同颜色的子像素111,同一所述像素单元组11中,不同所述像素单元110的所述子像素111的颜色排布不同,同一所述像素单元行10中,相邻所述像素单元110的相邻所述子像素111的颜色相同且间隙为零。

示例性的,如图1所示,像素单元110可以包括三种颜色的子像素111,具体的,第一像素单元1/110包括沿像素单元行10的延伸方向x排列的红色子像素1/111、绿色子像素2/111和蓝色子像素3/111,相应的,第二像素单元2/110包括沿像素单元行10的延伸方向x排列的蓝色子像素3/111、红色子像素1/111和绿色子像素2/111,第三像素单元3/110包括沿像素单元行10的延伸方向x排列的绿色子像素2/111、蓝色子像素3/111和红色子像素1/111。

需要说明的是,图1仅作为示例对本实施例中显示基板的结构进行说明,显示基板包括的像素单元行10数量、每个像素单元行10包括的像素单元组11数量、每个像素单元110包括的子像素111数量以及子像素111颜色的分布均不限于图1所示。

还需要说明的是,图1示例性的示出了显示基板上的像素排列方式,并未涉及子像素111的膜层结构,可以理解的是,显示基板可以为有机发光显示基板也可以为液晶显示基板,本实施例对此不做限定,其中液晶显示基板可以为阵列基板或彩膜基板。

此外,将相邻像素单元行10中像素单元组11内的第一像素单元1/110、第二像素单元2/110和第三像素单元3/110按照不同方式排列,能够使得相邻像素单元行10中距离最近的同色子像素111之间具有相对较大的距离,进而增大对应掩膜版的孔洞间距离,降低了掩膜版的制备难度,在制程极限尺寸的限制下,掩膜版能够形成更多的孔洞,对应制备更多的子像素111,进而使得显示面板分辨率提升。

值得注意的是,液晶显示基板采用黄光工艺形成各功能膜层,有机发光显示基板通过蒸镀工艺形成各功能膜层,虽然两者采用的工艺不同,但都会用到掩膜版,黄光工艺用到的是曝光掩膜版,蒸镀工艺用到的是蒸镀掩膜版,因此,无论对于液晶显示基板还是有机发光显示基板,通过设置相邻像素单元110的相邻子像素111的颜色相同且间隙为零,都能够达到降低对应掩膜版制作难度的有益效果。

本实施例提供的显示基板包括多个像素单元行10,每个像素单元行10包括多个像素单元组11,每个像素单元组11包括多个像素单元110,同一像素单元组11中,不同像素单元110的子像素111的颜色排布不同,同一像素单元行10中,相邻像素单元110的相邻子像素111的颜色相同且间隙为零。这样的设计使得相邻像素单元110的相邻子像素111之间没有阴影区,相邻像素单元110的相邻子像素111的至少一个功能层能够采用同一掩膜版孔洞形成,增大了掩膜版相邻孔洞之间的最小垮桥宽度,降低了掩膜版的制备难度,进而降低了显示基板的制备工艺难度,另一方面,还能够使得具有制程极限尺寸的掩膜版在相同尺寸的显示基板上形成更多的子像素111,达到提升显示面板物理分辨率的有益效果。此外,由于两者之间不存在间隙,相邻像素单元110的相邻子像素111属于一个物理子像素111,通过对驱动方式的设置还能够达到低物理分辨率实现高显示分辨率的效果。

示例性的,如图1所示,奇数像素单元行和偶数像素单元行可以错位排布。

需要说明的是,相对于奇数像素单元行和偶数像素单元行未错位排列的方式,将奇数像素行和偶数像素行错位排列后,相邻像素单元行10中距离最近的同色子像素111之间的距离变大,用于形成该色子像素111的掩膜版对应的孔洞之间的距离变大,该掩膜版的制备难度降低,在制程极限尺寸的限制下,掩膜版能够形成更多的孔洞,对应制备更多的子像素111,进而使得显示面板分辨率提升。

图2是沿图1中虚线ab的一种剖面结构示意图。如图2所示,所述显示基板为彩膜基板,所述彩膜基板包括多个色阻单元211,每个所述子像素包括一个所述色阻单元211,同一所述像素单元行中,相邻所述像素单元的相邻所述子像素共用同一所述色阻单元211。

可以理解的是,对于颜色不同的子像素,其色阻单元211的颜色不同,图1和图2中用填充的阴影图案进行标识对应。示例性的,图2中的第一色阻单元1/211被图1中第二个像素单元行(虚线ab对应的像素单元行)中左起第三个子像素和第四个子像素共用。

需要说明的是,当显示基板为彩膜基板时,采用该显示基板形成的显示面板为液晶显示面板,具体的,参见图2,彩膜基板1包括第一衬底20、形成于衬底20上的黑矩阵30以及多个色阻单元211,黑矩阵30围绕色阻单元211设置。在本实施例中,相邻像素单元110的相邻子像素111共用同一色阻单元211的设置,使得在采用黄光工艺形成相邻像素单元110的相邻子像素111的色阻单元211时,相邻像素单元110的相邻子像素111的色阻单元211能够对应曝光掩膜版的同一孔洞,此时曝光掩膜版中最小垮桥尺寸不再是相邻子像素111之间的宽度,会变得更大,其制备工艺难度降低,进而降低了显示基板的制备难度,且在制程极限的限制下,曝光掩膜版可以形成更多的孔洞,对应的子像素111数量增加,进而达到提升显示面板分辨率的有益效果。

图3是沿图1中虚线cd的一种剖面结构示意图。如图3所示,所述显示基板为有机发光显示阵列基板,所述子像素111包括依次层叠的第一电极113、发光功能层114以及第二电极112,参见图1和图3,同一所述像素单元行10中,相邻所述像素单元110的相邻所述子像素111共用同一所述发光功能层114。

可以理解的是,对于颜色不同的子像素111,其发光功能层114的颜色不同,图1和图3中用填充的阴影图案进行标识对应。示例性的,图3中的第一发光功能层1/114被图1中第二个像素单元行(虚线cd对应的像素单元行)中左起第三个子像素和第四个子像素共用。

需要说明的是,当显示基板为有机发光显示阵列基板时,采用该显示基板形成的显示面板为有机发光显示面板,具体的,参见图3,有机发光显示基板包括第二衬底40,依次形成于第二衬底40上的像素驱动电路层50、第一电极层60、发光层70以及第二电极层80,其中发光层70的制备采用蒸镀工艺,且使用对应的蒸镀掩膜版来得到图形化的发光层70。在本实施例中,相邻像素单元110的相邻子像素111共用同一发光功能层114的设置,使得相邻像素单元110的相邻子像素111的发光功能层114能够采用对应蒸镀掩膜版的同一孔洞形成,蒸镀掩膜版中最小垮桥尺寸不再是相邻子像素111之间的宽度,会变得更大,其制备工艺难度降低,进而降低了显示基板的制备难度,且在制程极限的限制下,蒸镀掩膜版可以形成更多的孔洞,对应的子像素111数量增加,进而能够提升显示面板的分辨率。

可选的,显示基板还包括多个像素驱动电路,每一所述子像素111对应连接一所述像素驱动电路。

需要说明的是,多个像素驱动电路组成像素驱动电路层50,为简化附图结构,图3仅示意出了每个像素驱动电路中的一个薄膜晶体管51,可以理解的是,像素驱动电路实际上还包括其他元件。具体的,每个子像素111在对应像素驱动电路的驱动下发光,使得各个子像素111的发光是相互独立的,能够分别通过对应的像素驱动电路进行控制,进而实现显示面板中整个显示画面的显示。参见图3,在本实施例中,每个子像素111的阳极连接一个薄膜晶体管51,即每个子像素111对应连接一个像素驱动电路,也就是说相邻像素单元110的相邻子像素111连接的是不同的像素驱动电路,使得两者之间的发光是相互独立的。这样的设置达到了在简化显示基板中发光功能层114的制备工艺的前提下不降低显示面板分辨率的有益效果。

图4是沿图1中虚线cd的又一种剖面结构示意图。如图4所示,所述显示基板为有机发光显示阵列基板2,所述子像素111包括依次层叠的第一电极113、发光功能层114以及第二电极112,参见图1和图4,同一所述像素单元行10中,相邻所述像素单元110的相邻所述子像素111共用同一所述发光功能层114。进一步的,所述显示基板还包括多个像素驱动电路,同一所述像素单元行10中相邻所述像素单元110的相邻所述子像素111连接同一所述像素驱动电路,其余每一所述子像素111对应连接一所述像素驱动电路。

需要说明的是,图4中显示基板的结构与图3中显示基板结构相似,不同的是,图4中相邻像素单元110的相邻子像素111共用一个像素驱动电路,这种共用通过设置相邻像素单元110的相邻子像素111共用同一第一电极113,并将该第一电极113连接一个像素驱动电路来实现。示例性的,图4中共用第一电极1/113被图1中第二个像素单元行(虚线cd对应的像素单元行)中左起第三个子像素和第四个子像素共用,共用第一电极1/113与一个薄膜晶体管51连接。

还需要说明的是,图4中相邻像素单元110的相邻子像素111只能同时被驱动,此时可通过像素渲染的方式来提升显示面板的显示分辨率。具体的,参见图1和图4,像素渲染的方式可以为:1、提取待显示画面;2、将相邻像素单元110的相邻子像素111看作一个整体子像素,为便于描述,以下将该整体子像素叫做公共子像素;3、公共子像素与其左侧两个子像素111构成一个第一虚拟像素单元,与其右侧两个子像素111构成一个第二虚拟像素单元,其中,每个虚拟像素单元分别与待显示画面中的一个像素单元对应,虚线像素单元在显示面板中的位置与对应像素单元在待显示画面中的位置相同;3、采用公式l=l1*a+l2*b得到每个公共子像素的待显示灰阶,其中,l为一公共子像素的待显示灰阶,将第一虚拟像素单元对应的待显示画面中的像素单元记为像素单元a,第二虚拟像素单元对应的待显示画面中的像素单元记为像素单元b,l1为像素单元a中与公共子像素颜色相同的子像素111的灰阶,l2为像素单元b中与公共子像素颜色相同的子像素111的灰阶,a和b为比例系数,可由设计人员进行设计。在本实施例中,a=b=0.5,其中,第一虚拟像素单元和第二虚拟像素单元分别为包含该公共子像素的第一虚拟像素单元和包含该公共子像素的第二虚拟像素单元。本实施例将a和b均设置为0.5使得公共子像素的灰阶能够平分至相邻两个虚拟像素单元,易设计易理解。通过上述像素渲染能够使得显示面板低物理分辨率实现高的显示分辨率。

图5是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。如图5所示,显示面板100包括本发明任意实施例所述的显示基板1。

示例性的,如图5所示,当所述显示基板1为彩膜基板时,所述显示面板100还包括与所述彩膜基板相对设置的阵列基板2,所述子像素111还包括设置于所述阵列基板2内的像素电极21,同一所述像素单元行中,相邻所述像素单元110中相邻子像素111共用同一所述像素电极21。

需要说明的是,图5所示显示面板为液晶显示面板,该液晶显示面板包括相对设置的彩膜基板和阵列基板2,此时子像素111除了包括位于彩膜基板上的色阻单元211,还包括位于阵列基板2上的像素电极21,可以理解的是,基于液晶显示面板的结构可知,子像素111实际上还包括对应功能区域内的公共电极22和液晶层3。图5以同种阴影图案标识颜色相同的色阻单元211,以区分不同的颜色的子像素111,示例性的,图5中的第四子像素4/111和第五子像素5/111为同一像素单元行中相邻像素单元110相邻设置的同色子像素111,两者共用第一像素电极1/21。

根据液晶显示面板的驱动方式可知,通过在子像素111对应区域内的像素电极21以及公共电极22上施加电压形成电场,以使得该区域内的液晶发生偏转,进而实现对背光源发出的光的调节,并通过色阻单元211滤光实现子像素111的发光。上述设置中各个子像素111的发光是相互独立的,能够分别通过调节对应区域内的像素电极21与公共电极22上的电压进行驱动,进而实现显示面板中整个显示画面的显示。可以理解的是,由于在显示面板中,通常公共电极22的尺寸大于子像素111的尺寸,因此,能够通过调节对应区域内的像素电极21的电压对子像素111的发光进行驱动。在本实施例中,相邻像素单元110中相邻子像素111共用同一所述像素电极21,此时相邻像素单元110中相邻子像素111只能同时被驱动,可通过像素渲染的方式来提升显示面板的显示分辨率,像素渲染的具体方式如上所述,此处不再赘述。

可选的,图6是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图。如图6所示,当所述显示基板1为彩膜基板时,所述显示面板100还包括与所述彩膜基板相对设置的阵列基板2,所述子像素111还包括设置于所述阵列基板2内的像素电极21,同一所述像素单元行中,相邻所述像素单元110中相邻子像素111的所述像素电极21绝缘设置。

示例性的,图6中的第六子像素6/111和第七子像素7/111为同一像素单元行中相邻像素单元110相邻设置的同色子像素111,第六子像素6/111中的第二像素电极2/21与第七子像素7/111中的第三像素电极3/21绝缘设置。

需要说明的是,在本实施例中,相邻所述像素单元110中相邻子像素111的所述像素电极21绝缘设置,两者之间的发光是相互独立的,这样的设置使得在简化了显示基板中发光功能层114的制备工艺的前提下不降低显示面板的分辨率。

图7是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。如图7所示,显示装置200包括本发明任意实施例所述的显示面板100。

注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

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