一种石雕雕刻机的制作方法

本实用新型涉及石雕加工设备领域，特别是一种石雕雕刻机。

背景技术：

石雕是指用花岗岩、大理石等可雕刻的石头创造出具有一定空间的可视、可触的艺术形象，借以反映社会生活、表达艺术家的审美感受、审美情感、审美理想的艺术。目前采用的CNC石雕机在雕刻过程中，一般将冲洗石雕的废水进行循环利用，但是在循环利用的过程中，水中含有沙石较多，容易堵塞清洗喷枪，另外一方面刀具雕刻过程中极易发热发烫，使得刀具容易损坏。同时，现有CNC石雕机在石板材放入加工平台时需要用户先测定尺寸，然后再按设备要求将石板材放到准确的位置，不仅增加用户的工作量，而且还降低了工作效率。

技术实现要素：

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种即可降低加工刀具温度，又能使清洗喷枪不易堵塞，同时还能提高用户工作效率的石雕雕刻机。

一种石雕雕刻机，包括CNC石雕机床，CNC石雕机床上设有加工平台，加工平台的两侧设有Y轴导轨，Y轴导轨上架设有X轴横梁，X轴横梁上设有X轴导轨，X轴导轨上安装有加工刀具装置，加工刀具装置上设有清洗喷枪；所述加工平台设有Y轴橡胶定位条和X轴橡胶定位条，Y轴橡胶定位条和X轴橡胶定位条上均设有刻度；工作平台下方设有水循环系统，水循环系统包括导流槽，导流槽末端下方设有回收水箱，回收水箱又包括静置箱和回流箱，静置箱和回流箱通过过滤网层隔开；回流箱上方设有清洗喷枪导管和冷却导管，清洗喷枪导管与清洗喷枪连通，冷却导管连接有冷却水箱，冷却水箱内设有制冷装置；所述加工刀具装置上设有降温喷枪，降温喷枪与冷却水箱连通。

进一步的，所述CNC石雕机床上还设有红外预警装置，所述红外预警装置包括红外发射装置、红外接收装置以及报警装置。当红外线被用户阻挡，红外接收装置未能接收到红外线时，报警装置报警。

进一步的，所述制冷水箱设有温度监控装置。制冷水箱内的水要保持在一定低温条件下，但又能流动。

进一步的，所述冷却水箱设有一层聚氨酯保温层。

本实用新型提供的一种石雕雕刻机不仅可以使得清洗喷枪不易发生堵塞，而且还能有效降低加工刀具过热的问题，从而保护设备，延长其使用寿命。同时，本实用新型在生产加工过程中用户不比再单独通过尺子测量代加工石板材，而且在放置石板材过程中定位高效准确。不仅如此，通过设置红外预警装置可以起到一定的保护作用，避免用户因疏忽大意而受伤。

附图说明

图1为本实用新型一种石雕雕刻机的结构示意图；

图2为本实用新型一种石雕雕刻机的水循环系统结构示意图。

具体实施方式

为了更好的对本实用新型进行阐述，下面将结合附图作详细说明。

如图1-2所示，一种石雕雕刻机，包括CNC石雕机床1，CNC石雕机床1上设有加工平台10，加工平台10的两侧设有Y轴导轨11，Y轴导轨11上架设有X轴横梁12，X轴横梁12上设有X轴导轨13，X轴导轨13上安装有加工刀具装置14，加工刀具装置14上设有清洗喷枪15，这是现有CNC石雕机床1的常见结构。所述加工平台10设有Y轴橡胶定位条17和X轴橡胶定位条18，Y轴橡胶定位条17和X轴橡胶定位条18上均设有刻度。使用时，让石板材紧贴着Y轴定位条17往前推移顶住X轴橡胶定位条18，然后从Y轴橡胶定位条17和X轴橡胶定位条18分别读出石板材的长宽，以便用户设定参数进一步加工。这种放置位置，使得Y轴橡胶定位条17和X轴橡胶定位条18的交界处为零点，加工刀具装置14不用每次都要确定加工零点。工作平台下方设有水循环系统，水循环系统包括导流槽20，导流槽20末端下方设有回收水箱，回收水箱又包括静置箱21和回流箱23，静置箱21和回流箱23通过过滤网层22隔开；回流箱23上方设有清洗喷枪导管25和冷却导管24，清洗喷枪导管25与清洗喷枪15连通，冷却导管24连接有冷却水箱26，冷却水箱26内设有制冷装置27。所述加工刀具装置14上设有降温喷枪16，降温喷枪16与冷却水箱26连通。工作时，加工平台10上的水首先会流到导流槽20上，然后水顺着导流槽20流到静置箱21，水中掺杂的沙石会慢慢沉淀，清水在过滤网层22过滤之后进入回流箱23。清洗喷枪15直接采用回流箱23的水进行清洗石雕。同时，回流箱还有一部分的水通过冷却导管24流到冷却水箱26进行冷却，然后降温喷枪16将冷却水箱26内的水喷洒在加工刀具上，对其进行降温处理，从而保护刀具不易损坏。

具体的，CNC石雕机床1上还设有红外预警装置，所述红外预警装置包括红外发射装置30、红外接收装置31以及报警装置32。当红外线被用户阻挡，红外接收装置31未能接收到红外线时，报警装置32报警。这样可以避免用户在加工过程中过于靠近加工平台而造成受伤。所述制冷水箱26设有温度监控装置。制冷水箱26内的水要保持在一定低温条件下，但又能流动。冷却水箱26设有一层聚氨酯保温层，这样可以降低能耗。

上述具体实施方式不能认为是对本实用新型的进一步限定，本领域技术人员根据本实用新型内容作出的非实质性改变均应落入本实用新型保护范围内。