技术总结
一种转印膜结构包含一弹性薄膜基材层、一模板层、一第一遮光层、一第二遮光层、一填充层、一暗反应层、一第一图案层及一固定层。该模板层形成在该弹性薄膜基材层上，该第一遮光层形成在该弹性薄膜基材层上，该第二遮光层形成在该模板层上，该填充层形成在该第二遮光层上，该暗反应层形成在该填充层上，该第一图案层形成在该第一遮光层上，该固定层位在该暗反应层与该第一图案层上。本实用新型的转印膜结构于一物件表面所形成的立体转印图案上不会残留离型剂。本实用新型还公开一种立体转印品。
技术研发人员：吴卢汉柽;黄朝键
受保护的技术使用者：大勤化成股份有限公司
文档号码：201720916927
技术研发日：2017.07.26
技术公布日：2018.03.13