专利名称：组件、光刻装置和器件制造方法
技术领域：
本发明涉及一种包括了具有预定功能的第一元件的组件，其中该第一元件可相对于第二元件固定地定位住。例如，本发明还涉及一种光刻装置和器件制造方法，但并不限于这一方面。
背景技术：
光刻装置是可在衬底的目标部分上施加所需图案的机器。光刻装置例如可用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可采用图案形成装置如掩模来产生与IC的单个层相对应的电路图案，该图案可被成像到衬底(如硅晶片)上的具有一层辐射敏感材料(抗蚀剂)的目标部分(例如包括一个或多个管芯)上。通常来说，单个衬底包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。已知的光刻装置包括所谓的步进器，其中通过将整个图案一次性地曝光在目标部分上来照射各目标部分，还包括所谓的扫描器，其中通过沿给定方向(“扫描”方向)由投影光束来扫描图案并以平行于或反向平行于此方向的方向同步地扫描衬底来照射各目标部分。
本发明可应用于作为光刻装置的一个典型部分的投影光学组件中，但这仅为示例。已经知道有包括支撑框架的投影光学组件。传统上说，取决于特定的光刻装置，投影光学组件包括基准框架和多个安装在基准框架上的传感器框架。传感器框架是可以支撑各种部件的框架。通常来说，支撑框架以相对于第二元件形成间隙关系的方式来支撑第一元件。第一和第二元件需要以非常稳定的方式定位且固定。传统上说，为了将这些元件相互间定位，需要有隔块来提供接口界面。隔块设置在支撑框架中。待置于框架中的元件具有预定的功能，这便决定了它们如何被定位在支撑框架中。例如，用于检测一定方向上的位置的传感器元件必须以特定的方式相对于该方向来定位。传统上说，隔块设置成根据元件的特定功能来定位元件。目前，各位置传感器均设有6个隔块。在将反射镜模块安装于投影光学组件中之后得到精确的定位是通过采用附加隔块来实现的。各隔块的尺寸根据其所需的间隔程度来单独地确定，它可如元件的功能所控制的那样来起作用。然后单独地制造各个隔块，通常是将隔块材料(例如Zerodur材料)磨削至精密的尺寸。一般来说，需要几十个隔块来将元件在支撑框架上相互间固定地定位。
已经发现，在传统的投影光学组件中，使用隔块会带来一些问题。所需的隔块数目越多，问题越大。特别是，需要大量的隔块来安装可检测光学元件如反射镜的位置的检测元件。一个问题是，使用隔块的成本很高，特别是在确定尺寸、将隔块磨削至尺寸所需的人工以及将隔块安装到支撑框架上等方面。此外，大量的部件增加了所得投影光学组件的复杂性，这导致了与将元件相互间定位有关的长期稳定性方面的问题。
应当理解，上面讨论的是在特定应用中会产生的问题，然而本发明具有不同于传统组件的上述特定例子的应用。特别是，本发明具有可将一个元件相对于第二元件定位住的应用。
发明内容
本发明的目的是克服与传统组件如投影光学组件有关的问题。特别是，本发明的一个目的是为元件提供一种稳定的可调节的安装环境，其中所需的隔块数量较少。
根据本发明的一个方面，提供了一种光刻装置，其包括-用于提供辐射投影光束的照明系统；-用于支撑图案形成装置的支撑结构，该图案形成装置用于使投影光束的截面具有一定的图案；
-用于固定衬底的衬底台；和-用于将形成了图案的光束投影到衬底的目标部分上的投影光学组件，所述组件包括具有预定功能的第一元件，该第一元件将相对于第二元件固定地定位，其中所述这些元件以间隔开的关系设置在支撑框架上，其特征在于，所述支撑框架设有接口界面，其形成于所述支撑框架上或其中以容纳所述第一元件，所述接口界面确定了所述第一元件相对于所述第二元件的位置，并可按照所述预定功能来调节，使得所述第一元件可以至少三个自由度来相对于所述第二元件定位。
通过在所述支撑框架上或其中设置接口界面而不是设置隔块来形成接口界面，就使得这些隔块成为多余。因此便简化了投影光学组件的制造。特别是，设计和接口的复杂性得以降低。另外，由于不同部件的数量减少，因此各部件的制造公差可以放宽。特别是，节约了用于提供多余隔块的时间，这使得产品交付时间缩短。另外，由于使用了更少的部件和更少的接口界面，因此长期的位置稳定性得到了提高。
在一个优选实施例中，所述第一元件直接安装在所述接口界面上。通过将所述第一元件直接安装在所述接口界面上，就进一步提高了可制造性。
在一个优选实施例中，在所述接口界面和所述第一元件之间设有接口元件。通过在接口界面和第一元件之间设置接口元件，就可将能够稳定控制住的自由度的数量增加到四个。
在一个优选实施例中，所述接口元件设置在所述接口界面上。通过将所述接口元件设置在所述接口界面上，就可将能够稳定控制住的自由度的数量增加到六个。
在一个优选实施例中，所述接口元件可通过一个或多个连接元件而连接到所述接口界面上，这些连接元件可在至少一个所述自由度上限制所述接口元件的运动。通过提供连接元件，就可使这些元件相互间长期保持在稳定的位置。
根据本发明的另一方面，提供了一种装配用于光刻装置的投影光学组件的方法，包括-提供用于支撑第一元件和第二元件的支撑框架，其中所述第一元件具有预定的功能，并可在所述支撑框架上相对于所述第二元件以间隔开的关系固定地定位住，其特征在于，-在所述支撑框架中设置形成于所述支撑框架上或其中的用于容纳所述第一元件的接口界面，所述接口界面确定了所述第一元件相对于所述第二元件的位置，并可按照所述预定功能来调节，使得所述第一元件可以至少三个自由度来相对于所述第二元件定位。
根据本发明的另一方面，提供了一种器件制造方法，包括-提供衬底；-采用照明系统来提供辐射投影光束；-采用图案形成装置来使投影光束的截面形成一定的图案；和-采用上述投影光学组件来将形成了图案的辐射光束投影到衬底的目标部分上。
根据本发明的另一方面，提供了一种组件，其包括具有预定功能并可相对于第二元件固定地定位住的第一元件，其中所述这些元件以间隔开的关系设置在支撑框架上，其特征在于，所述支撑框架设有接口界面，其形成于所述支撑框架上或其中以容纳所述第一元件，所述接口界面确定了所述第一元件相对于所述第二元件的位置，并可按照所述预定功能来调节，使得所述第一元件可以至少三个自由度来相对于所述第二元件定位。通过在支撑框架上或其中设置接口界面而不是设置隔块来形成接口界面，就使得这些隔块成为多余。因此便简化了组件的制造。特别是，设计和接口的复杂性得以降低。另外，由于不同部件的数量减少，因此各部件的制造公差可以放宽。特别是，节约了用于提供多余隔块的时间，这使得产品交付时间缩短。另外，由于使用了更少的部件和更少的接口界面，因此长期的位置稳定性提高。
虽然在本文中将具体地参考IC制造中的光刻装置的使用，然而应当理解，这里所介绍的光刻装置还具有其它应用，例如集成光学系统、用于磁畴存储器的引导和检测图案、液晶显示器(LCD)、薄膜磁头等的制造。本领域的技术人员可以理解，在这种替代性应用的上下文中，用语“晶片”或“管芯”在这里的任何使用分别被视为与更通用的用语“衬底”或“目标区域”具有相同的含义。这里所指的衬底可在曝光前或曝光后例如在轨道(一种通常在衬底上施加抗蚀层并对暴露出来的抗蚀层进行显影的工具)或度量或检查工具中进行加工。在适当之处，本公开可应用于这些和其它衬底加工工具中。另外，衬底可被不止一次地加工，例如以形成多层IC，因此，这里所用的用语“衬底”也可指已经包含有多层已加工的层的衬底。
这里所用的用语“辐射”和“光束”用于包括所有类型的电磁辐射，包括紫外线(UV)辐射(例如波长为365，248，193，157或126毫微米)和远紫外线(EUV)辐射(例如具有5-20毫微米范围内的波长)，以及粒子束，例如离子束或电子束。
这里所用的用语“图案形成装置”应被广义地解释为可用于使投影光束的横截面具有一定的图案以便在衬底的目标部分中形成图案的装置。应当注意的是，施加于投影光束中的图案可以不精确地对应于衬底目标部分中的所需图案。一般来说，施加于投影光束中的图案将对应于待形成在目标部分内的器件如集成电路中的特定功能层。
图案形成装置可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的例子包括掩模、可编程的镜阵列和可编程的LCD面板。掩模在光刻领域中是众所周知的，其包括例如二元型、交变相移型和衰减相移型等掩模类型，还包括各种混合式掩模类型。可编程的镜阵列的一个例子采用微型镜的矩阵设置，各镜子可单独地倾斜以沿不同方向反射所入射的辐射光束；这样，反射光束就形成了图案。在图案形成装置的各例子中，支撑结构例如可为框架或台，其可根据要求为固定的或可动的，并可保证图案形成装置可例如相对于投影系统处于所需的位置。用语“分划板”或“掩模”在本文中的任何使用可被视为与更通用的用语“图案形成装置”具有相同的含义。
这里所用的用语“投影系统”应被广义地理解为包括各种类型的投影系统，包括折射光学系统、反射光学系统和反射折射光学系统，这例如应根据所用的曝光辐射或其它因素如使用浸液或使用真空来适当地确定。用语“透镜”在本文中的任何使用均应被视为与更通用的用语“投影系统”具有相同的含义。
照明系统也可包括用于对辐射投影光束进行引导、成形或控制的任何类型的光学元件，包括折射、反射和反射折射的光学元件，这些元件在下文中统称或单独地称为“透镜”。
光刻装置可以是具有两个(双级)或多个衬底台(和/或两个或多个掩模台)的那种类型。在这种“多级”式机器中，附加的台可以并联地使用，或者可在一个或多个台上进行预备步骤而将一个或多个其它的台用于曝光。
光刻装置也可以是这样的类型，其中衬底被浸入在具有较高折射率的液体如水中，从而填充了投影系统的最后元件和衬底之间的空间。浸液也可施加到光刻装置的其它空间内，例如掩模和投影系统的第一元件之间。浸没技术在本领域中是众所周知的，其用于增大投影系统的数值孔径。
下面将仅通过示例的方式并参考示意性附图来介绍本发明的实施例，在附图中对应的标号表示对应的部分，其中图1显示了根据本发明的一个实施例的光刻装置；图2a显示了根据本发明的三个实施例的投影光学组件的细节；图2b显示了图2a所示的实施例之一的细节；和图3a和3b分别显示了根据本发明另外两个实施例的接口元件。
具体实施例方式
图1示意性地显示了根据本发明的一个特定实施例的光刻装置。该装置包括-用于提供辐射(例如UV辐射或EUV辐射)的投影光束PB的照明系统(照明器)IL；-用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA的第一支撑结构(例如掩模台)MT，其与用于将图案形成装置相对于物体PL精确定位的第一定位装置PM相连；-用于固定衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W的衬底台(例如晶片台)WT，其与用于将衬底相对于物体PL精确定位的第二定位装置PW相连；和-用于在衬底W的目标部分C(例如包括一个或多个管芯)上对由图案形成装置MA施加给投影光束PB的图案进行成像的投影系统(例如反射型投影透镜)PL。
如这里所述，此装置为反射型(例如采用了反射掩模或上述一种可编程的镜阵列)。或者，此装置也可以是透射型(例如采用了透射掩模)。
照明器IL接收来自辐射源SO的辐射光束。辐射源和光刻装置可以是单独的实体，例如在辐射源为等离子释放源时。在这种情况下，辐射源不应被视为形成了光刻装置的一部分，辐射光束借助于辐射聚光器从源SO传递到照明器IL中，辐射聚光器例如包括适当的聚光镜和/或光谱纯度过滤器。在其它情况下，该源可以是装置的一个整体部分，例如在该源为水银灯时。源SO和照明器IL可称为辐射系统。
照明器IL可包括调节装置，用于调节光束的角强度分布。通常来说，至少可以调节照明器的光瞳面内的强度分布的外部和/或内部径向范围(通常分别称为σ-外部和σ-内部)。照明器提供了经调节的辐射光束，其称为投影光束PB，并在其横截面上具有所需的均匀性和强度分布。
投影光束PB入射在固定于掩模台MT上的掩模MA上。在穿过掩模MA后，投影光束PB通过透镜PL，透镜PL将光束聚焦在衬底W的目标部分C上。借助于第二定位装置PW和位置传感器IF2(例如干涉测量仪)，衬底台WT可精确地移动，以便例如将不同的目标部分C定位在光束PB的路径中。类似地，可用第一定位装置PM和位置传感器IF1来相对于光束PB的路径对掩模MA进行精确的定位，例如在将掩模MA从掩模库中机械式地重新取出之后或者在扫描过程中。通常来说，借助于形成为定位装置PM和PW的一部分的长行程模块(粗略定位)和短行程模块(精确定位)，可实现载物台MT和WT的运动。然而，在采用分档器的情况下(与扫描器相反)，掩模台MT可只与短行程致动器相连，或被固定住。掩模MA和衬底W可采用掩模对准标记M1，M2和衬底对准标记P1，P2来对准。
所述装置可用于下述优选模式中1.在步进模式中，掩模台MT和衬底台WT基本上保持静止，而施加到投影光束上的整个图案被一次性投影到目标部分C上(即单次静态曝光)。然后沿X和/或Y方向移动衬底台WT，使得不同的目标部分C被曝光。在步进模式中，曝光区域的最大尺寸限制了在单次静态曝光中所成像的目标部分C的大小。
2.在扫描模式中，掩模台MT和衬底台WT被同步地扫描，同时施加到投影光束上的图案被投影到目标部分C上(即单次动态曝光)。衬底台WT相对于掩模台MT的速度和方向由投影系统PL的放大(缩小)和图像倒转特性来确定。在扫描模式中，曝光区域的最大尺寸限制了单次动态曝光中的目标部分的宽度(非扫描方向上)，而扫描运动的长度决定了目标部分的高度(扫描方向上)。
3.在另一模式中，掩模台MT基本上保持固定并夹持了可编程的图案形成装置，而衬底台WT在施加到投影光束上的图案被投影到目标部分C上时产生运动或扫描。在这种模式中，通常采用脉冲辐射源，可编程的图案形成装置根据需要在衬底台WT的各次运动之后或在扫描期间的两次连续辐射脉冲之间进行更新。这种操作模式可容易地应用于采用了可编程的图案形成装置、例如上述类型的可编程的镜阵列的无掩模式光刻技术。
还可以采用上述使用模式的组合和/或变型，或者采用完全不同的使用模式。
图1所示例子中的光刻装置包括真空腔VC，其由真空泵VP来抽空。光束PB照射在掩模MA上，并之后照射在真空腔VC内的衬底W的目标部分上。所谓的“度量框架”MF提供了单独的基准框架，其与装置的主框架机械式隔离。度量框架例如可实现为由空气弹簧(未示出)所支撑的重台，空气弹簧提供了具有较小弹性系数的弹性支撑。度量框架MF支撑了灵敏元件如干涉仪IF和其它位置传感器，并使它们免受振动。投影光学组件PL通过弹性元件12和支撑元件11而支撑在度量框架MF上。
图2a显示了根据本发明的三个实施例的投影光学组件的细节。图2b显示了图2a所示的实施例之一的细节。
在下文中将参考在远紫外线波长范围内工作的光刻装置中所用的投影光学组件中的传感器元件来描述本发明，该传感器元件以稳定的方式相对于光学元件如反射镜定位。然而，本发明并不限于这一方面，它可以应用到一个元件需要相对于第二元件固定地安装的其它领域中。
投影光学组件通常包括六个反射镜，在图2a中显示了其中之一。在这六个反射镜中，有五个可在位置控制下由洛仑兹促动机构来调节。剩下的那个反射镜(图2a中未示出)通常仅能在装配期间调节一次。投影光学组件通常包括五个所谓的反射镜模块，其中包含了提供可完全功能调节的反射镜所需的所有元件，然而本发明并不限于这一方面。这五个反射镜模块安装在支撑框架6上。剩下的第六个反射镜也安装在该结构上。在下文中，用语“支撑框架6”包括了组件内的任何支撑框架，例如基准框架和包含于反射镜模块中的任何支撑框架。本发明可应用到这样的情况中，其中光学元件2可直接安装在支撑框架6中，或者直接安装在反射镜模块中的支撑框架6中或其上。
反射镜模块通常包括反射镜2、促动元件(未示出)如包括有反作用体和磁重力补偿器的洛仑兹促动单元、支撑框架6(其在本领域中也称为所谓的“传感器框架”)，以及位置传感器4。
支撑框架6支撑了位置传感器4，还支撑了促动单元的一部分以及重力补偿器。位置传感器4是非常精确的二维传感器。为了以六个自由度来精确地定位各个反射镜2，每个反射镜2设有三个这种位置传感器4。各位置传感器4设有与反射镜2相连的基准部分(未示出)。在所示实施例中，位置传感器4可检测反射镜2在两个方向上的位置。应当注意的是，本发明并不限于这种特定类型传感器的方面，并可应用具有各种功能的传感器，例如可检测比两个更多或更少一些的方向上的位置的传感器，以及应用其它的元件如促动元件。
对于其中传感器元件4将相对于第一元件2定位并固定在支撑框架6上的特定实施例而言，本发明提出了以可调节的方式将传感器4定位成相对于反射镜形成间隔开的关系。传感器4优选相对于支撑框架6固定住。希望该固定可实现为使得传感器的连接尽可能刚性，并且在固定后传感器4尽可能地稳定定位。
一般来说，一个元件相对于第二元件的定位涉及到六个自由度。第一和第二元件相互交界的位置形成了接口界面8。接口界面8允许涉及到两个元件相互间定位和定向的位移和旋转。常规上设计出一种包括有六个隔块的接口界面。如上所述，传统设计所带来的问题包括稳定性能较差、因元件数量和制造时间所导致的制造过程比较复杂，这使得制造成本很高。根据本发明，这些问题可通过在支撑框架6上或其中设置接口界面8来克服。
根据本发明的一个实施例，固定的简便性可通过提供螺栓来实现。
对于在进行了固定之后相对反射镜2来稳定地定位传感器4而言通常来说，对于第一元件4与第二元件2的交界以及位置稳定性而言，最好具有尽可能少的不同部件，并且在不同部件之间具有尽可能少的过渡。本发明在短期和长期方面提供了稳定的定位，同时使用了最少的隔块。
图2a显示了根据本发明的三个不同的实施例10，20，30。特别是，图2a显示了具有相关的可调自由度的三个可能的传感器元件安装结构。具有预定功能的第一元件4相对于第二元件2固定地定位，其中所述元件2，4在支撑框架6上以间隔开的关系布置，支撑框架6设有接口界面8，其形成于支撑框架6上或其中以容纳第一元件4，接口界面8决定了第一元件4相对于第二元件2的位置，并可根据预定的功能来调节，使得第一元件4可相对于第二元件2以至少三个自由度来定位。在所示的特定实施例中，传感器4设置成可测量反射镜2在两个方向16(如图2a和2b中的单头虚线箭头线16所示)上的位置。为了调节零脉冲，传感器4可在这两个测量方向上相对于反射镜2进行定位。该传感器调节方向由实心箭头线14来表示。另外，由于图2a和2b所示传感器的工作原理，围绕着正交于这两个测量方向16的轴线的旋转产生了莫阿干涉图样。为了克服这一效应，优选提供围绕着正交于这两个测量方向16的轴线的效果调节。
在第一备选结构10中，传感器4直接安装在所述接口界面8上，其中接口界面8直接形成于支撑框架6中。在根据这一结构10的一个实施例中，传感器4在使用中基本上垂直地安装在传感器支撑框架6的基本上垂直的接口界面8上，该接口界面8可由一个或多个平面或其它表面形成。这种表面可允许在上述三个自由度上进行调节，这三个自由度是两个测量方向16以及围绕着正交于这两个测量方向16的轴线的旋转方向16。这种调节不需要设置任何隔块。传感器4通过设置螺栓、尤其是细长的螺栓来固定在接口界面8上，因此在使用中，传感器4被拉紧在接口界面8上。已经发现，这种设置提供了非常稳定的传感器安装。与传统的传感器安装装置相比，这种装置尤其稳定。
在第二实施例20中安装了传感器4，因此在使用中，接口界面8与第一结构中一样垂直地设置。另外，在接口界面8和传感器4之间设有小片(platelet)21。小片的设置允许在四个自由度上进行调节，这是因为除了在上述第一结构中所提到的那些方向之外，小片还允许调节传感器和反射镜之间的距离。传感器4可与小片21一起也通过螺栓而固定在接口界面8上，小片21可包括隔块。小片21可由例如Zerodur或其它超低膨胀性(ULE)材料如殷钢、金属如铝或铁和陶瓷材料制成的元件来构成。小片21的材料优选具有与支撑框架6的材料相似的热膨胀系数。小片21的尺寸主要由在传感器4与反射镜2之间的距离方面所需的调节来决定。可以看到，可以实现通过面内位移和/或旋转来调节三个自由度。通过仅将接口元件的厚度磨削至所需值来实现第四个自由度。
在第三实施例30中，传感器4安装在接口界面8上，而接口界面8在使用中设置在水平方位。特别是，接口界面8包括两个相互间定向的表面。在图2a和2b所示的第三实施例中，接口界面8包括支撑框架6的上或下表面6a和接口元件31的表面。接口元件31可包括某一材料、优选是与支撑框架6相同的材料的块体。接口块体31在使用中被放在支撑框架6的表面上，优选是水平面上。第三备选结构30允许在五个自由度上相对于反射镜2来调节传感器4。将传感器4固定在接口块体31上是通过使用三个螺栓来实现的，这将在下文中参考图3a和3b来详细描述。对于需要在六个自由度上进行调节的情况而言，可以看到，根据第三备选结构所示的实施例，仅需要在接口块体31的一侧的一定角度上进行磨削。与第一实施例相同，第二和第三实施例均可提供比传统固定装置稳定得多的传感器安装。图2b显示了图2a所示实施例之一的细节。特别是，图2b用于进一步显示实施例30的细节。它尤其显示了通过传感器4的截面，其中接口元件31处于与图2a所示平面垂直的平面上。在图2a和2b中还显示了接口衬垫11，其将在下文中更详细地描述。可以看到，通过在两个接口界面(框架-接口元件和接口元件-传感器)中的位移和/或旋转，就可以实现五个自由度的调节。通过仅将接口元件的这两个接口界面之间的角度磨削至所需的值，便可实现第六个自由度。
图3a和3b显示了可分别结合到本发明的第二和第三实施例中的接口元件31。图3a和3b尤其显示了接口块体31和连接元件34，连接元件通常由螺栓构成，这些螺栓设置成可将接口块体31的第一传感器侧32与传感器4相连，以及将接口块体31的第二传感器侧33与支撑框架6相连。在所示实施例中设置了六个螺栓。在这些螺栓中，三个螺栓34a设置用于在第一接口界面32处将接口元件31连接到传感器4上，而另外三个螺栓34b设置用于在第二接口界面33处将接口元件31连接到支撑框架6上。螺栓通过将接口元件31分别拉紧到接口界面32和33上来起作用。接口元件31的材料最好选择成可使其热膨胀与支撑框架6的热膨胀相同或近似。例如，它可用与针对支撑框架6的小片21所介绍的上述材料相似的材料来制造。如上所述，与传统装置相比，如图2、3a和3b中所示的第三实施例也非常稳定。
可以理解，取决于具体的应用情况，图2所示的备选结构10，20和30可以相互间互换的形式来使用。
在上文中，已经针对传感器相对于反射镜的安装来描述了具体的例子。然而，本发明并不限于这一方面。通常来说，本发明可应用于任何元件需要相对于第二元件进行调节且之后固定住的情形。例如，光刻装置中的另一应用是相对于反射镜来调节和安装促动单元。在这种情况下，促动单元优选根据第一或第二实施例10，20来安装，但改进之处是，在使用中并不采用支撑框架6的垂直接口界面，而是采用支撑框架6的水平接口界面作为接口平面。在第二结构中，一个隔块就可提供高度调节，其插入到促动单元的底侧和接口平面之间。如果不需要任何高度调节，那么可选择第一实施例10并且不需要使用隔块。可以理解，根据待安装元件的特定功能，例如广义上的单元的功能如检测、促动等，以及具体意义上的单元的功能如检测方向或促动发生的方向等，可以调整安装装置。本发明旨在覆盖所有这些备选装置。可以理解，第一元件的功能决定了具体的设置。
在图2a和2b所示的备选实施例中，固定可通过使用如图3a和3b所示的螺栓来实现，其将传感器夹紧在其接口界面8上。虽然图3a和3b显示了如备选实施例30所示的传感器的夹紧，然而使用将传感器夹紧在接口界面上的螺栓也可以容易地应用到实施例10，20中。在图3a和3b中使用了两组三个细长螺栓34。第一组螺栓34a将接口元件31夹紧在传感器上。第二组螺栓34b将接口元件31夹紧在支撑框架6上。另外，还显示了可以选择性地设置的接口衬垫11。在使用了接口衬垫11时，螺栓34穿过接口衬垫11的中央。在该特定实施例中，接口衬垫11提供了接口界面。如上所述，螺栓也可用作不需要接口元件的那些实施例10中的连接元件11。
如上所述，本发明涉及将元件如传感器或促动元件安装在接口界面上。固定可通过多种方式如胶结或直接晶体键合来完成。在一种选择中可以提供连接元件，例如夹紧元件如螺栓。如上所述，夹紧可通过使用穿过了形成于相关元件的接口区域中的通孔的细长螺栓来实现。已经发现，该特定装置提供了非常刚性且稳定的定位。此外，施加夹紧力的方式非常便宜、直接、稳定且刚性。然而，本发明并不限于这一方面，也可以使用其它连接或夹紧元件。例如可使用弹簧结构。已经发现，与所用的特定连接元件无关，连接元件可设计成通过相关元件和接口界面来施加夹紧力。连接元件优选设计成考虑了因使用所导致的任何内部变形的问题。例如已经发现，螺栓不会导致任何明显的内部变形。夹紧力优选随时间变化为恒定的量，与任何温度的变化无关。
如上所述，本发明提供了这样一些优点，例如更加简单且稳定，部件数量少得多，接口更少，制造公差可以放宽，提高了动态性能，改善了可制造性和可测试性。另外，本发明还提高了长期的稳定性。虽然这些优点中的一些优点部分地通过由例如Zerodur、其它超低膨胀性(ULE)材料、金属材料如殷钢、铝或其它陶瓷材料制成的支撑框架来实现，然而已经发现，材料的选择、结构或环境的具体特点都不会显著地影响本发明的性能。上述优点源于下一事实，即接口是通过刚性且牢固的方式来实现的。通过不设置或最多设置一个额外的接口元件即可实现这一点。接口界面成形为使得元件可在其各自表面上相互间精确地定位。元件例如可通过使用螺栓而夹紧到一起。
虽然已经在上文中描述了本发明的特定实施例，然而可以理解，本发明可通过不同于上述的方式来实施。这些描述并不限制本发明。
权利要求
1.一种光刻装置，其包括-用于提供辐射投影光束的照明系统；-用于支撑图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置用于使所述投影光束的截面具有一定的图案；-用于固定衬底的衬底台；和-用于将形成为图案的光束投影到所述衬底的目标部分上的投影光学组件，所述组件包括具有预定功能的第一元件，所述第一元件将相对于第二元件固定地定位住，其中所述这些元件以间隔开的关系设置在支撑框架上，其特征在于，所述支撑框架设有接口界面，其形成于所述支撑框架上或其中以容纳所述第一元件，所述接口界面确定了所述第一元件相对于所述第二元件的位置，并可按照所述预定功能来调节，使得所述第一元件可以至少三个自由度来相对于所述第二元件定位。
2.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述第一元件直接安装在所述接口界面上。
3.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述投影光学组件还包括设于所述接口界面和所述第一元件之间的接口元件。
4.根据权利要求3所述的光刻装置，其特征在于，所述接口元件包括小片。
5.根据权利要求3所述的光刻装置，其特征在于，所述接口元件设置在所述接口界面上。
6.根据权利要求3到5中任一项所述的光刻装置，其特征在于，所述接口元件通过一个或多个连接元件而连接到所述接口界面上，所述连接元件可在至少一个所述自由度上限制所述接口元件的运动。
7.根据权利要求6所述的光刻装置，其特征在于，所述接口元件包括基本上块状的部件，所述连接元件包括多个杆件，其中所述杆件设置成穿过所述块状件，并在多个方向上与所述接口界面相连，使得可以在所述多个自由度上限制所述块状件的运动。
8.根据上述权利要求中任一项所述的光刻装置，其特征在于，所述第一元件是传感器单元，其可检测所述第二元件相对于设于所述支撑框架上或其中的基准表面的位置和/或方位，所述接口界面设置在所述预定的位置处，所述预定位置相对于所述基准表面而预定下来。
9.一种装配用于光刻装置的投影光学组件的方法，包括-提供用于支撑第一元件和第二元件的支撑框架，其中所述第一元件具有预定的功能，并可在所述支撑框架上相对于所述第二元件以间隔开的关系固定地定位住，其特征在于，-在所述支撑框架中设置形成于所述支撑框架上或其中且能够容纳所述第一元件的接口界面，所述接口界面确定了所述第一元件相对于所述第二元件的位置，并可按照所述预定功能来调节，使得所述第一元件可以至少三个自由度来相对于所述第二元件定位。
10.一种器件制造方法，包括-提供衬底；-采用照明系统来提供辐射投影光束；-采用图案形成装置来使所述投影光束的截面形成一定的图案；和-采用根据上述权利要求1到8中任一项所述的投影光学组件来将形成了图案的辐射光束投影到衬底的目标部分上。
11.一种组件，其包括具有预定功能并可相对于第二元件固定地定位住的第一元件，其中所述这些元件以间隔开的关系设置在支撑框架上，其特征在于，所述支撑框架设有接口界面，其形成于所述支撑框架上或其中以容纳所述第一元件，所述接口界面确定了所述第一元件相对于所述第二元件的位置，并可按照所述预定功能来调节，使得所述第一元件可以至少三个自由度来相对于所述第二元件定位。
全文摘要
一种包括用于将形成了图案的光束投影到衬底的目标部分上的投影光学组件(PL)的光刻装置。投影光学组件包括具有预定功能的第一元件(4)，其相对于第二元件(2)固定地定位，其中元件(4，2)以间隔开的关系设置在支撑框架(6)上，支撑框架(6)设有形成于所述框架(6)上或其中的用于容纳第一元件(4)的接口界面(8)，接口界面(8)确定了第一元件(4)相对于第二元件(2)的位置，并且可根据该预定功能来调节，使得第一元件(4)可相对于第二元件(2)在至少三个自由度上定位。
文档编号G03F7/20GK1609714SQ200410087740
公开日2005年4月27日 申请日期2004年10月20日 优先权日2003年10月21日
发明者D·J·P·A·弗兰肯 申请人:Asml荷兰有限公司