专利名称：薄膜的清除方法及其设备的制作方法
技术领域：
本发明是关于一种薄膜的清除方法及其设备，特别是关于一种在大气状态下使用电浆清除薄膜的方法及设备。
背景技术：
传统液晶面板(TFT-LCD)的工序必须在干式及湿式之间反复切换，为了加快工序，目前面板厂都尽量将TFT-LCD的各工序在干式环境中进行，但是光阻的去除仍必须将面板浸泡于去光阻液中。
以浸泡方式去除光阻后，必须将面板加以风干，这样造成工序成本的增加以及工序上的延误，为适应大尺寸面板的需求，上述缺点将随着面板尺寸的增大影响更严重。为了加快面板工序，某些厂商开始利用电浆清除光阻，电浆清除属于干式工序，因此可使面板的整体工序都在干式环境下完成，就提高产量而言，原本以浸泡方式去除光阻的工序一小时可生产75片面板，改用电浆清除光阻后，产能可提高至一小时生产100～120片面板。
然而，电浆去除光阻的过程必须在真空环境下进行，且必须持续导入气体并添加催化剂产生电浆，如此一来，在提高产能的同时也提高了工序成本。
为了降低产生电浆的成本，Dainippon Screen Mfg公司发展出一种在大气下产生电浆进行表面清除的技术，请参阅图1A，电极板1a、1b之间形成电场偏压并在其中引导反应气体A产生电浆，基材10可通过两个电极板之间进行表面清除。基材10可以是要染色的布料或要进行表面接着的材料，基材10也可以是液晶面板，通过电浆的作用清除表面的光阻。
然而，将液晶面板直接通过电场后，经常发现面板上的电子元件遭受电场破坏，因此，Dainippon Screen Mfg公司又针对利用大气电浆进行表面清除方式作了以下改良，请参阅图1B，与图1A的不同之处在于，基材10并非直接通过电极板1a、1b之间，它是使电极板1a、1b垂直于该基材10，并引导电浆垂直射向基材10，通过移动基材10使其完整地与电浆作用。然后可将产生电浆的相关装置模块化，成为一电浆喷嘴设备。
当基材10为表面具有光阻的液晶面板时，垂直射向面板的电浆可将大部份光阻去除，然而部份光阻未能与电浆反应完全，形成微粒状副产物，此副产物会四散飞射，最后因重力原因散布于面板表面，如此一来，将影响面板的优良率。
为了解决电浆反应副产物的问题，有人提出将面板设在电浆产生器上方，将电浆垂直向上射向面板，利用重力使飞射的副产物自然掉落。但是，液晶面板的表面虽然看似平整，但却具有许多微结构，正向射到面板表面的电浆，可轻易地将微结构正面的光阻去除，然而微结构侧向上光阻就难以完全清除。另外，因大尺寸面板的需求与日俱增，在工序中将大尺寸面板翻转会极为不便，必须设计特殊的悬挂机以固定面板，从而使成本增加，且大型面板会因悬空易形成弯曲。美国专利案第6659110号揭示一种将基片设在滚轮上解决电浆反应副产物的方法也有上述缺点。
因此，如何改善上述缺点，已成为业界亟待解决的问题。
发明内容
为克服上述现有技术的缺点，本发明的主要目的在于提供一种可清除电浆反应副产物的薄膜的清除方法及其设备。
本发明的又一目的在于提供一种薄膜的清除方法及其设备，提高液晶面板的优良率。
本发明的次一目的在于提供一种薄膜的清除方法及其设备，节省液晶面板的制造成本。
本发明的另一目的在于提供一种薄膜的清除方法及其设备，可完整清除液晶面板表面的光阻。
为实现上述及其它目的，本发明提供一种薄膜的清除方法，用于清除一基片上的薄膜，该薄膜的清除方法包括在该基片上方设置一电浆产生器以及一抽气装置；以及调整该电浆产生器，使其喷射出的电浆束斜射于该薄膜上，该抽气装置设在对应该电浆束的反射路径上，吸除该薄膜经电浆反应后，未反应完全而产生的副产物，保持该基片表面的清洁。
为实现上述及其它目的，本发明还揭示一种薄膜的清除设备，清除一基片表面上的薄膜，该薄膜的设备清除包括电浆产生器，将电浆斜射到该薄膜，从该基片上清除薄膜；以及抽气装置，位于该电浆产生器射出电浆所对应的反射路径上，吸取该薄膜经电浆反应后，未反应完全而产生的副产物，保持该基片表面的清洁。
该基片是液晶面板，该薄膜是光阻，为使电浆产生器完整地清除液晶面板上的光阻，可使该电浆产生器以及抽气装置对称于一旋转轴旋转，且平行移动于该基片，具体而言，可提供一壳体包覆该电浆产生器以及抽气装置一体旋转。
现有技术是将电浆正向射于基片上，造成电浆反应副产物沉积于基片上，本发明的薄膜的清除方法及其设备，将电浆斜射于薄膜，在电浆对应的反射路径上吸除副产物，清除绝大多数电浆反应的副产物。
将电浆正向射于基片上的技术，也造成液晶面板表面微结构侧向的光阻不易清除，本发明的薄膜的清除方法及其设备是将电浆斜射到基片，可清除液晶面板表面微结构侧向的光阻。
再者，现有技术中虽然有将电浆向上喷射，清除液晶面板上的光阻，使反应副产物自然掉落的方法，但工序中将液晶面板倒转会增加成本，本发明的清除薄膜的方法及其设备，可使液晶面板在生产线上保持同一方向运行，可节省制造成本。
由上可知，本发明的薄膜的清除方法及其设备，可清除电浆反应的副产物，提高液晶面板的优良率，并可节省制造成本，因此具有高度产业利用价值。
图1A及图1B是现有使用大气电浆作表面清除的示意图；图2A至图2C是本发明的薄膜的清除方法的示意图；图3是本发明的薄膜的清除设备的示意图；以及图4是本发明的薄膜的清除设备的另一示意图。
具体实施例方式
实施例图2A至图2C是本发明的薄膜的清除方法。
如图2A所示，本发明的薄膜的清除方法，用于清除一基片3上的薄膜30，其中，该基片3可以是一液晶面板，该薄膜30可以是液晶面板表面上的光阻。
如图2B所示，首先，在该基片3的上方提供一电浆产生器21以及一抽气装置22，该电浆产生器21应用的气体可以是干燥的清洁空气(Clean dry air)或氮气(N2)，并在一般大气环境下生成电浆。
接着，调整该电浆产生器21，使其喷射出的电浆束210斜射到该薄膜30上，该抽气装置22设在对应该电浆束210的反射路径上，该薄膜30经电浆束210反应后，未反应完全产生的副产物30’，可由该抽气装置22吸除，保持该基片3表面清洁。
为使电浆产生器21完全清除液晶面板上的光阻，可使该电浆产生器21以及抽气装置22对称于一旋转轴旋转，且平行移动于该基片3，具体而言，可提供一壳体20包覆该电浆产生器21以及抽气装置22，由马达带动使其可一体旋转。
由于基片3是液晶面板，因此具有许多微结构31，光阻(薄膜30)敷设在该微结构31的正向及侧向，本发明的薄膜的清除方法，将电浆束210斜射到基片3，因此可完全清除微结构31正向及侧向上的光阻。
如图2C所示，本发明的薄膜的清除方法还提供一反应传感器23，它设在该电浆产生器21及抽气装置22之间，感测是否将薄膜30清除干净，感测方式是检测副产物30’是否继续生成或检测基片3的材料，当在一区域检测出无副产物30’产生或检测出基片3的材料时，表示该区域的光阻已反应完毕，且电浆反应的副产物30’也已清除，因此感测信号回馈后，可将电浆产生器21及抽气装置22移往别处清除光阻。
请参阅图3，本发明也揭示一薄膜的清除设备2，应用在清除一基片3上的薄膜30，该薄膜的清除设备至少包括电浆产生器21，可将电浆束210斜射到该薄膜30，从该基片3上清除薄膜30；抽气装置22，位于该电浆产生器21所射出电浆束210对应的反射路径上，吸取电浆反应后，薄膜30未反应而生成的副产物30’，保持该基片3的表面清洁。另外，该薄膜的清除设备还包括一反应传感器23，设在电浆产生器21及抽气装置22之间，感测是否将薄膜30清除干净。
请参阅图4，电浆产生器21末端也可设有多条角度不同的喷射道211，可喷射出不同角度的电浆束210，该抽气装置22也可配合电浆束210射出角度的不同调整倾斜角度，且该抽气装置22末端可设计为广口式，尽量吸除所有副产物30’。
现有技术是将电浆正向喷射到基片上，造成电浆反应副产物沉积在基片上，与现有技术相比，本发明的薄膜的清除方法及其设备，将电浆斜射到薄膜，在电浆对应的反射路径上吸除副产物，可清除绝大多数电浆反应的副产物。
现有将电浆正向喷射到基片上的技术，造成液晶面板表面微结构侧向的光阻不易清除，本发明的薄膜的清除方法及其设备是将电浆斜射到基片，可清除液晶面板表面微结构侧向的光阻。
再者，现有技术中虽然有将电浆向上喷射，清除液晶面板上的光阻，使反应副产物自然掉落的方法，但工序中将液晶面板倒转会成本增加，本发明的薄膜的清除方法及其设备，可使液晶面板在生产线上保持同一方向运行，节省了制造成本。
由上可知，本发明的薄膜的清除方法及其设备，可清除电浆反应的副产物，提高液晶面板的优良率，并可节省制造成本，因此具有高度产业利用价值。
权利要求
1.一种薄膜的清除方法，清除一基片上的薄膜，其特征在于，该薄膜的清除方法包括在该基片上方设置一电浆产生器以及一抽气装置；以及调整该电浆产生器，使其射出的电浆束斜射在该薄膜上，该抽气装置设在对应该电浆束的反射路径上，吸除该薄膜经电浆反应后，未反应完全而产生的副产物，保持该基片表面的清洁。
2.如权利要求1所述的薄膜的清除方法，其特征在于，该薄膜的清除方法还包括使该电浆产生器以及抽气装置对称于一旋转轴旋转，且平行移动于该基片。
3.如权利要求1所述的薄膜的清除方法，其特征在于，该基片是液晶面板，该薄膜是光阻。
4.如权利要求1所述的薄膜的清除方法，其特征在于，该电浆产生器及抽气装置之间设有一反应传感器，判断是否将薄膜清除干净。
5.如权利要求4所述的薄膜的清除方法，其特征在于，该反应传感器用于感测该副产物，当无副产物时表示反应过程完成。
6.如权利要求4所述的薄膜的清除方法，其特征在于，该反应传感器用于感测基片的材料，当感测到基片材料时表示反应过程已完成。
7.一种薄膜的清除设备，清除一基片上的薄膜，其特征在于，该清除薄膜的设备包括电浆产生器，将电浆斜射到该薄膜，清除该基片上的薄膜；以及抽气装置，位于该电浆产生器射出电浆所对应的反射路径上，吸取该薄膜经电浆反应后，未反应完全产生的副产物，保持该基片表面的清洁。
8.如权利要求7所述的薄膜的清除设备，其特征在于，该电浆产生器以及抽气装置对称于一旋转轴旋转。
9.如权利要求7或8所述的薄膜的清除设备，其特征在于，该电浆产生器以及抽气装置由一壳体包覆。
10.如权利要求9所述的薄膜的清除设备，其特征在于，该壳体由一马达带动，使该电浆产生器及抽气装置一体旋转。
11.如权利要求7所述的薄膜的清除设备，其特征在于，该基片是液晶面板，该薄膜是光阻。
12.如权利要求7所述的薄膜的清除设备，其特征在于，该电浆产生器及抽气装置之间设有一反应传感器。
13.如权利要求12所述的薄膜的清除设备，其特征在于，该反应传感器是感测电浆反应副产物的传感器。
14.如权利要求12所述的薄膜的清除设备，其特征在于，该反应传感器是感测基片特性的传感器。
15.如权利要求7所述的薄膜的清除设备，其特征在于，该电浆产生器的末端设有多条喷射道，可以射出不同角度的电浆。
16.如权利要求15所述的薄膜的清除设备，其特征在于，该抽气装置可对应不同喷射道射出的电浆而调整倾斜角度。
17.如权利要求7所述的薄膜的清除设备，其特征在于，该抽气装置的末端呈广口状。
18.如权利要求7所述的薄膜的清除设备，其特征在于，该电浆产生器及该抽气装置平行移动于该基片。
全文摘要
本发明公开一种薄膜的清除方法及其设备，该薄膜的清除方法及其设备清除一基板上的薄膜，首先在该基片上方设置一电浆产生器以及一抽气装置，接着该电浆产生器将电浆束斜射到该薄膜上，该抽气装置位于该电浆产生器射出电浆对应的反射路径上，吸取薄膜经电浆反应后，未反应完全产生的副产物，保持该基片表面的清洁，改善大气状态下使用电浆进行表面清除会产生副产物沉积的缺点。本发明薄膜的清除方法及其设备清除电浆反应的副产物、提高了液晶面板的优良率、节省液晶面板的制造成本，可完整清除液晶面板表面的光阻。
文档编号G03F7/42GK101078891SQ200610080908
公开日2007年11月28日 申请日期2006年5月22日 优先权日2006年5月22日
发明者张加强, 吴清吉, 蔡陈德, 林春宏 申请人:财团法人工业技术研究院