正和/或负c片的薄膜设计的制作方法

文档序号:2729699阅读:356来源:国知局
专利名称:正和/或负c片的薄膜设计的制作方法
技术领域
近期,业界对在光学元件中采用薄膜来实现双折射的兴趣越来越高。双折射的 特征是有多种不同的折射率,它会使具有正交线性偏振的光(如s和p偏振光)以不同 的速度穿过介质。不同的速度会导致两个正交偏振之间出现相位差。该相差通常称为 "延迟",可以用占波长的比率来表示,单位为度或纳米。通常,延迟的幅度将决定双 折射元件的应用情况。例如,提供约1/2波长延迟的光学元件(即半波片)通常被用来 改变线性偏振光的偏振状态。提供约1/4波长延迟的光学元件(即四分之一波片)通常 被用来将线性偏振光转换为圆偏振光,或用在改变线性偏振光偏振状态的反射中,和/ 或其他各种应用,如光盘信息读取。提供更小幅度延迟(如低于1/10波长)的光学元 件通常用于补偿偏振4f文感的光学系统(如LCD投射系统中)的缺陷。
—般而言,双折射光学元件被视为具有A片、C片或O片对称性。A片是非常 轴取向与片平面平行的单轴双折射光学元件。C片是非常轴取向与片平面垂直(即平 行于法向入射光的方向)的单轴双折射光学元件。O片则是非常轴(即其光轴或c 轴)取向与片平面成斜角的单轴双折射光学元件。需要指出的是,C片对法向入射的 光线不能实现任何净延迟(即法向入射光不受双折射影响)。与之相对,离轴入射 (即与非常轴成某一角度)的光将出现与入射角成比例的净延迟。若延迟随入射角增 大而增大,则C片被视为正片,若延迟随入射角增大而减小,则C片被视为负片。在 本文中所提之处,迟滞(retardance)与延迟(retardation)可互换使用,其中涵盖两个 正交线性偏振元件之间的有符号相位差。正C片需要正的双折射,类似地,负C片需 要负的双折射。 光学元件中的双折射传统上由分子双折射晶体实现,是通过拉伸或弯曲各向同 性材料,直至其各向同性消失,以及/或者施加电场以产生各向异性。如上所述,业界 对在光学元件中采用薄膜实现双折射的兴趣也越来越高。采用薄膜的优越性在于它提 供了经济的替代方案,规避了与有机和/或聚合材料相关的可靠性问题,并增加针对特 定应用进行定制的设计灵活性。例如,尽管与有机和/或聚合材料等效产品相比,双折 射晶体具有高度的耐用性和/或稳定性,但生成和打磨大型晶体薄片的成本却可能很 高。此外,由于加工物理厚度小于约100 pm的双折射晶体较为困难,所以这些自然双 折射元件通常不适于补偿应用。例如,具有厚度至少100 pm、双折射率为0.009的单 石英片的C片的延迟值在可视区内被限制为卯0nm的最小值。
108使用薄膜实现双折射的成功尝试已经在7,170,574号美国专利和20070070276号 美国专利申请中进行过报道,在此通过参考将两者合并入本申请中。在这些参考文献 中,薄膜涂层被用来加工旨在补偿LCD面板固有双折射的调整延迟器。更具体地讲, 薄膜涂层用于生成形式双折射(form - birefringent)薄膜叠层,其中单个层的光学厚度 远小于入射光的波长。耐用性很高、充当-C片的形式双折射(FB)叠层可以被方便地 集成到AR涂层设计(FBAR)中,以实现全功能的A/-C片调整延迟器。然而由于层 厚限制,FBAR只能用作负C片。

发明内容
图3示出了对称叠层(0.5LH0.5L)和(0.5LH0.5L)s在15°处的s平面与p平面之 间的等效相位厚度差,两者均在折射率为1.52的基片上以空气中的1000 nm为中心 (各层以法向入射匹配); 图4示出了相对于与图3所示的等效相位厚度差,1000 (0.5LH0.5L)s叠层在15° 处的透射延迟; [19j 图5示出了 1000(0.5LH0.5L)s叠层15。处的透射延迟,对照图线为非对称叠层 1000(1.16H 0.8L)15°处的透射延迟以及三种材料对称叠层1000(0.4L 0.4M 0.4H 0.4M 0.4L)5的15。处的透射延迟; 图6A所示为对称叠层1000(0.5L H 0.5L"在1500 nm波长下透射延迟与入射角 的关系,并显示薄膜叠层在此波长下充当-1680nm的负C片;
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图6B所示为对称叠层1000(0.5L H 0.5L)s在650 nm波长下透射延迟与入射角的 关系,并显示薄膜叠层在此波长下充当+396 nm的正C片;
221 图6C所示为对称叠层1000(0.5L H 0.5L)s在450 nm波长下透射延迟与入射角的 关系,并显示薄膜叠层在此波长下充当-82nm的负C片;图6D所示为对称叠层1000(0.5LH0.5L)s在310 nm波长下透射延迟与入射角的 关系,并显示薄膜叠层在此波长下充当1121nm的正C片; [24]图7所示为相对于单层C片延迟器的薄膜叠层等效件; 图8所示为依据本发明一种实施方式给出的薄膜涂层配以另一种延迟元件,实 现离轴延迟曲线形状; 图IO所示为依据本发明的一种实施方式给出的正C片薄膜涂层的层结构,其中 在薄膜叠层与基片之间包含两个防反射层;
281 图ll给出图IO中所示正C片AR涂层的延迟与参照图9所讨论的70nmA片延 迟器的延迟之间的比较;

图12所示为外部熔融石英玻璃表面上覆有正C片AR涂层的波片的70 nm A片 慢轴在不同方位指向下的理论延迟与入射角的关系,并示出了在入射f/1.43光束由3.5 nm左右减至1 nm以下的总延迟变化;需要指出的是,在所有附图中,同一数字表示相同的部件。
具体实施例方式
351如上所述,在防反射涂层和/或干涉滤光片中经常采用薄膜(如薄膜干涉滤光 片)。在各种情形下,薄膜涂层通常都包含至少这样一层其所选定的折射率w和物 理厚度d使该层的光学厚度(w倍WcO等于入射光波长的1/4。这些1/4波长(QW) 层利用干涉原理实现所需的光学效应。 例如,参见图1中的现有技术,折射率为m的薄膜层IO涂覆在折射率为n2的 基片20上。在m小于n2,且n!和薄膜层厚度d!的选取使其光学厚度等于入射光波长 X的1/4的条件下,在空气/薄膜和薄膜/基片界面所反射的光将正好为180°反相。此 180。的相位差将导致相消干涉,大大减小波长为X的光的反射量。
1371相应地,最简单的防反射涂层由直接沉积在基片上的单个1/4波长透明介电材料 层组成。更具体而言,此透明介电材料层的折射率要小于基片的折射率,这样其物理 厚度可使光学厚度约等于光谱区中心波长的一个1/4,从而减少所述光谱区的反射率。38更为复杂的防反射涂层是在基片上沉积两层或更多层透明电介材料。例如,根 据一类防反射涂层的构造,在基片上沉积折射率大于基片折射率的第一层,使其光学 厚度约为中心波长的1/4,而在第一层上沉积折射率小于基片折射率的第二层,使其光 学厚度也约为中心波长的1/4。此类防反射涂层经常被称为V涂层设计,因为它通常可 在中心波长处实现零反射,而在中心波长的两侧反射会急剧增大。 [39
更适宜宽带应用的多层防反射涂层通常至少有三个电介层,其中高、低折射率 材料交替堆叠在一起的。例如, 一种特别常用的宽带防反射涂层共有四层沉积在基 片上的第一层由高折射率材料制成,其光学厚度约为中心波长的1/8;沉积在第一层上 的第二层由低折射率材料制成,其光学厚度约为中心波长的1/8;沉积在第二层上的第 三层由高折射率材料制成,其光学厚度为中心波长的1/2;沉积在第三层上的第四层由 低折射率材料制成,其光学厚度为中心波长的1/4。对第一和第二层的光学厚度进行选 择以使二者的组合光学厚度约光谱区中心波长的1/4,从而减少所述光镨区的反射率。[401 干涉滤光片通常分类为带通滤光片、短波通(SWP )滤光片、长波通(LWP ) 滤光片或陷波滤光片。最简单的带通滤光片(设计用以允许给定波长带的光通过,而 反射掉其他所有波长)仅有两个部分反射片或半反射镜,其间由垫片隔开(即类似于 标准具)。在全电介滤光片中,部分反射片由一个或多个1/4波长厚的电介材料层制 成,垫片是由透明电介材料制成的半波长层或多个半波长层。例如,根据一种实施方 式,每个部分反射片均采用高、低折射率材料层交替形成,每一层的光学厚度等于1/4 波长。方便的是,这些简单的全电介结构可以被级联起来形成具有急剧通带转变特性 的多腔干涉滤光片。每个干涉滤光片的带宽都是该结构中1/4波叠层的反射率的函数, 而半波长垫片则决定了通带的中心波长。 本发明认可,由高、低折射率材料交替层叠等方式形成的薄膜涂层也可以同时 呈现正和负的面外双折射,这种双折射是有用的,且该薄膜可以被集成到防反射涂 层、薄膜干涉边缘滤光片和/或其他元件中,以提高效率和/或改善功能。此外,本发明 还认可,面外双折射的符号和幅度是由薄膜涂层的相位厚度决定(即该光学厚度用入 射光的波长表示,例如可以角度、弧度或1/4波长倍数表示)。s平面的透射相位5ts与公式(5 )的表达类似,但在此rsl2为
"<formula>formula see original document page 11</formula>+ cos6!y
47角度的透射净延迟rt (单位为纳米)定义为非常波与寻常波之间的相位差,即 表示为
^"^"" (10)48图3给出了与图2中所示类似的对称叠层的s平面和p平面的等效相位厚度的理 论差值(如Yp-Ys)图。此对称叠层在此称为1000(0.5LH0.5L)Q,材料a为低折射率 材料L,其光学厚度等于1000nm波长的光以法向入射时1/4波长的0.5倍(即波长的 1/8;1000/8),材料6为高折射率材料H,其光学厚度对应于1000nm波长的光以 法向入射时的l/4波长。由于层厚度确定为1000nm,叠层即被视为以1000 nm为中 心。该对称叠层被认为在空气中入射,且安装在折射率为1.52的基片上(各层以法向 入射匹配)。L和H材料被视为非色散性的,且折射率分别为1.46和2.2。等效相位厚 度差针对15。的入射角计算。实线对应于叠层的l个周期,虚线对应于5个周期。此对 称叠层的阻带是基本周期的等效相位厚度为180°和540° (或7t和3tt)的区域。很明 显,在某个角度下,各个薄膜涂层预期都会起到正C片和/或负C片的作用,这要取决
于入射光的波长。等效相位厚度差为正值的区域被标为正C片区,而等效相位厚度差 为负值的区域则被标为负C片区。这些区域的位置不会随着叠层周期数而改变,但延 迟的幅度会有相应的变化。幅值会随周期数线性缩放。 再参见图3,并且注意到基本周期等效相位厚度的设计已经使之在接近1000nm 的波长上等于7T,因此也可以就等效相位厚度来讨论透射延迟。例如,在区域1中,基
本周期的等效相位厚度小于?r,在区域2中,基本周期的等效相位厚度大于7T但小于 2 r,而在区域3中,基本周期的等效相位厚度则是大于27T但小于37T,对其他未示出的 区域类似(更短波长的方向)。
55]图6A、 6B、 6C和6D给出了上述1000(0.5L H 0.5L)5设计在各种入射波长(如 1500nm、 650nm、 450nm和310nm)下理论延迟与入射角的关系。需要注意的是, 这些波长中的每一个都对应于一个不同的相位厚度和图3中一个不同的区域。例如, 1500nm在区域l (对应于-C片和小于?r的等效相位厚度)中,650nm在区域2(对应 于+C片和大于;r但小于27r的等效相位厚度)中,450nm在区域3 (对应于-C片和大 于2;r但小于37r的等效相位厚度)中,而处于未标示区域的310nm则呈现对应于+C 片且等效相位厚度大于3 r但小于4;r的情况。
56参见图6A,可以确认延迟会随入射角偏离法向入射方向而减小,且薄膜叠层在
此区域(即区域l,在此基本周期的等效相位厚度〈7t)充当负C片。实际上,在此区
域内,设计实例的物理层厚度(如da-86nm和4-114nm)要小于入射光的波长。 对于厚度远小于光波长的各层,该叠层是一个可以用零阶有效介质理论(EMT)描述 的形式双折射叠层。采用此类结构的负C片涂层设计在7,170,574号美国专利和K,D. Hendrix, K丄.Tan, M. Duelli, D.M. Shemo及M. Tilsch的"Birefringent films for contrast enhancement of LCoS projection systems"(用于LCoS透射系统对比度增强的双折射薄 膜)J. Vac. Sci. Technol. A 24(4), pp. 1546-1551, 2006,在此通过参考将两者均合并入本 申请中。 参见图6D,很明显延迟会随入射角对法向入射的偏离而增大,且叠层在此区域 (即基本周期的等效相位厚度小于4;r但大于3 r的区域)内充当正C片。概言之,基本周期的相位厚度y^根据下式决定薄膜叠层是作为正C片还是负C
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特别地,在m为偶数的区域,薄膜叠层将为正C片,在m为奇数的区域,则为负C 片。
61在上述整个Herpin等效相位分析中,已参考从2个正交偏振方向(如非常波和 寻常波,也是P偏振和S偏振)的透射和反射相差计算出的净延迟(在某个倾斜入射 角下)。为在薄膜设计和材料系统选择上实现一定的灵活性,将多层薄膜叠层的离轴 延迟效应与相应的单层双折射介质的离轴延迟效应进行比较。等效的单一双折射层与 实际的薄膜设计具有相同的离轴延迟曲线。在等效模型中采用的单轴材料的折射率 (w。和"e)可能是实际材料的折射率(如液晶混合物的折射率),也可能是假想材料
的折射率。等效材料系统的平均折射率值与多层薄膜叠层的有效折射率"。和"e可能相 同也可能不同。等效层的物理厚度D2也可能与多层叠层的实际总体薄膜厚度d!不
同。图7示意性地给出了这种等效模型的一项特别重要的成果,即实际的薄膜设计可 能加入了一种或多种不同的薄膜子叠层,如将(aba)Q叠层浸入折射率匹配层中(防反射 功能)。整个叠层的离轴性质均与构成反复式叠层的单层相符,其延迟效应可以通过分 析得出,而其AR叠层需要通过基于矩阵的计算来分析延迟效应。 [62] 单层C片延迟器中光传播的固有折射率由下式给出
<formula>formula see original document page 14</formula> (12)
<formula>formula see original document page 14</formula>13)
其中CJ。和CJe是单层C片在离轴入射下的固有折射率,《。和 分别是固有的寻常和非常
折射率,e则是波长为人的光在空气中的入射角。c片延迟器的净延迟值由长度单位表
示,由折射率差和物理厚度D2按照下式计算得出<formula>formula see original document page 14</formula> (m)
c片的延迟值用长度单位表示,是折射率差与物理层厚度之积,由下式给出
<formula>formula see original document page 14</formula> (15)
如上所述,以光程长度差表示的面外延迟。因此,在预定入射角下给定净延迟时,名 义C片延迟量(以长度单位表示)的表达式为
其中 是实际薄膜的延迟曲线与单层C片延迟器匹配所需的等效折射率,w"位于单 层C片延迟器的w。与^之间,并且 则近似为&。例如,在^550nm下(n。,"J为 {1.50, 1.65}的正C片延迟器的延迟曲线可以采用 =1.60进行精确建模,而在?i=550 nm下{"。, <}为{1.65,1.50}的负C片延迟片的延迟曲线可以采用 =1.53进行精确建 模。"^的全色散由全色散数据("e,"。H寻出。有利的是,本发明的薄膜涂层被用于将正和/或负C片元件引入采用透射式或反 射式配置的偏振器件中。C片薄膜涂层可被选择以法向入射或一定角度集成到另 一类 涂层中,如防反射涂层、短波长通过(SWP)涂层以及长波长通过(LWP)涂层,以 增强其功能。
651有利方面还包括,由于正C片和负C片功能是通过高、中和/或低折射率材料层 交替的方式引入,本发明的薄膜涂层可以采用将常规各向同性材料沉积在高密度微层 中的方法制成,高密度微层不应有孔隙,也不应有与孔隙相关的问题(如支柱破损和/ 或孔隙中充水)。例如,当各向同性材料本质上都绝缘时,C片涂层将高度耐用和可 靠,并可以在更长时间(如超过10,000小时)内耐受高光通量密度(如高于40 Mlux)和高温(如高于120 。C)。为示例起见,考虑薄膜叠层1320(0.6L 0.7H 0.6L)2。此正C片涂层所针对的中心 波长为1320nm,在18。时可提供约0.4nm的延迟。在延迟计算中,假设叠层位于折射 率为1.52的基片上的空气中,低折射率材料L的折射率设为1.46,高折射率材料H的 折射率设为2.2,且L和H材料均为非色散性。
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当此正C片涂层叠层被集成到针对785 nm进行反射优化的两层防反射涂层时 (如图10所示),结果是在0°至18。间该涂层设计在785 nm下自玻璃表面的反射率小 于0.04%,而18。下的透射延迟为0.62nm。当玻璃的两个外表面均覆有如上所述的涂 层时,在18。下的总透射延迟为1.24nm。这种在2个玻璃表面上均涂覆的设计的总透 射延迟与角度的关系在图11中示出(右侧轴,虚线),与之相对照的是70nm波片的 延迟(左侧轴,实线)。在使用中,如果薄膜涂层的平面与透射轴成45。角,以及快/慢轴指向与入射线 偏振光成45。角的方位,薄膜涂层会将入射偏振光转为圓偏振光。需要注意的是,两个 波长的光将有相反的圆:f又向(顺时针和逆时针)。
181]采用本发明的薄膜涂层制造的另一类消色差波片是反射波片。例如,有正和/或 负C片设计的薄膜涂层可以被选择集成到反射滤光片中,如高反射镜。该反射波片通 过重定向光来影响偏振,工作在涂层叠层的阻带内。周期数增加,直至反射率接近 100%。在反射镜顶面上添加涂层,以控制相位。这些附加层经过优化,以便将反射相 差调整至跨阻带的所需曲线上。
82反射式消色差1/4波片的一种实现方式示于图15中。在这种实现方式中,薄膜 涂层包括535(0.5HL0.5H严形式的反射式多层叠层,以及多个附加的高低折射率交替 层,后者经过优化,以提供跨阻带的相对较平的反射相差曲线。光以45。角入射在波片 上。在约500-600ran范围内平均反射率较高。在同一波长区域内,反射相差已被优 化至-90°;它是一个l/4波片。以45。入射、与波片的快/慢轴成45°方位角的的线偏振 光将在被滤光片反射后转为圓偏振光。
83]反射式消色差1/4波片的另一种实现方式示于图16中。波长为406nm、 660nrn 和790 nm的3条线偏振激光线以45°角入射在波片上。在此入射角下,这3条激光线 的反射相差为-90或+90°。当在45。入射下,线偏振光取向为与波片快/慢轴成45。方位 角时,该器件对这3个波长均充当反射式消色差1/4波片。例如一组交叉的A片(比如其光轴相互偏离90°)。众所周知,如果两片的面 内延迟大致匹配,则该组的公共延迟幅度将呈现负C片效应。对于这种可能不合要求 的残余负C片延迟元件,可通过向一个或两个A片施加有正C片元件的薄膜涂层进行 补偿。可以选择将^皮施加到一个或两个A片的正C片(PC)薄膜涂层集成到AR涂 层、LWP涂层或SWP涂层中。
86]另外,本发明所述的薄膜涂层的另一种应用是在偏振光显微术中使用的Berek 补偿器。Berek补偿器是一个正C片,用于测量光学显微镜中样本的双折射。特别地, 该C片元件的取向是其非常波光轴垂直于正C片元件平面,而平行于显微镜光轴。 以法向入射(0。)穿过正C片的偏振光在穿过正C片时的速度与偏振方向无关。当正 C片元件围绕入射偏振光方向发生旋转,偏振光的速度将与偏振有关,会发生变化。 所形成的相差取决于正C片的厚度、入射光波长、双折射以及倾角,该相差用于校准 显微镜和测量样本的双折射。在这种应用中,正C片薄膜涂层可以被直接施加到基片 上,或者可以集成到沉积在基片上的AR涂层、LWP涂层或SWP涂层中。 [871在上述每个例子中,本发明的薄膜涂层可以被选择集成到AR涂层中。根据一 个实施例,实现方式为在基片上沉积第一AR叠层,在第一 AR叠层上沉积正C片薄 膜叠层,再在正C片薄膜叠层上沉积第二AR叠层(即正C片(PC)夹在2个AR叠 层之间,以形成PCAR叠层)。需要注意的是,当正C片薄膜叠层为(0.5LH0.5L)Q形 式时,PCAR叠层实质是一个短波滤光片。方便的是,PCAR叠层的延迟与入射角 (AOI)的关系这一性能很容易被定制以增强功能,同时仍保持防反射涂层功能。 [88]在上述各例中,本发明的薄膜涂层采用真空沉积技术制成,其中包括但不限于 化学汽相沉积(CVD)、等离子强化CVD、电子束蒸发、热蒸发、喷镀和/或原子层沉 积。可以选择将薄膜沉积在感兴趣的波长区域的透明基片上,该基片可以由很多种材 料制成,包括但不限于玻璃、石英、透明塑料、硅和锗。此外还可以选择将基片集成
到另一个光学元件中。通常,薄膜所用的材料是550 nm波长下折射率在1.3至4.0以
上范围内的无机或有机电介质材料。例如,适合的材料包括二氧化硅(Si02, n=1.46)、氧化钽(Ta205, n=2.20)、氧化铝(A1203, n=1.63 )、氧化铪(Hf02, n=1.85) 、 二氧化钛(Ti02, n=2.37)、氧化铌(Nb205, n=2.19)和氟化镁(MgF2, n4.38)等。当然,其他电介质材料和/或聚合物也可胜任。此外,可以选用商业销售 的计算机程序(如Software Spectra Inc.的TFCalc )作为辅助设计滤光片。89
当然,上述实施例仅作为示例。业内具有一般技能的人员将认识到,可以在不 背离本发明的实质及适用范围的条件下实现多种改动、替代配置和/或等效方案。例 如,也可以想到与上述透射实施例类似的反射实施例。事实上,在反射中采用的薄膜 涂层(如上述反射式1/4波长片)可望在许多商用领域得到应用。相应地,本发明的适 用范围仅限于所附权利要求中规定的范围。
权利要求
1.一种薄膜涂层,包括一个具有基本周期的多层叠层,其中所述基本周期包括由至少两种折射率有反差的各向同性材料构成的交替层,且所述基本周期在λ0下的等效相位厚度为π;所述基本周期内每一层的物理厚度和折射率被选择以使所述多层叠层在预定波长下充当C片,且使所述基本周期在所述预定波长下的等效相位厚度大于π。
2. 如权利要求1所述的薄膜涂层,其中所述基本周期内每一层的物理厚度和折射率 被选择以使所述多层叠层在所述预定波长下充当正C片,且使所述基本周期在所述预 定波长下的等效相位厚度大于;r而小于2:t,或大于3兀而小于4;r。
3. 如权利要求1所述的薄膜涂层,其中所述基本周期内每一层的物理厚度和折射率 被选择以使所述多层叠层在所述预定波长下充当负C片,且使所述基本周期在所述预 定波长下的等k相位厚度大于2 r而小于3兀。
4. 如权利要求1所述的薄膜涂层,其中所述多层叠层包括由高折射率和低折射率电 介材料构成的交替层。
5. 如权利要求1所述的薄膜涂层,其中所述基本周期重复Q次,且其中Xo和Q两 参数中至少有一个被选择以提供所述预定波长下、预定非法向入射角条件下的预定延 迟。
6. 如权利要求1所述的薄膜涂层,其中所述基本周期重复Q次,且其中X0和Q两 参数中至少有一个被选择以提供所述预定波长下预定的延迟与入射角关系曲线。
7. 如权利要求6所述的薄膜涂层,其中所述预定的延迟与入射角关系曲线被选择用 来补偿预定波长条件下波片延迟随入射角的变化。
8. 如权利要求6所述的薄膜涂层,其中所述预定的延迟与入射角关系曲线被选择用 来补偿物理厚度不同的第 一和第二交叉A片的残余负C片延迟。
9. 如权利要求6所述的薄膜涂层,其中所述预定的延迟与入射角关系曲线被选择用 来为Berek补偿器提供C片延迟。
10. 如权利要求1所述的薄膜涂层,其中所述多层叠层在所述预定波长及另一个预 定波长下对相同的入射角提供相同的延迟幅度。
11. 如权利要求IO所述的薄膜涂层,其中所述多层叠层被集成在一个反射滤光片中。
12. 如权利要求1至10中任一权利要求所述的薄膜涂层,其中所述多层叠层被集成 在防反射涂层、长波通过涂层和短波通过涂层三者中至少一个之中。
13. 如权利要求1至10中任一权利要求所述的薄膜涂层,其中所述多层叠层被集成 在防反射涂层中。
14. 如权利要求1至10中任一权利要求所述的薄膜涂层,其中所述多层叠层是一个 以M)为中心的多层千涉结构,且其中所述预定波长小于M)。
15. 如权利要求1至5中任一权利要求所述的薄膜涂层,其中所述多层叠层被沉积 在一个基片上,以提供在非法向入射角条件下使用的消色差1/4波片。
16. 如权利要求15所述的薄膜涂层,其中所述多层叠层被集成在反射滤光片中,且 其中所述消色差1/4波片是反射式消色差1/4波片。
17. 如权利要求1至4中任一权利要求所述的薄膜涂层,其中所述多层叠层被沉积 在具有面内延迟的双折射元件上,且其中所述基本周期内每一层的物理厚度和折射率 被选择用以定制所述双折射元件的角度延迟曲线。
18. 如权利要求17所述的薄膜涂层,其中所述双折射元件是延展箔片、形式双折射 光栅、结晶石英以及液晶聚合物延迟元件中的 一种。
19. 一种方法,包括下述步骤将权利要求1至14中任一权利要求所述的薄膜涂层沉积在基片上。
20. 如权利要求19所述的方法,包括将所述基片取向为某一偏振光束方向的步骤, 所述偏振光束的波长为预定波长。
全文摘要
薄膜涂层,例如其包括高、低折射率材料组成的交替层,根据入射光条件可作为正、负C片。特别地,延迟与入射角关系曲线的形状被发现可以由薄膜涂层的相位厚度(即以入射光波长表示的光学厚度,可通过角度、弧度或1/4波长数等形式表示)决定或至少部分决定。这些薄膜涂层可以被选择集成到防反射涂层、薄膜干涉滤光片和/或其他元件中,以改善性能和/或功能。
文档编号G02B5/30GK101173994SQ20071010597
公开日2008年5月7日 申请日期2007年6月4日 优先权日2006年6月2日
发明者克伦·D.·亨德里克斯, 金姆·L.·坦 申请人:Jds尤尼弗思公司
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