静电吸附台的制作方法

文档序号:2813596阅读:377来源:国知局
专利名称:静电吸附台的制作方法
技术领域
本实用新型涉及TFT液晶显示装置的制造工艺,特别涉及一种用于吸附 玻璃基板的静电吸附台。
背景4支术
在TFT液晶显示装置的制造工艺中,真空定位装置(vacu咖aligner)
是用于在真空状态下实现液晶显示装置对盒的设备。但是液晶显示装置的吸 附对盒不能采用传统的真空吸附来完成,而是使用库仑力将液晶显示装置的 上、下两个玻璃基板在真空环境下进行吸附,所以在真空定位装置上设有产 生静电作用的静电吸附台(Electro-staticChucking stage,以下简称ESC 台)。真空定位装置分为上下两个安装台,将16个形状、大小完全一样的 ESC台安装在上下两个安装台上。如图l所示,ESC台主要包括基台座l, 由金属制成、基材层2、电极层3。
在现在TFT液晶显示装置的制造生产工艺中,用到的ESC台表面的绝缘 层,虽然可以对电极层起到一定的保护作用,但是其保护能力是非常有限的, 在生产过程中,不可避免的会出现质地较硬的、相对较大的玻璃碎屑,常常 会穿透绝缘层,从而导致电极层3短路、破损,造成ESC台的损坏。据统计, 实际生产过程中,由于上述原因造成ESC台损坏的比率占ESC台总报废率的 85%之多。由于ESC台价格昂贵,且更换比较麻烦,这样既增加了生产成本 又影响了生产效率。

实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中静电吸附台易损坏的问题,提 供一种静电吸附台,以增强对静电吸附台上电极层的保护,提高生产效率,并降低生产成本。为实现上述目的,本实用新型提供了一种静电吸附台,包括基台座、 位于所述基台座上的基材层和位于所述基材层上用于吸附玻璃基板的电极 层,在所述电极层上设置有用于保护电极层的保护层。其中,所述保护层为硅橡胶层,或者还可以是聚酰亚胺层。 进一 步的,还可以在保护层与电极层间设置有 一 陶乾层。 由上述技术方案可知,本实用新型通过在ESC台上采用单保护层,或者增加一层陶瓷层,或者增加保护层的厚度,来增强保护层对ESC台上的电极 层的保护,从而使得ESC台不易损坏,提高生产效率,并降低生产成本。下面通过附图和实施例,对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。


图1为现有静电吸附台的结构示意图; 图2为本实用新型静电吸附台实施例一的结构示意图; 图3为本实用新型静电吸附台实施例二的结构示意图; 图4为本实用新型静电吸附台实施例三的结构示意图。
具体实施方式
如图2所示,为本实用新型静电吸附台实施例一的结构示意图。该静电 吸附台包括有基台座l;基材层2,基材层2位于基台座1上;电极层3, 用于吸附玻璃基板,电极层3位于基材层2上;保护层4,用于保护电极层3, 覆于电极层3上。保护层的材料为硅橡胶,硅橡胶具有柔软性、高电阻性, 并且具有强韧性,能够达到防止较大的玻璃碎屑穿破保护层4,从而破坏了 电极层3的目的。本实施例提供的静电吸附台,在电极层上覆有硅橡胶保护层,可以有效 的保护ESC台,使其不易受到损坏,提高使用寿命,从而可以提高玻璃基板对盒的生产效率,降低生产成本。如图3所示,为本实用新型静电吸附台实施例二的结构示意图。该静电吸附台包括有基台座l;基材层2,基材层2位于基台座1上;电极层3, 用于吸附玻璃基板,电极层3位于基材层2上;保护层4',用于保护电极层 3,覆于电极层3上。保护层的材料为聚酰亚胺,聚酰亚胺具有柔软性、高电 阻性,但是它的韧性没有硅橡胶好,所以要想能够达到防止较大的玻璃碎屑 穿破保护层4',则聚酰亚胺保护层4'的厚度一般要大于硅橡胶保护层4的厚 度。本实施例提供的静电吸附台,在电极层上覆有聚酰亚胺保护层,可以有 效的保护ESC台,使其不易受到损坏,提高使用寿命,从而可以提高玻璃基 板对盒的生产效率,降低生产成本。如图4所示,为本实用新型静电吸附台实施例三的结构示意图。该静电 吸附台包括有基台座l;基材层2,基材层2位于基台座1上;电极层3, 用于吸附玻璃基板,电极层3位于基材层2上;保护层4",用于保护电极层 3,覆于电极层3上。该保护层4"可为上述实施例一或实施例二中所述的保 护层4或保护层4',或者其他任意材料,任意厚度的保护层。所不同的是, 为了进一步起到保护电极层3不受损坏的作用,还可以在保护层4"和电极层 3之间夹一层陶瓷保护层6,以增加保护层的强度,来达到防止较大的玻璃碎 屑穿破保护层的目的。本实施例提供的静电吸附台,在电极层和保护层之间还增加有陶资保护 层,可以有效的保护ESC台,使其不易受到损坏,提高使用寿命,从而可以 提高玻璃基板对盒的生产效率,降低生产成本。最后应说明的是以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对 其进行限制,尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域 的普通技术人员应当理解其依然可以对本实用新型的技术方案进行修改或 者等同替换,而这些修改或者等同替换亦不能使修改后的技术方案脱离本实 用新型技术方案的精神和范围。
权利要求1、 一种静电吸附台,包括基台座、位于所述基台座上的基材层和位于所 述基材层上用于吸附玻璃基板的电极层,其特征在于,所述电极层上设置有 用于保护电极层的保护层。
2、 根据权利要求1所述的静电吸附台,其特征在于,所述保护层为硅橡 胶层。
3、 根据权利要求1所述的静电吸附台,其特征在于,所述保护层为聚酰 亚胺层。
4、 根据权利要求l、 2或3所述的任一静电吸附台,其特征在于,所述 保护层与电极层之间设置有增加硬度的陶瓷层。
专利摘要本实用新型公开了一种静电吸附台,包括基台座、位于所述基台座上的基材层和位于所述基材层上用于吸附玻璃基板的电极层,在所述电极层上设置有用于保护电极层的保护层。其中,保护层可以为硅橡胶层、聚酰亚胺层,还可以在保护层和电极层之间设置一陶瓷层。本实用新型提供的静电吸附台,通过在ESC台上采用单保护层,或者增加一层陶瓷层,或者增加保护层的厚度,来增强保护层对ESC台上的电极层的保护,从而使得ESC台不易损坏,提高生产效率,并降低生产成本。
文档编号G02F1/13GK201156132SQ20082007914
公开日2008年11月26日 申请日期2008年2月21日 优先权日2008年2月21日
发明者朱海波, 魏永辉 申请人:北京京东方光电科技有限公司
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