纳米压印用固化性组合物、固化物及其制造方法、以及液晶显示装置用部件的制作方法

专利名称：：纳米压印用固化性组合物、固化物及其制造方法、以及液晶显示装置用部件的制作方法
技术领域：
：本发明涉及光纳米压印(nanoimprint)中使用的固化性组合物、固化物及其制造方法、以及使用该固化物的液晶显示装置用部件及其制造方法。
背景技术：
：对于纳米压印法，提出有使用热塑性树脂作为被加工材料的情况(非专利文献l)和使用光纳米压印光刻(nanoimprintlithography)用固化性组合物的情况(非专利文献2)这两种。热式纳米压印中，通过将模具挤压于加热至玻璃化温度以上的高分子树脂，并在冷却后使模具脱模，从而将微细结构转印至基板上的树脂。由于可以应用于多种树脂材料及玻璃材料中，因此，期待将其应用于各方面。例如，在专利文献l、专利文献2中，公开了使用热塑性树脂，以便宜的价格形成纳米图案的纳米压印的方法。另一方面，在透过透明模具照射光，使纳米压印用固化性组合物光固化的光纳米压印方式中，可以在室温下压印。最近，还报道了组合这两种方式的优点的纳米铸造法及制作3维层叠结构的反转压印方法等新的发展。对于这样的纳米压印法，提出有以下所述的应用技术。第一技术欲通过高精度的位置重合和高集成化，取代以往的光刻而适用于高密度半导体集成电路的制作及液晶显示器的晶体管的制作等。第二技术为成型的形状(图案)自身具有功能、可以用作各种纳米技术的要件或结构部件的情况，作为其例，可举出各种微纳米光学元件及高密度记录介质、光学膜、平板显示器中的结构部件等。这里，作为其它技术，还有欲通过微结构和纳米结构的同时一体成型或简单的层间位置重合来构建层叠结构，应用于p-TAS及生物芯片的制作。近年来，正致力于将包含上述技术、涉及这些应用的纳米压印法实用化。首先，说明在上述第一技术中的高密度半导体集成电路制作中的应用例。近年来，半导体集成电路正朝微细化、集成化方向发展，作为用于实现其微细加工的图案/转印技术，光学光刻(PhotoL池ography)装置开始向高精度化方向发展。争对该情况，研究了使用作为用于以低成本来形成微细图案的技术而提出的纳米压印光刻技术(光纳米压印法)。例如，在下述专利文献1中，公开了使用硅片作为压模(Stamper)，通过转印而形成25nm以下的微细结构的纳米压印技术。伴随该情况，为了将纳米压印光刻用于半导体集成电路的制作中，开始积极地研究以模具和树脂的剥离性、图案转印精度等为代表的性质。另一方面，开始积极地研究以将模具从树脂剥离的剥离性、图案转印精度、基板密合性为代表的性质等，以将纳米压印光刻用于半导体集成电路的制作中。另一方面，说明纳米压印光刻在上述第二技术中的液晶显示器(LCD)及等离子显示器(PDP)等平板显示器中的应用例。伴随着LCD基板及PDP基板的大型化及高精细化，作为取代薄膜晶体管(TFT)及电极板制造时使用的以往的光学光刻的廉价的光刻，光纳米压印光刻(NanoImprintLithography)近年来备受瞩目。因此，有必要开发取代以往的光学光刻中使用的蚀刻光致抗蚀剂的光固化性抗蚀剂。另外，对于作为LCD等的结构部件使用的透明保护膜材料及规定液晶显示器中的液晶盒间隙的间隔物等，也开始研究光纳米压印光刻的应用。这样的结构部件用抗蚀剂与所述蚀刻抗蚀剂不同，其最终会残留在显示器内，因此，有时将其称为"永久蚀刻剂"或者"永久膜"。作为使用以往的光学光刻技术的永久膜，例如可举出设置在液晶面板的TFT基板上的保护膜；用于减少R、G、B层间的阶差、赋予对ITO膜的溅射制膜时的高温处理的耐受性而设置在滤色片上的保护膜等。在这些保护膜(永久膜)的形成中，要求涂布膜的均匀性、与基材的密合性、超过20(TC的加热处理后的高透光性、平坦化特性、耐溶剂性、耐擦伤性等各种特性。另外，在液晶显示器所使用的间隔物领域中，在以往的光学光刻中，广泛使用包含树脂、光聚合性单体及引发剂的光固化性组合物。所述间隔物通常如下操作而形成在形成滤色片后或形成所述滤色片用保护膜后，使用光固化性组合物，通过光学光刻在滤色片基板上形成约10^im20(im大小的图案，再通过后烘进行加热固化。对于这样的液晶显示器中使用的间隔物，要求对外部压力具有高机械特性、硬度、显影性、图案转印精度、密合性等性能。因此，寻求开发出使用纳米压印法的所述透明保护膜及间隔物等永久膜(永久抗蚀剂)的形成中优选的光固化性组合物。光纳米压印光刻中使用的材料所要求的特性多根据所使用的用途而不同，但对工艺特性的要求与用途无关，具有共同点。例如，下述非专利文献3中所示的主要的要求项目为涂布性、基板密合性、低粘度(〈5mPas)、剥离性、低固化收縮率、迅速固化性等。怎样控制这些要求特性、怎样取得各特性的平衡是材料涉及的关键。至少工艺材料和永久膜所要求的特性大不相同，因此，材料需要根据工艺及用途进行开发。如上所述，作为永久膜的主要技术课题，可举出图案精度、密合性、超过20(TC的加热处理后的透明性、高机械特性(对外部压力的强度)、耐擦伤性、平坦化特性、耐溶剂性、加热处理时的脱气减少等很多课题。在使用光纳米压印用固化性组合物作为永久膜时，与以往的使用丙烯酸树脂等的抗蚀剂同样，涂布膜的均匀性、加热处理后的透明性、耐擦伤性的赋予是很重要的。同时，作为光纳米压印用固化性组合物特有的课题，除上述课题外，还需要考虑以下方面需要确保抗蚀剂在模具凹部的流动性，在无溶剂或使用少量溶剂的情况下的低粘度化；及在光固化后，使其容易地与模具剥离而不附着在模具上，因此组合物设计的技术难易度变得更高。并且，近年来，纳米压印领域的工业化一直在发展，随之，在工业化时，产生了新的课题。其中，有在工业化时面临的用于形成微细图案的固化性组合物的保存稳定性的课题；及与上述以往的课题一同的纳米压印用固化性组合物的课题。另一方面，一直以来，在通常的固化性树脂的领域中，要求聚合反应充分进行并固化，不优选添加阻碍聚合这样的阻聚剂。特别是在光固化性树脂的领域中，其对照射光的感度可能产生不良，因此更不优选添加阻聚剂。而且，由于在纳米压印用固化性组合物的领域中目标的固化图案的精度是非常重要的因素，因此，从避免固化不良而提高图案形成性的观点考虑，更不优选添加阻聚剂。但是，为了提高固化性树脂组合物的保存性，提出有在固化不良不会导致问题的氛围内添加阻聚剂。例如可举出以为了使对复杂形状的物品、大型的物品的注塑成型容易而将可进行淤浆注塑成型的时间延长数分钟为目的，在光固化性树脂中添加阻聚剂，形成丙烯酸树脂制连续气孔多孔体的例子(参照专利文献3);及以胶印领域中提高35日的保存性为目的，在光固化性树脂中添加阻聚剂，形成感光性平版印刷版的例子(参照专利文献4及5)。这些均以提高短期内的保存稳定性为目的，均没有对固化物的固化性、固化物的纳米级的精度、长时间的保存稳定性进行研究。相对于此，在光纳米压印用固化性组合物领域中添加阻聚剂的例子还不为人知。例如，作为半导体集成电路制作用的光纳米压印用蚀刻抗蚀剂，可举出使用包含(甲基)丙烯酸酯、光聚合引发剂的光固化性树脂的例子，但是还没有实际应用使用了阻聚剂的光纳米压印用固化性组合物的例子，并且，也没有记载优选使用阻聚剂的建议及使用阻聚剂的情况的课题(参照专利文献6及非专利文献4)。因此，现状为虽然对于光纳米压印用的固化性组合物，公开有各种材料，但是对于适于永久膜的制作的固化性组合物，还没有提出充分的设计方针。专利文献h美国专利第5772905号公报专利文献2:美国专利第5956216号公报专利文献3:日本特开2003-226709号公报专利文献4:日本特开平9-244243号公报专利文献5:日本特开平9-134011号公报专利文献6:日本特开2007-84625号公报非专利文献1:S.Chouetal.:Appl.Phys丄ett.Vo1.67,3114(1995)非专利文献2:M.Colbunetal,:Proc.SPIE,Vo1.3676,379(1999)非专利文献3:最新抗蚀剂材料手册，Pl、103-104(2005年，情报机构出版)7非专利文献4:M.Verheijenetal.:J.Vac.Sci.Technol.B14(6),4124(1996)
发明内容本发明是鉴于上述实际情况而完成的，其目的在于，提供一种光固化性优异的纳米压印用固化性组合物、特别是平板显示器等的永久膜中优选的组合物。即，本发明的第一目的在于，提供一种固化性良好、经时保存稳定性优异、特别是在抑制固化后的图案精度降低方面经时保存稳定性优异的纳米压印用固化性组合物。另外，本发明的第二目的在于，提供使用该固化性组合物的固化膜及其制造方法、以及使用该固化膜的液晶显示装置用部件。本发明人发现，以改善保存稳定性为目的而在纳米压印用固化性组合物中添加以往所忌讳的阻聚剂时，可以不引起以往所担心的固化不良而进行压印。并且发现，从长时间的保存稳定性的观点考虑，也具有可以令人充分满意的性质。艮口，本发明人发现，利用以下方法，可以解决上述课题。一种纳米压印用固化性组合物，其特征在于，包含(A)聚合性单体、(B)光聚合引发剂及(C)阻聚剂，并且，该阻聚剂的添加量相对于该聚合性单体以重量计为300ppm~5%。根据上述[1]所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述阻聚剂的添加量相对于所述聚合性单体以重量计为1000ppm~5%。根据上述[1]或[2]所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述纳米压印用固化性组合物还包含表面活性剂。根据上述[1][3]中任一项所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述(A)聚合性单体为(甲基)丙烯酸酯化合物。根据上述[1][4]中任一项所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述纳米压印用固化性组合物还包含抗氧化剂。根据上述[3][5]中任一项所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述表面活性剂为非离子性表面活性剂。根据上述[1][6]中任一项所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述(C)阻聚剂为选自芳香族多元醇系化合物、受阻酚系化合物、醌系化合物、N-氧自由基(N—oxyl)系化合物及胺系化合物中的至少一种的化合物。根据上述[1][7]中任一项所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述(C)阻聚剂为芳香族多元醇系化合物或胺系化合物。根据上述[1][8]中任一项所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述(C)阻聚剂为氢醌类、儿茶酚类、吩噻嗪、吩噁嗪中的任一种。—种固化物，其特征在于，使[1][9]中任一项所述的纳米压印用固化性组合物固化而成。一种液晶显示装置用部件，其特征在于，包含[10]所述的固化物。固化物的制造方法，其特征在于，包括将[1][9]中任一项所述的纳米压印用固化性组合物涂布在基板上形成图案的工序；将模具挤压在所述图案形成层上的工序；和对所述图案形成层进行光照射的工序。根据[12]所述的固化物的制造方法，其特征在于，还包括加热进行了光照射的所述图案形成层的工序。根据本发明，可以提供经时保存稳定性优异、抑制固化后的图案精度降低的效果优异的纳米压印光刻用固化性组合物。并且，由于本发明的固化膜的图案精度高、具有优异的物性，因此，可以优选用于液晶显示装置用部件。另外，根据本发明的固化膜的制造方法，能以生产性良好、简便地制造该固化膜。由于本发明的液晶显示装置用部件使用本发明的固化膜，齿此，图案精度高，具有优异的物性。具体实施例方式以下对本发明的内容进行详细说明。这里，在本申请说明书中，""以包含其前后所记载的数值作为下限值及上限值的意思使用。以下对本发明进行详细说明。需要说明的，在本说明书中，(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，(甲基)丙烯酸基表示丙烯酸基及甲基丙烯酸基，(甲基)丙烯酰基表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基。另外，在本说明书中，单量体和单体相同。本发明中的单体与寡聚物、聚合物不同，为质量平均分子量1000以下的化合物。本说明书中，官能团为与聚合有关的基团。这里，本发明中所说的纳米压印是指约数pm到数十nm尺寸的图案转印，但并不限定于纳米级。[纳米压印用固化性组合物]本发明的纳米压印用固化性组合物(以下有时简称为"本发明的组合物")的特征在于，包含(A)聚合性单体、(B)光聚合引发剂及(C)阻聚剂，并且，该阻聚剂的添加量相对于该聚合性单体以重量计为300ppm~5%。由于本发明的纳米压印用固化性组合物具有上述特征，因此，固化前的保存稳定性高、微细凹凸图案的能力优异。另外，固化后图案精度优异、可以形成在其它方面的综合性优异的涂膜物性。因此，本发明的组合物可以广泛地应用于光纳米压印光刻中。另外，在特别优选的方式中，还可以显著改良本发明的组合物的基板密合性。艮P，本发明的组合物在用于光纳米压印光刻时，可以具有以下特征。(1)室温下的溶液流动性优异，因此该组合物容易流入模具凹部的模槽内，并且大气难以进入其中，因而不会引起泡沫缺陷，在模具凸部、凹部的任一个中，在光固化后均不易残留残渣。(2)组合物的保存稳定性高，不易引起经时增粘、凝胶化等问题，因此，在制备组合物溶液后，在长时间内不发生图案精度降低。(3)固化后的固化膜机械性质优异，涂膜和基板的密合性优异，涂膜和模具的剥离性优异，因此，在剥离模具时，不产生图案倒塌及在涂膜表面产生拔丝、引起表面皲裂，因此，可以形成良好的图案。(4)涂布均匀性优异，掘此，适合于对大型基板的涂布和微细加工领域。例如，本发明的组合物可以优选用于目前难以展开的半导体集成电路和液晶显示装置用部件(特别是液晶显示器的薄膜晶体管、液晶滤色片的保护膜、间隔物、其它液晶显示装置用部件的微细加工用途等)，还可以广范围地用于其它用途，例如等离子显示器面板用间壁材料、平板显示器、微电子机械系统(MEMS)、传感器元件、光盘、高密度存储盘等磁性存储介质、衍射格子浮雕型全息图等光学部件、纳米器件、光学器件、光学膜及偏振元件、有机晶体管、滤色片、覆盖层、柱材、液晶取向用带筋型材料、微透镜阵列、免疫分析芯片、DNA分离芯片、微反应器、纳米生物器件、光波导、光学过滤器、液晶光子晶体等的制作。10((A)聚合性单体)本发明的组合物以改善组合物粘度、膜硬度、挠性等为目的而包含聚合性单体，为了达到该目的，优选并用具有l个含有乙烯性不饱和键的基团的聚合性不饱和单体(l官能的聚合性不饱和单体)。具体而言，可例示邻苯二甲酸-2-丙烯酰氧基乙酯、邻苯二甲酸-2-丙烯酰氧基-2-羟基乙酯、六氢化邻苯二甲酸-2-丙烯酰氧基乙酯、邻苯二甲酸-2-丙烯酰氧基丙酯、2-乙基-2-丁基丙二醇丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、2-乙基己基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2-羟丁酯、(甲基)丙烯酸-2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸-4-羟丁酯、丙烯酸二聚物、(甲基)丙烯酸节酯、丁二醇单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、环氧乙垸改性(以下称为"EO"。)甲酚(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化苯基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸二环戊基酯、(甲基)丙烯酸二环戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸异十四烷基酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、甲氧基二丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三甘醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸甲酯、新戊二醇苯甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸辛酯、对枯基苯氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、环氧氯丙烷(以下称为"ECH")改性苯氧基丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯ft^基乙酯、苯氧基二甘醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基六甘醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基四甘醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇-聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、EO改性琥珀酸(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、三溴化苯基(甲基)丙烯酸酯、EO改性三溴化苯基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸三(十二烷基)酯、(3-(甲基)丙烯酰氧基乙基三甲氧基硅烷、卩-(甲基)丙烯酰氧基乙基三乙氧基硅烷、l(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、Y-(甲基)丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、4-(甲基)丙烯酰氧基-苯甲酸烯丙酯、3-(甲基)丙烯酰氧基-苯甲酸烯丙酯、对异丙烯基苯酚、丙烯腈、乙烯基咔唑。作为其它的聚合性单体，还优选使用具有2个以上含有乙烯性不饱和键的基团的多官能聚合性不饱和单体。作为本发明中可以优选使用的具有2个含有乙烯性不饱和键的基团的双官能聚合性不饱和单体的例子，可举出二甘醇单乙醚(甲基)丙烯酸酯、二羟甲基二环戊烷二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸化异氰脲酸酯、1，3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、EO改性1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、ECH改性1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、烯丙氧基聚乙二醇丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、EO改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯、PO改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯、改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯、EO改性双酚F二(甲基)丙烯酸酯、ECH改性六氢化邻苯二甲酸二丙烯酸酯、羟基新戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、EO改性新戊二醇二丙烯酸酯、环氧丙烷(以下称为"PO"。)改性新戊二醇二丙烯酸酯、己内酯改性羟基新戊酸酯新戊二醇、硬脂酸改性季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、ECH改性邻苯二甲酸二(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇-四亚甲基二醇)二(甲基)丙烯酸酯、聚(丙二醇-四亚甲基二醇)二(甲基)丙烯酸酯、聚酯(二)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、ECH改性丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、硅酮二(甲基)丙烯酸酯、三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、二羟甲基三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、EO改性三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三甘油二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2-(甲基)丙烯酰氧基-3-烯丙氧基-丙基酯、二乙烯基乙烯尿素、二乙烯基丙烯尿素。其中，新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四甘醇二(甲基)丙烯酸酯、羟基新戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸-2-丙烯酰氧基-3-烯丙氧基-丙基酯等特别优选用于本发明中。作为具有3个以上含有乙烯性不饱和键的基团的多官能聚合性不饱和单体的例子，可举出ECH改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、EO改性甘油三(甲12基)丙烯酸酯、PO改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、EO改性磷酸三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇羟基五(甲基)丙烯酸酯、垸基改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇聚(甲基)丙烯酸酯、垸基改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙垸)四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等。其中，EO改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、PO改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等特别优选用于本发明中。作为本发明中使用的其它聚合性单体，还可以采用具有环氧乙烷环的化合物。作为具有环氧乙烷环的化合物，例如可举出多元酸的聚縮水甘油酯类、多元醇的聚縮水甘油醚类、聚氧化亚烷基二醇的聚縮水甘油醚类、芳香族多元醇的聚缩水甘油醚类、芳香族多元醇的聚縮水甘油醚类的加氢化合物类、氨酯聚环氧化合物及环氧化聚丁二烯类等。这些化合物可以单独使用其中的一种，也可以混合其中的两种以上使用。作为可以优选使用的环氧化合物，例如可例示双酚A二縮水甘油醚、双酚F二縮水甘油醚、双酚S二縮水甘油醚、溴化双酚A二缩水甘油醚、溴化双酚F二縮水甘油醚、溴化双酚S二缩水甘油醚、加氢双酚A二縮水甘油醚、加氢双酚F二缩水甘油醚、加氢双酚S二縮水甘油醚、1,4-丁二醇二縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚、三羟甲基丙垸三縮水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚类;通过在乙二醇、丙二醇、甘油等脂肪族多元醇上加成1种或2种以上环氧烷烃而得到的聚醚多元醇的聚縮水甘油醚类；脂肪族长链二元酸的二縮水甘油酯类；脂肪族高级醇的单缩水甘油醚类；苯酚、甲酚、丁基苯酚或在它们上加成环氧垸烃而得到的聚醚醇的单縮水甘油醚类；高级脂肪酸的縮水甘油酯类等。这些成分中，优选双酚A二縮水甘油醚、双酚F二縮水甘油醚、加氢双酚A二縮水甘油醚、加氢双酚F二缩水甘油醚、1,4-丁二醇二缩水甘油醚、1，6-己二醇二縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚、三羟甲基丙烷三縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚。作为可以优选使用的含有縮水甘油基的化合物的市售品，可举出UVR-6216(联合碳化物UnionCarbide公司制)、Glycidol、AOEX24、CyclomerA200、(以上为大赛璐化学工业株式会社制)、Epicoat828、Epicoat812、Epicoat1031、Epicoat872、EpicoatCT508(以上为Yuka-Shell株式会社制)、KRM-2400、KRM-2410、KRM-2408、KRM画2490、KRM陽2720、KRM-2750(以上为旭电化工业株式会社制)等。它们可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。另外，这些具有环氧乙垸环的化合物的制法没有限定，例如，可以参考丸善KK出版、第四版试验化学讲座20有机合成I1、213、1992年、Ed,byAlfredHasfner,Thechemistryofheterocycliccompounds-SmallRingHeterocyclespart3oxiranes,John&WileyandSons,AnIntersciencePublication,NewYork,1985、吉村、接着、29巻12号、32、1985、吉村、接着、30巻5号、42、1986、吉村、接着、30巻7号、42、1986、日本特开平11-100378号公报、日本专利第2906245号公报、日本专利2926262号公报等文献来合成。作为本发明中使用的其它聚合性单体，还可以并用乙烯基醚化合物。乙烯基醚化合物适当进行选择即可，例如，可以优选使用2-乙基己基乙烯基醚、丁二醇-l,4-二乙烯基醚、二甘醇单乙烯基醚、二甘醇单乙烯基醚、乙二醇二乙烯基醚、三甘醇二乙烯基醚、1,2-丙二醇二乙烯基醚、1,3-丙二醇二乙烯基醚、1,3-丁二醇二乙烯基醚、1,4-丁二醇二乙烯基醚、四亚甲基二醇二乙烯基醚、新戊二醇二乙烯基醚、三羟甲基丙烷三乙烯基醚、三羟甲基乙烷三乙烯基醚、己二醇二乙烯基醚、四甘醇二乙烯基醚、季戊四醇二乙烯基醚、季戊四醇三乙烯基醚、季戊四醇四乙烯基醚、山梨糖醇四乙烯基醚、山梨糖醇五乙烯基醚、乙二醇二亚乙基乙烯基醚、三甘醇二亚乙基乙烯基醚、乙二醇二亚丙基乙烯基醚、三甘醇二亚乙基乙烯基醚、三羟甲基丙烷三亚乙基乙烯基醚、三羟甲基丙烷二亚乙基乙烯基醚、季戊四醇二亚乙基乙烯基醚、季戊四醇三亚乙基乙烯基醚、季戊四醇四亚乙基乙烯基醚、1,1,1-三[4-(2-乙烯氧基乙氧基)苯基]乙烷、双酚A二乙烯氧基乙基醚等。这些乙烯基醚化合物例如可以通过Stephen.C丄apin,PolymersPaintColourJoumal.179(4237)、321(1988)中记载的方法即通过多元醇或者多元酚与乙炔的反应、或多元醇或者多元酚与卤代垸基乙烯基醚的反应来合成，它们可以单独使用l种，也可以组合2种以上使用。此外，作为本发明中使用的其它聚合性单体，作为乙烯基化合物，可以使用N-乙烯基化合物。作为N-乙烯基化合物，例如可举出N-乙烯基-2-吡咯烷酮、N-乙烯基己内酯、N-乙烯基琥珀酰亚胺、N-乙烯基甲酰胺等。另外，作为本发明中使用的其它聚合性单体，还可以采用苯乙烯衍生物。作为苯乙烯衍生物，例如可举出对甲氧基苯乙烯、对甲氧基-(3-甲基苯乙烯、对羟基苯乙烯等。此外，作为可以与本发明的1官能聚合物并用的苯乙烯衍生物，例如可举出苯乙烯、对甲基苯乙烯、对甲氧基苯乙烯、P-甲基苯乙烯、对甲基-P-甲基苯乙烯、a-甲基苯乙烯、对甲氧基-p-甲基苯乙烯、对羟基苯乙烯等，作为乙烯基萘衍生物，例如可举出l-乙烯基萘、(X-甲基-l-乙烯基萘、卩-甲基-l-乙烯基萘、4-甲基-l-乙烯基萘、4-甲氧基-l-乙烯基萘等。另外，为了提高与模具的剥离性及涂布性，还可以并用三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、五氟乙基(甲基)丙烯酸酯、(全氟丁基)乙基(甲基)丙烯酸酯、全氟丁基-羟丙基(甲基)丙烯酸酯、(全氟己基)乙基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、全氟辛基乙基(甲基)丙烯酸酯、四氟丙基(甲基)丙烯酸酯等具有氟原子的化合物。作为本发明中使用的其它聚合性单体，可以配合丙烯基醚及丁烯基醚。例如，可以优选使用l-十二烷基-l-丙烯基醚、l-十二烷基-l-丁烯基醚、l-丁烯氧基甲基-2-降冰片烯、1,4-二(1-丁烯氧基)丁烷、1，10-二(l-丁烯氧基)癸垸、1，4-二(1-丁烯氧基甲基)环己烷、二甘醇二(l-丁烯基)醚、1,2,3-三(1-丁烯氧基)丙烷、丙烯基醚亚丙基碳酸酯等。从光固化性的观点考虑，更优选所述聚合性单体为(甲基)丙烯酸酯化合物。优选在组合物中含有10~99重量％范围的所述聚合性单体，更优选含有5099重量°/。范围的所述聚合性单体。(多官能低聚物或聚合物)对于本发明的组合物而言，为了进一步提高交联密度，在达到本发明的目的的范围内可以配合分子量比上述多官能的其它聚合性单体还大的多官能低聚物或聚合物。作为具有光自由基聚合性的多官能低聚物，可举出聚酯丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、聚环氧基丙烯酸酯等各种丙烯酸酯低聚物。((B)光聚合引发剂)本发明的组合物中使用光聚合引发剂。对于本发明中使用的光聚合引发剂，在所有的组合物中例如含有0.1~15质量％，优选为0.2~12质量％，更优选为0.310质量％。使用2种以上光聚合引发剂时，其合计量为上述范围。通过使光聚合引发剂的比例为0.1质量％以上，感度(迅速固化性)、析像性、线边缘粗糙度、涂膜强度具有提高的倾向，因此优选。另外，通过使光聚合引发剂的比例为15质量％以下，透光性、着色性、操作性等具有提高的倾向，因此优选。目前为止，对含有染料和/或颜料的喷墨用组合物及液晶显示器滤色片用组合物中优选的光聚合引发剂和/或光产酸剂的添加量进行了各种研究，但却没有对纳米压印用等纳米压印甩固化性组合物中优选的光聚合引发剂和/或光产酸剂的添加量进行报道。即，在含有染料和/或颜料的体系中，它们有时作为自由基捕获剂起作用，对光聚合性、感度有影响。考虑到这一点，在这些用途中，将光聚合引发剂的添加量最优化。另一方面，在本发明的组合物中，染料和/或颜料不是必要成分，光聚合引发剂的最优选的范围有时与喷墨用组合物及液晶显示器滤色片用组合物等领域中的不同。对于本发明中使用的光聚合引发剂，配合对所使用的光源的波长具有活性的光聚合引发剂，使用产生适当的活性成分的光聚合引发剂。另外，光聚合引发剂可以仅使用l种，也可以使用2种以上。本发明中可使用的自由基光聚合引发剂例如可以使用市售的引发剂。作为其例，可举出可以从汽巴(Ciba)公司获得的Irgacure(注册商标)2959(l-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-2-羟基-2-甲基-l-丙垸-l-酮)、Irgacure(注册商标)184(l-羟基环己基苯基甲酮)、Irgacure(注册商标)500(l-羟基环己基苯基甲酮、二苯甲酮)、Irgacure(注册商标)651(2,2-二甲氧基-l，2-二苯基乙烷-l-酮)、Irgacure(注册商标)369(2-苄基-2-二甲基氨基-l-(4-吗啉苯基)丁酮-1)、Irgacure(注册商标)907(2-甲基-l-[4-甲基硫代苯基]-2-吗啉丙垸-l-酮)、Irgacure(注册商标)819(双(2,4,6-三甲基苯甲酰)-苯基氧化膦)、Irgacure(注册商标)1800(双(2，6-二甲氧基苯甲酰)-2,4，4-三甲基-戊基氧化膦，1-羟基-环己基-苯基-甲酮)、Irgacure(注册商标)1800(双(2,6-二甲氧基苯甲酰)-2,4,4-三甲基-戊基氧化膦，2-羟基-2-甲基-l-苯基-l-丙烷-l-酮)、Irgacure(注册商标)OXE01(l,2-辛二醇，l-[4-(苯基硫代)苯基]-2-(邻苯甲酰肟))、Darocur(注册商标)1173(2-羟基-2-甲基-l-苯基-l-丙垸-l-酮)、Darocur(注册商标)1116、1398、1174及1020、CGI242(乙酮，l-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰)-9H-昨唑-3-基]-1-(邻乙酰基肟))；可以从巴斯夫(BASF)公司获得的LucirinTPO(2,4,6-三甲基苯甲酰二苯基氧化膦)、LucirinTPO-L(2,4,6-三甲基苯甲酰乙氧基苯基氧化膦)；ESACUR，可以从日本华嘉(Siberhegner)公司获得的ESACURE1001M(l-[4-苯甲酰苯基硫基]苯基)-2-甲基-2-(4-甲基苯基磺酰基)丙烷-l-酮；N-1414，可以从旭电化公司获得的ADEKAOPTOMER(注册商标)N-1414(咔唑苯酮系)、ADEKAOPTOMER(注册商标)N-1717(吖啶系)、ADEKAOPTOMER(注册商标)N-1606(三嗪系)；三和化学制的TFE-三嗪(2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-4，6-双(三氯甲基)-l，3,5-三嗪)、三和化学制的TME-三嗪(2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲基)-l,3,5-三嗪)、三和化学制的MP-三嗪(2-(4-甲氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)-l,3，5-三嗪)；绿色UK"化学制的TAZ-113(2-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-4，6-双(三氯甲基)-l，3,5-三嗪)、绿色化学制的TAZ-108(2-(3,4-二甲氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)-l,3，5-三嗪)、二苯甲酮、4,4，-双(二乙基氨基)二苯甲酮、甲基-2-二苯甲酮、4-苯甲酰-4'-甲基二苯基硫化物、4-苯基二苯甲酮、工于少^匕，一乂亇卜y、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、4-异丙基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、l-氯-4-丙氧基噻吨酮、172-甲基噻吨酮、噻吨酮铵盐、苯偶姻、4,4'-二甲氧基苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻异丁基醚、苯偶酰二甲縮酮、l,l，l-三氯苯乙酮、二乙氧基苯乙酮及二苯并环庚烯酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、2-苯甲酰萘、4-苯甲酰联苯、4-苯甲酰二苯基醚、1，4-苯甲酰苯、二苯甲酰、10-丁基-2-氯吖啶酮、[4-(甲基苯基硫代)苯基]苯基甲烷)、2-乙基蒽醌、2,2-双(2-氯苯基)-4,5,4，，5，-四(3，4，5-三甲氧基苯基)-1,2，-双咪唑、2,2-双(邻氯苯基)-4,5，4，,5，-四苯基-l,2，-双咪唑、三(4-二甲基氨基苯基)甲烷、乙基_4-(二甲基氨基)苯甲酸酯、2-(二甲基氨基)乙基苯甲酸酯、丁氧基乙基-4-(二甲基氨基)苯甲酸酯等。本发明的用于引发聚合的光不仅包含紫外光、近紫外光、远紫外光、可见光、红外光等区域的波长的光或电磁波，还包含放射线，放射线包含例如微波、电子射线、EUV、X射线。另外，还可以使用248nm准分子激光、193nm准分子激光、172nm准分子激光等激光。这些光可以使用通过光学过滤器的单色光(单一波长光)，也可以使用多个波长不同的光(复合光)。对于曝光，可以进行多重曝光，为了使膜强度、耐蚀刻性提高等，也可以在形成图案后再进行全面曝光。本发明中使用的光聚合引发剂需要根据所使用的光源的波长适时选择，优选在模具加压和曝光中不产生气体的光聚合引发剂。如果产生气体，则模具受到污染，从而会产生以下问题必须频繁地清洗模具，本发明的纳米压印用固化性组合物在模具内变形，转印图案精度变差等。不产生气体的光聚合引发剂不易使模具受到污染，模具的清洗频率减小，并且本发明的纳米压印用固化性组合物不易在模具内变形，因此不易使转印图案精度变差，从这些观点考虑，是优选的。((C)阻聚剂)本发明的组合物中使用用于提高保存稳定性的阻聚剂。阻聚剂是具有在聚合引发剂或者聚合性单体产生的自由基引发增长反应之前将其自由基俘获的能力的化合物，其具有阻碍聚合的作用。通常，由于担心感度不良，因此优选在光固化性组合物中不添加阻聚剂，对于纳米压印用组合物，由于担心图案形成性变差，更不优选添加阻聚剂。在本发明的组合物中，以改善长时间的保存稳定性为目的而添加阻聚剂，但可知，并没有发生所担心的固化不良，在纳米压印中可以维持良好的特性。并且发现，通过添加特定量的聚合引发剂，可以获得固化膜的基板密合性提高的事先未预料到的效果。由此，即使对以纳米级来要求图案精度的纳米压印用组合物添加阻聚剂，也不引起固化不良，并且在经过6个月长的时间后，也可以形成以纳米压印领域中的基准计为良好的图案，这与一直以来的常识性推测相反，是预想外的效果。并且，对于基板密合性通过阻聚剂而得到提高这一点，不仅以前没有研究过，而且也没有预想过，这是在本申请中首次发现的显著的效果。作为本发明中使用的阻聚剂，例如，可以使用芳香族多元醇系化合物、醌系化合物、受阻酚系化合物、胺系化合物、铜类及N-氧自由基系化合物等。这里，在本说明书中，所述"芳香族多元醇系化合物"表示在芳香环上具有至少2个酚羟基的化合物及该羟基被取代而得到的衍生物，并且，为衍生物时，具有至少1个未取代的酚羟基。另外，芳香环的其它氢原子可以被取代，也可以不被取代，优选不被取代。所述芳香环的碳数优选为614，更优选为610。另外，所述酚羟基的数目优选为24，更优选为2个。作为这样的芳香族多元醇系化合物，例如可举出氢醌类、4-甲氧基苯酚、4-甲氧基-l-萘酚、儿茶酚类等，其中，优选对叔丁基儿茶酚、4-甲氧基苯酚及4-甲氧基-l-萘酚，更优选4-甲氧基苯酚及4-甲氧基-l-萘酚。本说明书中，所述"醌系化合物"表示醌类及其衍生物。作为这样的醌系化合物，例如可举出萘醌及苯醌等，其中，优选苯醌。在本说明书中，所述"受阻酚系化合物"表示下述化合物及其衍生物，所述化合物的特征在于，在苯环上具有1个酚羟基，苯环的2位及6位均为体积大的垸基(氢原子及甲基除外)，并且，苯环的其它氢原子上不直接键合氧原子。作为这样的烷基酚系化合物，例如可举出2,6-二叔丁基苯酚、2-叔丁基-4,6-二甲基苯酚、2，6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2，4,6-三叔丁基苯酚等，其中，优选2,6-二叔丁基苯酚及2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚。在本说明书中，所述"N-氧自由基系化合物"表示具有如下基团的化合物，所述基团为像CO-N键这样的具有可以将自由基增长末端暂时作为共价键种而稳定化的-N-O-键的基团。作为这样的N-氧自由基系化合物，例如可举出2，2,6,6-四甲基哌啶-N-氧自由基、4-羟基-2,2,6,6-四甲基哌啶-N-氧自由基、4-苯甲酰氧基-2,2，6，6-四甲基哌啶-N-氧自由基、1，4-二羟基-2,2,6，6-四甲基哌啶-^氧自由基、4-乙酰胺-2，2,6,6-四甲基哌啶-N-氧自由基、N-亚硝基苯胲铵盐、N-亚硝基苯胲铝盐等，其中，优选2,2,6,6-四甲基哌啶-N-氧自由基、4-羟基-2，2,6,6-四甲基哌啶-N-氧自由基。在本说明书中，所述"胺系化合物"是指用取代或未取代的烃基取代至少一个氨的氢原子而得到的化合物。本发明的胺系化合物可以为伯胺、仲胺、叔胺中的任一种。另外，所述烃基可以形成环，形成的环可以为烃环，也可以为杂环。另外，优选在氮原子的附近不存在体积大的烷基。作为这样的胺系化合物，可举出烷基化二苯基胺、N,N'-二苯基-对亚苯基二胺、吩噻嗪、吩噁嗪、4-羟基-2，2，6，6-四甲基哌啶、4-苯甲酰氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶、1，4-二羟基-2,2,6，6-四甲基哌啶等，其中，优选4-羟基-2，2，6,6-四甲基哌啶、吩噻嗪及吩噁嗪，特别优选吩噻嗪及吩噁嗪。在本说明书中，所述"铜类"表示无机或有机铜类。作为这样的铜类，可举出二甲基二硫代氨基甲酸铜(CopperDimethyldithiocarbamate)、二乙基二硫代氨基甲酸铜、二丁基二硫代氨基甲酸铜、硫酸铜等，其中，更优选二乙基二硫代氨基甲酸铜。其中，从对聚合性单体的溶解性及溶解时的着色的观点考虑，优选所述芳香族多元醇系化合物、所述受阻酚系化合物、所述N-氧自由基系化合物及所述胺系化合物。另外，更优选所述芳香多元醇系化合物及所述胺系化合物。在本发明中，所述阻聚剂的添加量以相对于本发明的聚合性单体量以重量计为300ppm5Q/。(50000ppm)的比例配合。所述阻聚剂添加量优选为1000ppm~5%，更优选为2000ppm5%，特别优选为5000ppm~5%。如果所述阻聚剂的添加量相对于聚合性单体量以重量计为300ppm以上，则可以防止经时增粘及图案精度变差，如果以重量计为5%以下，则则对光固化性组合物的照射光的感度充分。另外，如果所述阻聚剂的添加量以相对于聚合性单体量以重量计为1000ppm~5%，则除上述效果以外，基板密合性提高，因此优选，如果为2000ppm~5%，则基板密合性进一步提高，因此更优选，如果为205000ppm~5%，则基板密合性再进一步提高，因此特别优选。(表面活性剂)在本发明的组合物中，可以含有表面活性剂。本发明中使用的表面活性剂在所有的组合物中，例如含有0.001~5质量％，优选为0.002-4质量％，更优选为0.0053质量％。使用2种以上表面活性剂时，其合计量为上述范围。由于表面活性剂在组合物中小于0.001质量％时，涂布的均匀性效果不充分，另一方面，超过5质量％时，使模具转印特性变差，因此不优选。表面活性剂优选包含氟系表面活性剂、硅酮系表面活性剂及氟*硅酮系表面活性剂中的至少1种，更优选包含氟系表面活性剂和硅酮系表面活性剂二者或氟硅酮系表面活性剂，最优选包含氟硅酮系表面活性剂。这里，氟，硅酮系表面活性剂是指同时具有氟系表面活性剂及硅酮系表面活性剂这两个主要成分的表面活性剂。通过使用这样的表面活性剂，可以解决将本发明的组合物涂布在形成有半导体元件制造用硅片或液晶元件制造用角型玻璃基板、铬膜、钼膜、钼合金膜、钽膜、钽合金膜、氮化硅膜、非晶硅膜、掺杂有氧化锡的氧化铟(ITO)膜或氧化锡膜等各种膜等的基板上时引起的条痕或鱼鳞状模样(抗蚀剂膜的干燥不均)等涂布不良问题，并且可以使组合物在模具凹部的模槽内的流动性良好、模具与抗蚀剂之间的剥离性良好、抗蚀剂与基板之间的密合性良好、组合物的粘度降低。作为本发明中使用的非离子性氟系表面活性剂的例子，可举出商品名福拉兜(7口，一K)FC-430、FC-431(住友3M公司制)，商品名撒氟窿(廿一7口/)"S-382"(旭硝子公司制)，EFTOP"EF-122A、122B、122C、EF画121、EF-126、EF-127、MF-100"(投凯穆卜牢达库池(卜一々厶7。口夕、、夕、乂)公司制)，商品名PF-636、PF-6320、PF-656、PF-6520(均为OMNOVA公司制)，商品名福塔晶特(7夕一^工乂卜)FT250、FT251、DFX18(均为NEOS株式会社制)，商品名UnidyneDS-401、DS-403、DS-451(均为Daikin株式会社制)，商品名美嘎法可(>力、77、7夕)171、172、173、178K、178A、F780F(均为大日本油墨化学工业社制)，作为非离子性硅系表面活性剂的例子，可举出商品名SI-10系列、帕依噢宁一才二y)D6315(均为竹本油脂公司制)，美嘎法可湃印塔豆(乂力、77、乂夕X一y夕、7K)31(大日本油墨化学工业公司制)，KP-341(信越化学工业公司制)。作为本发明中使用的氟*硅酮系表面活性剂的例子，可举出商品名X-70-090、X-70-091、X-70-092、X-70-093(均为信越化学工业公司制)，商品名美嘎法可R-08、XRB-4(均为大日本油墨化学工业公司制)。作为本发明的组合物中使用的表面活性剂，从电压保持率的观点考虑，优选非离子性(非离子系)的表面活性剂。(抗氧化剂)在本发明的组合物中进一步含有公知的抗氧化剂。对于本发明中使用的抗氧化剂，在所有的组合物中例如含有0.01-10质量％，优选为0.02~5质量％。使用2种以上抗氧化剂时，其合计量为上述范围。抗氧化剂是具有俘获氧自由基的能力且抑制由热及光照射引起的褪色及由臭氧、活性氧、NOx、SOx(X为整数傳各种氧化性气体引起的褪色的抗氧化剂。特别是在本发明中，通过添加抗氧化剂，具有可以防止固化膜着色或可以减少由分解引起的膜厚减少的优点。作为这样的抗氧化剂，可举出酰肼类、受阻胺系抗氧化剂、含氮杂环巯基系化合物、硫醚系抗氧化剂、受阻酚系抗氧化剂、抗坏血酸类、硫酸锌、硫氰酸盐类、硫脲衍生物、糖类、亚硝酸盐、亚硫酸盐、硫代硫酸盐、羟胺衍生物等。其中，从固化膜着色、膜厚减少的观点考虑，特别优选受阻酚系抗氧化剂、硫醚系抗氧化剂。作为抗氧化剂的市售品，可举出Irganox1010、1035、1076、1222(以上为ciba-geigy(于,力V年'一)株式会社制)、AntigeneP、3C、FR、Sumilizer(7$，一廿一)S、SumilizerGA80(住友化学工业制)、Adekastab(7f力7夕7、、)AO70、AO80、AO503(株式会社ADEKA(7f力)制)等，它们可以单独使用，也可以混合使用。(其它成分)除上述成分外，本发明的组合物中还可以根据需要添加脱模剂、有机金属偶联剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、抗老化剂、增塑剂、密合促进剂、热聚合引发剂、着色剂、弹性体粒子、光增感剂、光产酸剂、光产碱剂、碱性化合物、链转移剂。以下将对它们进行说明。这里，还可以添加其它的流变调节剂、消泡剂、分散剂等。为了进一步提高剥离性，可以在本发明的组合物中任意地配合脱模剂。具体而言，是以下述为目的而添加的，所述目的为能以不使树脂层产生面粗糙及版面脱落的方式剥离挤压在本发明的组合物的层上的模具。作为脱模剂，以往公知的脱模剂例如硅酮系脱模剂、聚乙烯蜡、酰胺蜡、特富龙(Teflon)粉末(特富龙是注册商标)等固态蜡、氟系、磷酸酯系化合物等均可以使用。另外，也可以使这些脱模剂事先附着在模具中。硅酮系脱模剂在与本发明中使用的所述光固化性树脂组合时，从模具剥离的剥离性特别好，不易产生版面脱落现象。硅酮系脱模剂是以有机聚硅氧烷结构为基本结构的脱模剂，例如有未改性或改性硅油、含有三甲基硅氧基硅酸的聚硅氧烷、硅酮系丙烯酸树脂等，还可以使用通常在硬质涂层用组合物中使用的硅酮系流平剂。改性硅油是将聚硅氧烷的侧链和/或末端改性而得到的硅油，分为反应性硅油和非反应性硅油。作为反应性硅油，可举出氨基改性、环氧基改性、羧基改性、甲醇改性、甲基丙烯酸基改性、巯基改性、酚改性、单末端反应性、特异官能团改性等。作为非反应性硅油，可举出聚醚改性、甲基苯乙烯基改性、垸基改性、高级脂肪酯改性、亲水性特殊改性、高级烷氧基改性、高级脂肪酸改性、氟改性等。一个聚硅氧垸分子可以进行2种以上如上所述的改性方法。改性硅油优选与组合物成分具有适度的相溶性。特别是使用对组合物中根据需要而配合的其它涂膜形成成分具有反应性的反应性硅油时，由于其通过化学键而固定于将本发明的组合物固化了的固化膜中，因此，不易引起该固化膜的密合性阻碍、污染、老化等问题。对提高蒸镀工序中与蒸镀层的密合性特别有效。另外，为(甲基)丙烯酰基改性硅酮、乙烯基改性硅酮等用具有光固化性的官能团进行改性了的硅酮时，由于与本发明的组合物交联，因此固化后的特性优异。含有三甲基硅氧基硅酸的聚硅氧烷容易渗出到表面，剥离性优异，并且即使渗出到表面，密合性也优异，金属蒸镀及与覆盖层的密合性也优异，因此优选。上述脱模剂可以仅添加1种或者组合2种以上添加。将脱模剂添加到本发明的组合物中时，优选以相对于组合物总量为0.001~10质量％的比例配合，更优选以0.01~5质量％的范围添加。脱模剂的比例小于上述范围时，提高模具与纳米压印用固化性组合物层的剥离性的效果容易变得不充分。另一方面，脱模剂的比例超过上述范围时，产生由涂布组合物时的弹跳引起的涂膜面粗糙的问题，阻碍制品中基材自身及附近的层例如蒸镀层的密合性，在转印时产生薄膜破裂等(膜强度变得过弱)等，因此不优选。通过将脱模剂的比例设定为0.01质量％以上，提高模具和纳米压印用固化性组合物层的剥离性的效果变充分。另一方面，将脱模剂的比例设定在10质量％以内时，不易产生由涂布组合物时的弹跳引起的涂膜面粗糙问题，不易阻碍制品中基材自身及附近的层例如蒸镀层的密合性，在转印时不易引起薄膜破裂等(膜强度变得过弱)等，因此优选。为了提高具有微细凹凸图案的表面结构的耐热性、强度或者与金属蒸镀层的密合性，还可以在本发明的组合物中配合有机金属偶联剂。另外，有机金属偶联剂还具有促进热固化反应的效果，因此是有效的。作为有机金属偶联剂，例如可以使用硅烷偶联剂、钛偶联剂、锆偶联剂、铝偶联剂、锡偶联剂等各种偶联剂。作为本发明的组合物中使用的硅垸偶联剂，例如可举出乙烯基三氯硅垸、乙烯基三(J3-甲氧基乙氧基)硅烷、乙烯基三乙氧基硅垸、乙烯基三甲氧基硅烷等乙烯基硅烷rY-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅垸；P_(3，4-乙氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷、，縮水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、Y-縮水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基硅烷等乙氧基硅烷；N-p-(氨基乙基)-Y-氨基丙基三甲氧基硅垸、N-(3-(氨基乙基)-Y-氨基丙基甲基二甲氧基硅垸、y-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-苯基-Y-氨基丙基三甲氧基硅烷等氨基硅烷；及作为其它的硅烷偶联剂的Y-巯基丙基三甲氧基硅烷、Y-氯丙基甲基二甲氧基硅垸、Y-氯丙基甲基二乙氧基硅烷等。作为钛偶联剂，例如可举出异丙基三异硬酯酰基钛酸酯、异丙基三(十二烷基苯磺酰基)酞酸酯、异丙基三(焦磷酸二辛酯)酞酸酯、四异丙基双(亚磷酸二辛酯)酞酸酯、四辛基双(亚磷酸双十三烷基酯)酞酸酯、四(2，2-二烯丙氧基甲基)双(双十三烷基)亚磷酸酯酞酸酯、双(焦磷酸二辛酯)羟乙酸酯酞酸酯、双(焦磷酸二辛酯)亚乙烯酞酸酯、异丙基三辛酰基酞酸酯、异丙基二甲基丙烯酸基异硬酯酰基钛酸酯、异丙基异硬酯酰基二丙烯酸基酞酸酯、异丙基三(磷酸二辛酯)酞酸酯、异丙基三枯基苯基酞酸酯、异丙基三(N-氨基乙基'氨基乙基)酞酸酯、二枯基苯基羟乙酸酯酞酸酯、二异硬酯酰基乙撑酞酸酯等。作为锆偶联剂，例如可举出四正丙氧基锆、四丁氧基锆、四乙酰基丙酮锆、二丁氧基双(乙酰丙酮)锆、三丁氧基乙基乙酰乙酸锆、丁氧基乙酰丙酮双(乙基乙酰乙酸)锆等。作为铝偶联剂，例如可举出异丙醇铝、单仲丁氧基二异丙氧基铝(Mono-sec-butoxyaluminum-diisopropylate)、仲丁醇f吕、乙醇铝、乙酰乙酸乙酉旨二异丙氧基铝(Ethylacetoacetatealuminumdiisopropylate)、三(乙基乙酰乙酸)铝、乙酰乙酸烷基酯二异丙氧基铝、单乙酰丙酮双(乙基乙酰乙酸)铝、三(乙酰基乙酰乙酸)铝等。上述有机金属偶联剂可以以相对于纳米压印用固化性组合物的固体成分总量为0.00110质量％的比例任意地配合。通过使有机金属偶联剂的比例为0.001质量％以上，耐热性、强度、与蒸镀层的密合性的赋予的提高具有变得更有效的倾向。另一方面，通过使有机金属偶联剂的比例为10质量％以下，具有可以抑制组合物缺乏稳定性、成膜性的倾向，因此优选。作为紫外线吸收剂的市售品，可举出TinuvinP、234、320、326、327、328、213(以上为Ciba-geigy株式会社制)，Sumisorb110、130、140、220、250、300、320、340、350、400(以上为住友化学工业株式会社制)等。紫外线吸收剂优选以相对于纳米压印用固化性组合物的总量为0.01~10质量％的比例任意配合。作为光稳定剂的市售品，可举出Tinuvin292、144、622LD(以上为Ciba-geigy株式会社制)，撒瑙璐(廿乂一/WLS-770、765、292、2626、1114、744(以上为三共化成工业株式会社制)等。光稳定剂优选以相对于组合物总量为0.01~10质量％的比例配合。作为抗老化剂的市售品，可以举出AntigeneW、S、P、3C、6C、RD一G、FR、AW(以上由住友化学工业株式会社制)等。抗老化剂优选以相对于组合物的总量0.0110质量％的比例配合。为了调节与基板的粘接性及膜的柔软性、硬度等，可以在本发明的组合物中添加增塑剂。作为优选的增塑剂的具体例，例如有邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸双十二烷基酯、二缩三甘醇二辛酸酯、邻苯二甲酸二甲基乙二醇酯、磷酸三甲酚酯、己二酸二辛酯、癸二酸二丁酯、三醋酸甘油酯、己二酸二甲酯、己二酸二乙酯、己二酸二正丁酯、辛二酸二甲酯、辛二酸二乙酯、辛二酸二正丁酯等，增塑剂可以以相对于组合物为30质量％以下的比例任意添加。优选为20质量％以下，更优选为10质量％以下。为了得到添加增塑剂的效果，优选为0.1质量％以上。为了调节与基板的粘接性等，可以在本发明的组合物中添加密合促进剂。作为密合促进剂，可以使用苯并咪唑类及聚苯并咪唑类、低级羟基烷基取代吡啶衍生物、含氮杂环化合物、尿素或硫脲、有机磷化合物、8-羟基喹啉、4-羟基蝶啶、l，lO-菲罗啉、2，2，-联吡啶衍生物、苯并三唑类、有机磷化合物和亚苯基二胺化合物、2-氨基-l-苯基乙醇、N-苯基乙醇胺、N-乙基二乙醇胺、N-乙基二乙醇胺、N-乙基乙醇胺及衍生物、苯并噻唑衍生物等。密合促进剂优选为组合物中的20质量％以下，更优选为10质量％以下，进一步优选为5质量％以下。为了获得添加密合促进剂的效果，优选为0.1质量。/。以上。在使本发明的组合物固化时，还可以根据需要添加热聚合引发剂。作为优选的热聚合引发剂，例如可举出过氧化物、偶氮化合物。作为具体例，可举出过氧化苯甲酰、过氧化苯甲酸叔丁酯、偶氮二异丁腈等。为了提高涂膜的可见性等，可以在本发明的组合物中任意地添加着色剂。在不损害本发明的目的的范围内，着色剂可以使用UV喷墨组合物、滤色片用组合物及CCD图像传感器用组合物等中使用的颜料及染料。作为本发明中可以使用的颜料，可以使用以往公知的各种无机颜料或有机颜料。作为无机颜料，为金属氧化物、金属络合盐等表示的金属化合物，具体可以举出铁、钴、铝、镉、铅、铜、钛、镁、铬、锌、锑等的金属氧化物、金属复合氧化物。作为有机颜料，可例示C丄PigmentYellow11，24，31，53，83，99，108，109，110，138，139，151，154，167;C丄PigmentOrange36，38，43;C.I.PigmentRed105、122、149、150、155、171、175、176、177、209;C丄PigmentViolet19，23，32，39;C丄PigmentBlue1，2，15，16，22，60，66;C丄PigmentGreen7，36，37;C.I.PigmentBrown25，28;C.I.PigmentBlack1，7及碳黑。着色剂优选以相对于组合物的总量为0.0012质量％的比例配合。另外，在本发明的组合物中，为了使机械强度、柔软性等提高等，还可以添加弹性体粒子作为任意成分。对于可以作为任意成分添加到本发明的组合物中的弹性体粒子，平均粒子尺寸优选为10nm700nm，更优选为30~300nm。例如为聚丁二烯、聚异戊二烯、丁二烯/丙烯腈共聚物、苯乙烯/丁二烯共聚物、苯乙烯/异戊二烯共聚物、乙烯/丙烯共聚物、乙烯/a-烯烃系共聚物、乙烯Ax-烯烃/多烯共聚物、丙烯酸酯橡胶、丁二烯/(甲基)丙烯酸酯共聚物、苯乙烯/丁二烯嵌段共聚物、苯乙烯/异戊二烯嵌段共聚物等弹性体的粒子。另外，可以使用以甲基丙烯酸甲酯聚合物、甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸縮水甘油酯共聚物等覆盖这些弹性体粒子而得的芯/壳型粒子。弹性体粒子可以采用交联结构。作为弹性体粒子的市售品，例如可举出Resinousbond(k"于7求乂K)RKB(Resinous化成株式会社制)，Techno(亍夕乂)MBS-61、MBS-69(以上为TechnoPolymer株式会社制)等。这些弹性体粒子可以单独使用，也可以组合物2种以上使用。本发明的组合物中的弹性体成分的含有比例优选为1~35质量％，更优选为230质量％，特别优选为320质量％。进一步，在本发明的组合物中，除光聚合引发剂以外，还可以添加光增感剂，调节UV区域的波长。作为本发明中可以使用典型的增感剂，可举出Crivello(夕U《口)[J.V,Crivello，Adv.inPolymerSci,62，1(1984)]中公开的增感剂，具体可举出芘、茈、吖啶橙、噻吨酮、2-氯噻吨酮、苯并黄素、N-乙烯基咔唑、9，10-二丁氧基蒽、蒽醌、香豆素、香豆素酮、菲、樟脑醌、吩噻嗪衍生物等。本发明的组合物中的光增感剂的含有比例优选为组合物中的15质量%以下，更优选为8质量％以下，特别优选为5质量％以下。光增感剂的含有比例的下限没有特别限定，为了获得添加光增感剂的效果，光增感剂的含有比例的下限为0.1质量％左右。为了促进光固化反应等，还可以在本发明的组合物中添加通过接收紫外线等能量射线而引发光聚合的光产酸剂。作为所述光产酸剂，可举出美国专利第4139655号说明书中记载的硫代吡喃盐、铁/丙二烯络合物、铝络合物/光分解硅化合物系引发剂、使卤化氢产生光的卤化物、邻硝基苄酯化合物、酰亚胺磺酸酯化合物、双磺酰基重氮甲烷化合物、肟磺酸酯化合物。作为本发明中可以使用的光产酸剂，例如可以广泛采用化学增幅型光致抗蚀剂及光阳离子聚合中使用的化合物(参照成像用有机材料，有机电子材料研究会编，文伸出版(1993年)，187192页)。这些化合物可以与THECHEMICALSOCIETYOFJAPANVoi.71No.11(1998年)、成像用有机材料(有机电子材料研究会编，文伸出版(1993年))中记载的光产酸剂相同，通过公知的方法容易地合成。作为光产酸剂的市售品，可举出IRGACURE261、IRGACUREOXEOl、IRGACURECGI-1397(以上为汽巴精化株式会社制)等。上述光产酸剂可以单独使用1种，也可以组合2种以上使用。另外，上述产酸剂可以与所述光聚合引发剂组合使用。这时，光产酸剂在0.053.0质量°/。的范围使用，光聚合引发剂和光产酸剂的合计优选在0.515.0质量％的范围内使用。为了调节图案形状、感度等，本发明的组合物可以根据需要添加光产碱剂。例如可举出以下优选的例子2-硝基苄基环己基氨基甲酸酯、三苯基甲醇、邻氨基甲酰基羟基酰胺、邻氨基甲酰基肟、[[(2,6-二硝基苄基)氧基]羰基]环己基胺、双[[(2-硝基苄基)氧基]羰基]-己烷-l,6-二胺、4-(甲基硫代苯甲酰H-甲基-l-吗啉乙烷、(4-吗啉苯甲酰)-l-苄基-l-二甲基氨基丙垸、N-(2-硝基苄基氧基羰基)吡咯烷、六氨合钴(ni)三(三苯基甲基硼酸)、2-苄基-2-二甲基氨基-l-(4-吗啉苯基)-丁酮、2，6-二甲基-3,5-二乙酰基-4-(2，-硝基苯基)-l,4-二氢吡啶、2,6-二甲基-3，5-二乙酰基-4-(2，,4，-二硝基苯基)-1,4-二氢吡啶等。为了抑制固化收縮、提高热稳定性等，本发明的组合物中还可以任意>添加碱性化合物。作为碱性化合物，可举出胺、以及喹啉及喹嗪等含氮杂环化合物、碱性碱金属化合物、碱性碱土类金属化合物等。其中，从与聚合性单体的相溶性方面考虑，优选胺，例如可举出辛胺、萘胺、邻苯二甲胺、二苄胺、二苯胺、二丁胺、二辛胺、二甲基苯胺、喹核碱、三丁胺、三辛胺、四甲基乙二胺、四甲基-l，6-六亚甲基二胺、六亚甲基四胺及三乙醇胺等。为了提高光固化性，还可以在本发明的组合物中添加链转移剂。具体可举出4-双(3-巯基丁酰氧基)丁垸、1,3,5-三(3-巯基丁氧基乙基)-1,3，5-三嗪一2，4,6-(lH、3H、5H)-三酮、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)。(有机溶剂)本发明的组合物中，有机溶剂的含量占全组合物的3质量。^以下。即，本发明的组合物优选将特定的1官能和/或2官能的单体作为反应性稀释剂含有，因此，用于使本发明的组合物的成分溶解的有机溶剂不必需要含有。另外，若不含有机溶剂，就不需要以溶剂的挥发为目的的烘烤工序，因此，具有有助于工序简单化的优点。因此，在本发明的组合物中，有机溶剂的含量优选为3质量％以下，更优选为2质量％以下，特别优选不含有。如上所述，虽然本发明的组合不必含有有机溶剂，但在反应性稀释剂中，在以不溶解的化合物等作为本发明的组合物而将其溶解时或微调粘度时，也可以任意地添加。本发明的组合物中优选使用的有机溶剂的种类，为纳米压印用固化性组合物或光刻中通常使用的溶剂，只要能够将本发明中使用的化合物溶解并均一地分散，且不与这些成分反应即可，没有特殊的限制。作为所述有机溶剂，例如可举出甲醇、乙醇等醇类；四氢呋喃等醚类；乙二醇单甲醚、乙二醇二甲醚、乙二醇甲基乙基醚、乙二醇单乙醚等乙二醇醚类；甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯等乙二醇垸基醚乙酸酯类；二甘醇单甲醚、二甘醇二乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇乙基甲基醚、二甘醇单乙醚、二甘醇单丁醚等二甘醇类；丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯等丙二醇烷基醚乙酸酯类；甲苯、二甲苯等芳香族烃类；丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮、2-庚酮等酮类；2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、乙氧基醋酸乙酯、羟基醋酸乙酯、2-羟基-2-甲基丁酸甲酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、醋酸乙酯、29醋酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等乳酸酯类等酯类等。进一步，还可以添加N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰苯胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、节基乙基醚、二己基醚、丙酮基丙酮、异佛尔酮、己酸、辛酸、1-辛醇、l-壬醇、苄醇、醋酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、Y-丁内酯、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯、苯基溶纤剂乙酸酯等高沸点溶剂。它们可以单独使用l种，也可以并用2种以上。其中，特别优选甲氧基丙二醇乙酸酯、2-羟基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乳酸乙酯、环己酮、甲基异丁基酮、2-庚酮等。(粘度)下面对本发明的组合物的粘度进行说明。本发明中的粘度在没有特别说明的情况下指25。C下的粘度。对于本发明的组合物，除去了溶剂的组合物在25'C下的粘度为3~18mPas，优选为5~15mPas，更优选为7~12mPa"。通过使本发明的组合物的粘度为3mPa"以上，具有不易产生基板涂布适合性的问题及膜的机械强度降低的倾向。具体而言，通过使粘度为3mPa，s以上，具有可以抑制涂布组合物时在面上产生不均匀或涂布时组合物从基板流出来的倾向，因此优选。另一方面，通过使本发明的组合物的粘度为18mPa，s以下，即使在使具有微细的凹凸图案的模具与组合物密合的情况下，组合物也流入模具凹部的模槽内，且大气不易进入其中，因此，不易引起泡沫缺陷，在模具凸部，在光固化后不易残留残渣，因此优选。(表面张力)本发明的组合物优选表面张力在18~30mN/m的范围内，更优选在2028mN/m的范围内。通过设定为这样的范围，可以获得提高表面平滑性的效果。(水分量)这里，对于本发明的组合物，制备时的水分量优选为2.0质量％以下，更优选为1.5质量％，进一步优选为1.0质量％以下。通过使制备时的水分量为2.0质量％以下，可以使本发明的组合物的保存性更稳定。(制备)本发明的组合物可以通过在将上述各成分混合后用例如孔径为0.05pm5.(^m的过滤器进行过滤而制备成溶液。所述纳米压印用固化性组合物的混合和溶解通常在0。C10(TC的范围进行。过滤可以分多个步骤来进行，也可以重复多次。另外，还可以将过滤得到的溶液进行再次过滤。对于过滤所使用的材质，可以使用聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、氟树脂、尼龙树脂等，没有特别限定。[固化膜]以下对使用了本发明的组合物的本发明的固化膜(特别是微细凹凸图案)进行说明。本发明中，通过涂布本发明的组合物并进行固化，可以形成本发明的固化膜。另外，通过在基板或支撑体上涂布本发明的组合物，将包含该组合物的层曝光、固化，并根据需要进行干燥(烘烤)，可以制作覆盖层及绝缘膜等永久膜。对于液晶显示器(LCD)等中使用的永久膜(结构部件用抗蚀剂)，为了不阻碍显示器的工作，优选极力避免抗蚀剂中混入金属或者有机物的离子性不纯物，作为其浓度，需要使其为1000ppm以下，优选使其为100ppm以下。液晶显示器(LCD)等中使用的永久膜(结构部件用抗蚀剂)在制造完毕后被装到加仑瓶或Coatbottle等容器中进行运输和保管，该情况下，为了防止老化，可以事先用惰性氮气或氩气等对容器内进行置换。另外，在运输和保管时，可以在常温下进行，但为了进一步防止永久膜变质，可以将温度控制在-2(TC0。C的范围内。并且，需要以反应不进行的程度进行避光。另外，本发明的固化物可以优选用作半导体集成电路、存储材料或者液晶显示装置用部件，其中，更优选用作液晶显示装置用部件，特别优选用作平板显示器等蚀刻抗蚀剂。以下对使用了本发明的组合物的固化膜的制造方法进行说明。本发明的组合物优选通过光或者光及热进行固化。具体而言，在基板或支撑体上涂布至少包含本发明的组合物的图案形成层，使溶剂干燥，形成包含本发明的组合物的层(图案形成层)，制作图案接收体，将模具压接在该图案接收体的图案形成层表面，进行转印模具图案的加工，对微细凹凸图案形成层进行光照射及加热，由此进行固化。通常来回进行多次光照射及加热。利用了本发明的固化膜的制造方法的纳米压印光刻可以层叠化及形成多重图案，也可以组合通常的热压印使用。本发明的固化物可以通过使用熟知的涂布方法例如浸渍涂布法、气刀涂布法、帘式涂布法、线棒涂布法、凹版印刷涂布法、挤压涂布法、旋涂法、狭缝扫描法等涂布本发明的组合物而形成。包含本发明的组合物的层的膜厚根据所使用的用途而不同，为0.05^im30^im。另外，本发明的组合物可以进行多重涂布。用于涂布本发明的组合物的基板或支撑体为石英，玻璃，光学膜，陶瓷材料，蒸镀膜，磁性膜，反射膜，Ni、Cu、Cr、Fe等金属基板，纸，SOG，聚酯膜、聚碳酸酯膜、聚酰亚胺膜等聚合物基板，TFT阵列基板，PDP电极板，玻璃及透明塑料基板，ITO及金属等导电性基材，绝缘性基材，硅、氮化硅、多晶硅、氧化硅、非晶硅等半导体制作基板等，没有特别限定。基板的形状可以为板状，也可以为辊状。作为使本发明的组合物固化的光，没有特别限定，可举出高能量电离放射线、近紫外、远紫外、可见、红外等区域的波长的光或放射线。作为高能量电离放射线源，通过例如科克克罗夫特(Cockcroft)型加速器、范氏加速器(VandeGraaffaccelerator)、直线加速器、电子感应加速器、回旋加速器等加速器进行加速的电子束在工业上使用最方便且经济，但也可以使用从放射性同位素或原子炉等放射出来的Y射线、X射线、a射线、中子射线、质子射线等放射线。作为紫外线源，例如可举出紫外线荧光灯、低压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、氙气灯、碳弧灯、太阳灯等。放射线包含例如微波、EUV。另外，LED、半导体激光或者248nm的KrF受激准分子激光器及193nmArF受激准分子激光器等半导体的微细加工中使用的激光也可以优选用于本发明中。这些光可以使用微光，也可以使用多个波长不同的光(混合光)。进行曝光时，优选将曝光照度设定为lmW/cmL50mW/cn^的范围。通过设定为lmW/cm2以上，可以縮短曝光时间，从而提高生产性，通过设定为50mW/cn^以下，具有可以抑制由产生副反应而引起的永久膜的特性变差的倾向，因此优选。曝光量优选设定为5mJ/cm21000mJ/cm2的范围。小于5mJ/cn^时，曝光范围变窄，光固化不充分，容易产生未反应物附着在模具上等的问题。另一方面，超过1000mJ/cn^时，可能会产生由组合物的分解引起的永久膜老化。而且，在曝光时，为了防止利用氧的自由基聚合的阻碍，优选流通氮气或氩气等惰性气体，并将氧的浓度控制在小于100mg/L。作为使本发明的组合物固化的热，优选为150280°C，更优选为200250°C。另外，作为赋予热的时间，优选为5~60分钟，更优选为15~45分钟。下面对本发明中可以使用的模具材料进行说明。在使用了本发明的组合物的光压印光刻中，模具材料和/或基板中的至少一个需要选择透光性材料。在本发明使用的光压印光刻中，在基板上涂布纳米压印用固化性组合物，并压接透光性模具，从模具的背面照射光，使纳米压印用固化性组合物固化。另外，可以在透光性基板上涂布纳米压印用固化性组合物，并压接模具，从模具的背面照射光，使纳米压印用固化性组合物固化。光照射可以在附着有模具的状态下进行，也可以在剥离模具后进行，本发明中，优选在密合有模具的状态下进行。本发听中可以使用的模具使用具有要被转印的图案的模具。模具例如可以通过光光刻或电子束光刻等根据所希望的加工精度形成图案，但在本发明中，模具图案形成方法没有特别限定。本发明中使用的透光性模具材料没有特别限定，为具有规定的强度、耐久性的透光性模具材料即可。具体而言，可例示玻璃、石英、PMMA、聚碳酸酯树脂等透光性树脂、透明金属蒸镀膜、聚二甲基硅氧烷等柔软膜、光固化膜、金属膜等。作为在使用了本发明的透明基板的情况下使用的非透光型模具材料，没有特别限定，为具有规定的强度的非透光型模具材料即可。具体而言，可例示陶瓷材料，蒸镀膜，磁性膜，反射膜，Ni、Cu、Cr、Fe等金属33基板，SiC、硅、氮化硅、多晶硅、氧化硅、非晶硅等基板等，没有特别限定。模具的形状可以为板状、辊状中的任一种。辊状模具特别适用于需要转印的连续生产性的情况。为了提高本发明的组合物与模具的剥离性，上述本发明中使用的模具可以使用进行了脱模处理的模具。可以优选使用利用硅酮系或氟系等硅烷偶联剂进行处理了的脱模剂，例如Daikin工业制的Optool(才7。、乂一》)DSX及住友3M制的NovecEGC-1720等市售的脱模剂。使用本发明的固化膜的制造方法进行光压印光刻时，通常优选在模具的压力为10个气压以下的情况下进行。通过使模具压力在IO个气压以下，模具及基板不易变形，图案精度具有提高的倾向，并且由于加压小，因此具有縮小装置的倾向，因此优选。模具的压力优选在模具凸部的本发明的组合物的残膜变少的范围内选择可以确保模具转印的均匀性的区域。本发明中，光压印光刻中的光照射比固化所需要的照射量足够大即可。固化所需要的照射量根据纳米压印用固化性组合物的不饱和键的耗费量及固化膜的胶粘性来决定。另外，在本发明使用的光压印光刻中，通常在光照射时的基板的温度为室温的情况下进行，但为了提高反应性，可以边加热边进行光照射。在光照射的前阶段，如果事先使环境为真空状态，则具有防止气泡混入、抑制由混入氧引起的反应性降低、提高模具与纳米压印用固化性组合物的密合性的效果，因此，可以在真空状态下进行光照射。本发明中，在优选的真空度为10^a到常压的范围内进行。[实施例]以下列举实施例对本发明进行更具体的说明。以下的实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等在不脱离本发明的主旨的范围内可以进行适当变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。(纳米压印用固化性组合物的制备)添加下述聚合性单体R-1(40质量份)、下述聚合性单体S-1(30质量份)、下述聚合性单体T-l(30质量份)、下述光聚合引发剂P-l(2质量％)、下述阻聚剂F-l、下述表面活性剂W-l(O.l质量％)及下述表面活性剂W-2(0.04质量％)，制备实施例1的纳米压印用固化性组合物。(通过光照射进行固化)调节包含下述表1及2所示的单体、光聚合引发剂、表面活性剂、抗氧化剂的各组合物，旋转涂布在玻璃基板上，使膜厚为3.0pm。将旋涂得到的涂布基膜安装在以ORC公司制的高压水银灯(灯功率2000mW/cm勺作为光源的纳米压印装置中。然后，作为模具，使用具有10pm的线度/线距图案、以槽深为4.0^im的聚二甲基硅氧烷(将东丽道康宁(TORAYDOWCORNING)株式会社制的"SILPOT184"在80'C下固化60分钟而得到的)作为材质的模具。使装置内为真空后(真空度10Torr(约1.33kPa))，将模具压接在基板上，进行氮气净化(1.5个气压挤压模具)，对装置内进行氮气取代。从模具的背面以照度10mW/cm2、在曝光量240mJ/ci^的条件下对其进行曝光。曝光后，剥离模具，得到抗蚀剂图案。(通过加热进行固化)将通过上述方法进行曝光而得到的抗蚀剂图案在烘箱内于23(TC下加热30分钟，由此进行完全固化。<1官能单体>R-l:丙烯酸苄酯(VISCOAT弁160:大阪有机化学公司制)R-2:(3-甲基-3-氧杂环丁基)甲基丙烯酸酯(VISCOATOXE10大阪有机化学工业制)R-3:N-乙基-2-吡咯烷酮r_4:4-丙烯酰氧基-苯甲酸烯丙酯<2官能单体>S-l:新戊二醇二丙烯酸酯(日本化药公司制)S-2:丙烯酸-2-丙烯酰氧基-3-烯丙氧基-丙酯<3官能以上的单体>T-l:三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(Aronix(7口二、乂夕7)M-309:东亚合成公司制)<聚合性低聚物>0-1:Ebecry1605(环氧基二丙烯酸酯低聚物；大赛璐UCB公司制)<光聚合引发剂>P-h2,4,6-三甲基苯甲酰-乙氧基苯基-氧化膦(LucirinTPO-L:BASF公司制)P-2:Irgacure907(汽巴公司制)<阻聚剂>F-l:氢醌单甲醚(别名4-甲氧基苯酚)(东京化成工业公司制)F-2:4-甲氧基-l-萘酚(东京化成工业公司制)F-3:吩噻嗪(东京化成工业公司制)F-4:吩噁嗪(东京化成工业公司制)<非离子性表面活性剂>W-l:非氟系表面活性剂(竹本油脂株式会社制帕依噢宁D6315)W-2:氟系表面活性剂(大日本油墨化学工业株式会社制美嘎法可F780F)W-3:氟系表面活性剂(大日本油墨化学工业株式会社制美嘎法可膽)<抗氧化剂>A-hSumilizerGA80(住友化学株式会社制)A-2:AdekastabAO503(ADEKA日本株式会社制)在实施例1中，将上述纳米压印用固化性组合物分别更换为下表1所述的化合物，除此以外，与实施例1同样操作，制备实施例26的组合物。这里，在下表1中，阻聚剂总量表示单体中所含的阻聚剂和添加的阻聚剂的总和。在实施例2中，将添加的阻聚剂设定为500ppm，除此以外，与实施例2同样操作，制备比较例2的组合物，得到抗蚀图案。[比较例3]在实施例3中，除了阻聚剂以外，与实施例3同样操作，制备比较例3的组合物，得到抗蚀图案。[比较例4]与实施例1同样操作，制备日本特开2007-84625号公报中公开的液晶显示器用组合物的实施例1记载的组合物，得到抗蚀图案。[比较例5]在实施例4中，将添加的阻聚剂设定为10%，除此以外，与实施例5同样操作，制备比较例5的组合物，得到抗蚀图案。<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table><纳米压印用固化性组合物的评价>对于实施例16及比较例15得到的每个组合物，按照下述评价方法进行测定和评价。它们的结果示于下表3。<固化性>对于光照射后得到的抗蚀图案，确认有无发粘。评价有无产生固化不良。〇没有发粘，固化良好。X:发粘，产生固化不良。<图案精度的观察>制备溶液后(24小时内)，进行涂布，对于通过光照射及加热进行固化的抗蚀图案，用扫描型电子显微镜或者光学显微镜观察转印后的图案形状，如下操作评价图案精度。同样，涂布在溶液制备后于25t:下经过6个月后的组合物，对于通过光照射及加热进行固化的抗蚀图，按照下述评价评价图案精度。A:与成为模具的图案形状的来源的原版图案几乎一致。B:与成为模具的图案形状的来源的原版图案有一部分不同的部分(与原版图案有小于10%范围的不同)。C:与成为模具的图案形状的来源的原版图案有一部分不同的部分(与原版图案有10%以上且小于20%范围的不同)。D:与成为模具的图案形状的来源的原版图案明显不同，或者图案的膜厚与原版图案有20%以上不同。表3固化不良图案精度制备溶液后从制备溶液到经过6个月后实施例1〇AB实施例2〇AA实施例3〇A'A实施例4〇AA实施例5〇AA实施例6〇AA比较例1〇AC比较例2〇AC比较例3〇AD比较例4〇BC比较例5XDD可知，在本发明的实施例16的组合物中，即使添加阻聚剂，也不会引起固化不良，光固化性优异，并且不仅在制备溶液后图案精度优异，而且经时后图案精度也显著优异。另一方面，可知，在比较例14的组合物中，虽然均没有发现固化不良，但经时后的图案精度比制备溶液后的图案精度差。另外，可知，在阻聚剂的添加量在本发明的范围外的比较例5中，出现固化不良，且图案精度在制备溶液后及经时后均变差。<密合性>对于实施例16及比较例1~4的组合物的各抗蚀图的基板密合性，如下操作进行评价在进行光固化了的光固化性抗蚀图表面粘贴粘胶带，在剥离时，肉眼观察，判断在胶带侧是否附着有进行光固化了的光固化性抗蚀图。结果示于下表4。这里，作为粘胶带，使用日东电工公司制的商品名CellophanetapeNo.29。A:在胶带侧没有附着图案。B:图案的一部分被剥离到胶带上。c:图案被完全剥离到胶带上。表4<table>tableseeoriginaldocumentpage42</column></row><table>可知，在本发明的实施例26、特别是阻聚剂的添加量多的实施例36中，对基板的密合性非常优异。另一方面，可知，在比较例14的组合物中，对基板的密合性差。虽然没有任何的理论依据，但推测这是由于通过适当地增加阻聚剂的添加量，光聚合速度降低，从而发热受到抑制，由于发热受到抑制，固化膜的热收縮减轻。这样的显著的基板密合性提高固化是以往没有预想到的，是令人惊讶的结果。另外，与上述实施例同样操作，对作为N-氧自由基系化合物的4-羟基-2,2,6,6-四甲基哌啶-N-氧自由基进行研究，结果，同样没有发现固化不良，不仅在制备溶液后图案精度优异，而且经时后图案精度也显著优异，并且密合性也良好。<着色>肉眼确认实施例3和比较例1的固化膜的着色，结果在实施例3的固化膜上没有发现着色，但比较例1的固化膜着色为黄色。产业利用性根据本发明，可以提供固化性良好、经时保存稳定性优异、特别是在抑制固化后的图案精度降低方面经时保存稳定性优异的纳米压印用固化性组合物。在着眼于将纳米压印工业化、大量生产固化膜等时，上述保存稳定性的赋予在以往没有考虑过的课题中也是很重要的，本发明具有产业利用性。权利要求1、一种纳米压印用固化性组合物，其特征在于，其包含(A)聚合性单体、(B)光聚合引发剂和(C)阻聚剂，并且，该阻聚剂的添加量相对于该聚合性单体以重量计为300ppm～5％。2、根据权利要求l所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述阻聚剂的添加量相对于所述聚合性单体以重量计为1000ppm5%。3、根据权利要求1所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述纳米压印用固化性组合物还包含表面活性剂。4、根据权利要求l所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述(A)聚合性单体为(甲基)丙烯酸酯化合物。5、根据权利要求l所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述纳米压印用固化性组合物还包含抗氧化剂。6、根据权利要求3所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述表面活性剂为非离子性表面活性剂。7、根据权利要求1~6中任一项所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述(C)阻聚剂为选自芳香族多元醇系化合物、受阻酚系化合物、醌系化合物、N-氧自由基系化合物及胺系化合物中的至少一种。8、根据权利要求1~6中任一项所述的纳米压印用周化性组合物，其特征在于，所述(C)阻聚剂为芳香族多元醇系化合物或胺系化合物。9、根据权利要求16中任一项所述的纳米压印用固化性组合物，其特征在于，所述(C)阻聚剂为氢醌类、儿茶酚类、吩噻嗪、吩噁嗪中的任一种。10、一种固化物，其特征在于，使权利要求1~9中任一项所述的纳米压印用固化性组合物固化而成。11、一种液晶显示装置用部件，其特征在于，包含权利要求10所述的固化物。12、固化物的制造方法，其特征在于，包括将权利要求19中任一项所述的纳米压印用固化性组合物涂布在基板上形成图案的工序；将模具挤压在所述图案形成层的工序；和对所述图案形成层进行光照射的工序。13、根据权利要求12所述的固化物的制造方法，其特征在于，所述制造方法还包括加热进行了光照射的所述图案形成层的工序。全文摘要本发明提供一种固化性良好、经时保存稳定性优异、特别是在抑制固化后的图案精度降低方面经时保存稳定性优异的纳米压印用固化性组合物。该纳米压印用固化性组合物的特征在于，包含(A)聚合性单体、(B)光聚合引发剂及(C)阻聚剂，并且，该阻聚剂的添加量相对于该聚合性单体以重量计为300ppm～5％。文档编号G03F7/00GK101620377SQ200910151360公开日2010年1月6日申请日期2009年7月2日优先权日2008年7月3日发明者崎田享平申请人:富士胶片株式会社