用于平版印刷版的浸渍型自动显影装置和自动显影方法

专利名称：用于平版印刷版的浸渍型自动显影装置和自动显影方法
技术领域：
本发明涉及用于制备平版印刷版的浸渍型自动显影装置和自动显影方法。
背景技术：
通常，平版印刷版由在印刷过程中接受墨的亲油性图像区和接受润湿水的亲水性 非图像区组成。平版印刷是一种包括以下步骤的印刷方法使平版印刷版的亲油性图像区 成为受墨区而其亲水性非图像区成为润湿水接受区(不受墨区)，从而造成墨在平版印刷 版表面上附着的差异，和通过利用水和印刷墨彼此排斥的性质将墨仅沉积在图像区，然后 将墨转移到印刷材料例如纸上。为了制备平版印刷版，迄今广泛采用包含其上提供有亲油性光敏树脂层(光敏层 或图像记录层)的亲水性载体的平版印刷版原版(PS版)。通常，平版印刷版是通过按照以 下方法进行制版而获得的通过原物例如制版胶片曝光平版印刷版原版，然后在将图像记 录层保留在用于形成图像区的部分的同时，通过用碱性显影液或有机溶剂溶解而移除图像 区以外的不必要的图像记录层，从而显露载体的亲水性表面以形成非图像区。因此，在迄今已知的平版印刷版原版制版工艺中，在曝光后，通过用显影液等溶解 而移除图像记录层的不必要部分的步骤是必需的。然而，考虑到环境和安全性，使用更接近 中性范围的显影液的处理和少量的废液是要解决的问题。特别是，由于鉴于近年来全球环 境的考虑，伴随湿处理而排放的废液的处置已经成为了整个工业领域的大问题，对于上述 问题的解决方案的需求越来越大。另一方面，使用计算机的电子处理、积累和输出图像信息的数字化技术近年来已 经普及，并且响应数字化技术的各种新的图像输出系统已经投入实际使用。相应地，注意力 已经投向在高度会聚辐射，例如激光上携带数字化图像信息，并且用该光进行平版印刷版 原版的扫描曝光，从而在不使用制版胶片的情况下直接制备平版印刷版的计算机直接制版 (CTP)技术。因此，一个重要的技术主题是获得适于上述技术的平版印刷版原版。如上所述，从全球环境考虑和适于节省空间和低运行成本两方面都进一步强烈要 求显影液碱浓度的减小和处理步骤的简化。然而，由于如上所述显影处理步骤通常包括三 个步骤使用PH为10以上的碱性水溶液显影，用水洗浴洗涤碱性试剂，然后用主要包含亲 水性树脂的胶溶液处理，自动显影机本身需要大的空间，并且仍然存在环境和运行成本的 问题，例如，显影废液，水洗废液和胶废液的处置。响应于上述情形，例如，专利文件1中提出了一种用pH为10至12. 5的水溶液进 行处理的显影方法。然而，由于该显影方法需要水洗步骤和使用胶溶液的处理步骤，其没有 解决环境和运行成本的问题。此外，在专利文件2的实施例中描述了采用pH为11. 9至12. 1并且含有水溶性聚 合物化合物的处理溶液的处理。然而，由于获得的印刷版保留在其表面上附着有PH 12的 碱的状态，造成操作者安全方面的问题，并且随着在印刷版制备之后至印刷开始之前的长 时间的流逝，图像区逐渐溶解，导致印刷耐久性或受墨性的劣化。此外，在专利文件3中，描述了采用PH为3至9并且含有水溶性聚合物化合物的处理溶液的一浴式处理。在专利文 件4中，描述了采用pH为8. 5至11. 5并且含有碱金属碳酸盐和碱金属碳酸氢盐的显影液 的显影处理。然而，碱浓度的减小和步骤的简化给显影处理步骤带来了极大的负担。例如，尽 管光敏层可以用碱性显影液容易地溶解和移除，但是光敏层不能被低碱性显影液容易地移 除。因此，不能被溶解并且保留的光敏层可能不可避免地再次附着于版上，从而在版上形成 浮渣并且造成差的外观且最终印刷时的污迹的问题。此外，在某些情况下，残余的光敏层可 能污染处理机器的内部，可能增加机器维护所需的时间和劳动。另一方面，随着减小碱浓度和简化步骤的趋势，所用的处理机器已经从在显影液 中浸渍的构造向通过在水平输送中喷射而供应显影液的类型转变。然而，水平输送构造具有以下问题由于显影液的飞溅，显影液趋向于散布，而散 布的显影液可能干燥以形成浮渣。固有地，在水平输送构造中，显影液在机器的非运行期间 可能容易干燥，并且摩擦构件(刷子)和辊也可能干燥而被污染，并且该构造不能避免由于 污染而形成浮渣的问题。因此，水平输送构造的设计是非常困难的并且其技术壁垒高。专利文件1 JP-A-11-65126专利文件2 欧洲专利1868036专利文件3 JP-T-2007-538279专利文件4 JP-A-11-6512
发明内容
本发明要解决的技术问题本发明是为了克服水平输送型自动显影装置的上述缺陷而进行的，并且本发明的 目的是提供一种用于制备平版印刷版的浸渍型自动显影装置和自动显影方法，其能够制备 高质量的平版印刷版。解决问题的手段为了解决上述问题，权利要求1中描述的用于平版印刷版的浸渍型自动显影装置 的发明是一种用于平版印刷版的浸渍型自动显影装置，在所述浸渍型自动显影装置中，非 图像区的移除是在显影浴中浸渍平版印刷版原版的状态下进行的，所述平版印刷版原版在 载体上具有经图像式曝光的图像记录层，所述显影浴填充有含有碳酸根离子、碳酸氢根离 子和水溶性聚合物化合物的水溶液，其中由所述水溶液组成的显影液在形成处理路线的浸 渍型显影浴与设置在所述处理路线外部的外部罐之间循环，以保持所述浸渍型显影浴的液 面不变。权利要求2中描述的发明是如权利要求1所述的浸渍型自动显影装置，其中所述 显影液的PH为8. 5至10. 8。权利要求3中描述的发明是如权利要求1所述的浸渍型自动显影装置，其中以与 位于所述显影浴中输送方向上游的送入辊和位于所述显影浴中输送方向下游的送出辊保 持接触的方式设置相应的板(blade)，以在所述显影浴内部形成封闭结构。权利要求4中描述的发明是如权利要求1至3中任何一项所述的浸渍型自动显影 装置，其中至少一个摩擦构件以保持所述摩擦构件的至少一部分浸渍在所述显影液中的状态旋转，以进行所述平版印刷版原版的所述非图像区的移除。权利要求5中描述的发明是如权利要求4所述的浸渍型自动显影装置，其中通过 使所述摩擦构件旋转而移除所述平版印刷版原版的所述非图像区的移除操作是在将要进 行所述移除操作的所述平版印刷版原版的一部分与所述显影液接触后至少2秒进行的。权利要求6中描述的发明是如权利要求5所述的浸渍型自动显影装置，其中所述 摩擦构件位于用于所述显影液的所述显影浴在所述输送方向上的距离的中心的下游。权利要求7中描述的发明是如权利要求6所述的浸渍型自动显影装置，其中在所 述送入辊或送出辊的下游附近设置用于喷射所述外部罐中的显影液的喷射器。权利要求8中描述的发明是如权利要求1至7中任何一项所述的浸渍型自动显影 装置，其中在显影浴的下游设置水洗单元，油脱敏处理单元和干燥处理单元。权利要求9中描述的发明是如权利要求1至8中任何一项所述的浸渍型自动显影 装置，其中在所述显影浴的上游设置热处理单元和预水洗单元中的至少一个，所述热处理 单元用于热处理已曝光的平版印刷版原版，并且所述预水洗单元用于在所述平版印刷版原 版在光敏层上具有保护层时移除所述保护层。权利要求10中描述的用于平版印刷版的自动显影方法的发明是一种用于平版印 刷版的浸渍型自动显影方法，其中非图像区的移除是在显影浴中浸渍平版印刷版原版的状 态下进行的，所述平版印刷版原版在载体上具有经图像式曝光的图像记录层，所述显影浴 填充有显影液，其中所述显影液在形成处理路线的浸渍型显影浴与设置在所述处理路线外 部的外部罐之间循环，以保持所述浸渍型显影浴的液面不变。本发明的优点根据本发明，可以制造质量不变的平版印刷版而不造成自动显影装置内部污染问 题和浮渣问题。此外，由于显影液的液面总是保持不变，可以始终如一地进行良好的处理，并且由 于显影液是循环使用的，因此归因于显影液补充量的减少和废液量的减少，运行成本下降， 而且，获得了能够制备在环境方面有利的平版印刷版的自动显影装置。此外，由于通过将亲水性树脂掺入显影液中，可以采用一浴式处理同时进行显影 处理和油脱敏处理，从而可以简化维护。而且，由于显影液具有8. 5至10. 8的低碱性pH，几乎不发生由空气中的二氧化碳 造成的显影液疲劳(fatigue)，并且由于显影液含有具有缓冲功能的碳酸根离子和碳酸氢 根离子，可以防止PH下降，从而提高处理能力。此外，由于显影液中碱浓度的减小，可以积 极地使用具有酸基的粘合剂，以改善显影性。附图简述

图1是根据本发明第一实施方案的自动显影装置的构造图。图2是根据本发明第二实施方案的自动显影装置的构造图。图3是说明在资源节约方面优异的优点的构造图，其中本发明的装置可以通过略 微改进常规的自动显影装置而制造，并且(a)是根据第二实施方案的自动显影装置的构造 图，而(b)是常规装置的构造图。参考数字和标记描述2,2k根据本发明的自动显影装置
在自动显影装置2的侧板12中，形成插入口 14，并且由输送辊(送入辊)16将通
过插入口 14插入的PS版4输送到显影单元6中。插入口 14设有橡胶板18，并且当PS版
64没有插入其中时，插入口 14被橡胶板18封闭。在显影单元6的显影浴20内部，从输送方向的上游侧依次设置输送辊22，刷辊24 和挤压辊26，并且在它们之间的合适位置设置支承辊28。PS版4在被输送辊22输送的同 时浸渍在显影液中，并且PS版4的非图像区通过刷辊24的旋转而被移除，以进行显影处 理。这将在下面更详细地描述。经过显影处理的PS版4由输送辊(送出辊)16输送到随后的干燥单元10。在干燥单元10中，从输送方向的上游侧依次设置导辊36和一对斜辊38。在干燥 单元10中，还设有干燥装置，例如，热空气供应装置或生热装置(没有显示)。排出口 40设 在干燥单元10中，并且通过排出口 40将被干燥装置干燥的PS版4排出。此外，在干燥单 元10和显影单元6之间的通道中设有遮挡板44，并且当PS版4没有通过通道46时，通道 46被遮挡板44封闭。显影浴20设置有与浴壁结合成一体的盒形遮蔽盖60。遮蔽盖60的底壁是连续弧 状式弯曲的，以不与输送辊22，刷辊24和支承辊28的上外周表面接触并且不干扰辊。
由于遮蔽盖60是盒形的，在显影浴20上方形成气密空间，并且将显影单元6内部 的空气量保持尽可能少。另外，由于设有遮蔽盖60，显影液和空气间的接触面积被保持尽可 能小。在具有上述构造的自动显影装置2中，在其入口以与送入辊16保持接触的形式设 有橡胶板62，因此显影单元6被设计成与外部气氛基本上气密并且外部空气不流入其中。还在显影单元6的出口以与送出辊16保持接触的形式设置橡胶板62，因此显影单 元6被设计成基本上气密，并且干燥单元10内部的空气不流动到显影单元6中。因此，尽管在PS版4通过显影单元6时有一些空气可能流动到显影单元6中，但 是显影单元6也基本上保持气密，并且具有几乎没有空气流入其中的封闭构造。此外，98表示用以视觉显示各种必需信息的显示器并且99表示用以在听觉上报 告它们的报警器。现在，在下面详细描述显影单元6。将显影液的第一循环管道80连接至显影浴20。第一循环管道80具有设置在其中 的显影液循环泵71，电导率传感器73和过滤器(没有显示)。显影液循环泵71用于通过 显影浴20底部的抽吸孔将显影浴20中的显影液抽吸到第一循环管道80中，并且用以使显 影液通过第一循环管道80再次喷入显影浴20中。过滤器过滤正在通过第一循环管道80 的显影液。电导率传感器73测量正在通过第一循环管道80的显影液的电导率。在显影单元6中，设有第二循环管道90，与第二循环管道90相连的显影液储罐 55和位于第二循环管道90中的显影液供应泵74，并且经由第二循环管道90将从显影浴20 溢流的显影液返回到显影液储罐55中。更具体地，在显影浴20附近设置一对第二循环管道90，90a，用于补充显影液58。 用于显影液58的第二循环管道90在其一端(图1中的下端)连接至外部罐(显影液储 罐)55，并且在管道中设有显影液供应泵74。显影液供应泵74测量来自外部罐55的显影 液58并将其供应到显影浴20中。具体地，第二循环管道90，显影液供应泵74和外部罐55 构成显影液循环设备。通过设有存储其中输入的显影液补充条件等的控制ROM和RAM 51和计时器52的控制装置50，基于版检测传感器27和计时器52控制显影液供应泵74。具体地，基于来自能 够检测是否存在版输送和测量输送的版的版面积等的版检测传感器27的信号，控制装置 50控制显影液供应泵74以进行显影液补充，这取决于根据由控制ROM和RAM 51存储的自 动显影装置2的实际运行条件设置的补充条件。因此，控制单元50从显影液储罐55补充 相应于补充条件的必需量的显影液58，例如，用于每一块版的每一次处理的显影液58。处 理补充可以不是设计成对于每一块版进行，而是可以设计成在处理多块版后进行。在自动显影装置2中，在将已通过送入侧的输送辊对16的PS版4的图像记录表 面浸渍在显影液58中的同时，用刷辊(摩擦构件)24摩擦图像记录表面以移除PS版4的 图像记录层的未曝光区域，从而进行显影。由于版是在其浸渍在填充于显影浴20中的显影 液58中的同时被摩擦的，几乎不发生显影液58的散布。因此，防止了由显影液散布造成的 显影装置内部污染和浮渣的出现。特别是，当将版浸渍在显影液58中的同时用旋转刷辊摩 擦时，出于防止显影液散布的观点，摩擦构件浸渍在显影液58中的程度优选为其直径的至 少1/3，更优选其至少1/2的程度。为了形成显影浴20，将平版印刷版原版在向下的方向输送而非水平方向输送，并 且浸渍在显影液58中以在显影液58中被输送。在平版印刷版原版浸渍在显影液中，在其中保持预定的时间，然后摩擦的情况下， 采用摩擦构件的摩擦处理是更有效进行的。根据系统中的显影，显影液58首先渗透到平版 印刷版原版的光敏层中，然后以简单的方式进行在非图像区的光敏层的移除。因此，当平版 印刷版原版在摩擦操作前浸渍在显影液58中时，可以更有效地移除光敏层。根据实验，摩 擦之前经过的时间是在将要经历移除操作的部分已经浸渍在显影液中或通过喷射被显影 液润湿后至少2秒，更优选至少5秒，并且再更优选至少10秒。由于显影处理通常在60秒 内进行，所经过的时间不可避免地短于50秒。使用喷射管Sl等，可以将PS版的光敏层在浸渍在显影液58中之前与显影液58接 触。在这种情况下，被喷射的显影液可以是外部罐55中的显影液或可以是在单独的罐中制 备的新显影液。由于在光敏层与显影液58接触后在显影浴20的显影液58中进行的摩擦 处理所用的时间可以更长，所以可以更有效地进行显影。此外，通过光敏层与显影液58的 接触，可以适当缩短在浸渍于显影液58中后摩擦版所用的时间。另外，为了促进显影液的 渗透，还可以适当采用在PS版4与显影液58接触的同时振动PS版4的方法。因此，当从PS版4浸渍在显影液58中至PS版4离开显影液58所用的时间由t 秒表示时，用摩擦构件24的摩擦处理优选在t/2秒以后进行。因此，适宜的是，显影在显影 浴20的中部或后部进行。无需赘言，在显影浴20的长度增加或输送速度降低以延长在显 影液58中的浸渍时间的情况下，摩擦处理可以在显影浴的前部进行。然而，出于在所有时 间都进行稳定的显影处理的目的，在系统中设计成使用摩擦构件24的摩擦处理是在显影 浴的中部或后部进行的。在使用摩擦构件24的摩擦处理之后，PS版4离开显影液58。尽管取决于工艺条 件，但是当显影液58在此时疲劳时，在某些情况下浮渣可能容易粘附于版上。即使在这种 情况下，将显影液储罐55中的显影液58 (其相对于在浸渍处理过程中使用的显影液58不 太疲劳)通过喷射管S2直接喷到PS版4上，从而可以移除异物，例如，粘附于PS版上的浮渣。
当如上所述时显影浴20中显影液58的疲劳度高时，通过喷射移除浮渣非常有效。 在用于通过喷射管S2喷射的循环系统中，可以适当使用尤其具有小的孔径的过滤器。在这种情况下，仅通过处理浴就可以获得没有污染的PS版4，并且可以适当省略 处理浴之后的后续步骤。在以如上方式用一个浴液处理后，设置干燥单元10，然后已经在第一浴液同时经 历过显影和油脱敏处理的版在干燥单元10中被干燥。当如上所述仅在一个浴液中完成处 理时，可以降低装置成本，另外，可以节省空间。而且，由于显影液58通过外部罐循环，可以 将显影液的液面总是保持不变以稳定显影处理。此外，在常规装置中，可能仍有显影能力的显影液被部分地作为废液抛弃。然而， 在本发明中，由于显影液是循环的，显影液的显影能力可以100%使用并且可以控制显影液 的寿命。另外，通过溢流可以容易地控制液面。此外，通过将水溶性树脂掺入显影液中，可以有效利用现有的自动显影机的构成 构件，从而可以通过小的改进而实现大的效果。在使用自动显影机的情况下，例如，通常采用以下方法中的任何一种其中用泵抽 吸进料到显影浴中的显影液58并且通过喷嘴喷射的方法(参见专利文件3)，通过用在液体 中的导辊等浸渍输送通过填充有显影液58的浴而处理PS版原版4的方法，以及其中将基 本上未使用的显影液58以每块版的每次处理所需的量供应的所谓的一次性(disposable) 处理的方法。出于防止液体散布的观点，通过在显影液中浸渍输送而处理PS版原版4的方 法是有利的。此外，PS版4可以采用包括整合在一起的曝光装置和自动显影装置的装置制 备。在曝光装置的曝光处理中，PS版原版4可以通过具有线图案、点图案等的透明原 物曝光，或可以通过基于数字数据的激光扫描等进行图像式曝光。适合曝光的光源包括碳 弧灯，汞灯，氙灯，金属卤化物灯，闪光灯(strobe)，紫外线，红外线，激光射线等。激光射 线是特别优选的，并且包括发射波长为760至1200nm的红外线的固体激光器和半导体激 光器，发射波长为250至420nm的光的紫外半导体激光器，发射可见光的氩离子激光器和 FD-YAG激光器等。它们中，出于简化制版的观点，能够实现在白灯或黄灯下操作的发射红外 线或紫外线的激光器是优选的。用于本发明的摩擦构件可以是能够用作摩擦PS版原版4的图像记录表面的构 件的任何一种。特别是，优选使用能够绕作为其中心的旋转轴旋转以摩擦图像记录表面 的构件(例如，已知的盘刷(channel brush)，扭曲刷(twistedbrush)，安插刷(planted brush),毪刷(carpet brush)或 Moulton 棍)。作为盘刷，使用如JP-UM-A-62-167253，JP-UM-A-4-63447，JP-UM-A-4-64128 和 JP-A-6-186751描述的，在辊体表面周围螺旋缠绕长的所谓盘刷(条刷)而制备的刷子。作为扭曲刷，使用如JP-A-3-87832中所述的，通过将扭曲刷插入在轴表面上形成 的螺旋凹槽从而将其螺旋缠绕在轴周围而制备的刷子。作为安插刷，使用按照将刷子材料安插于形成在轴辊中的小孔中的方法制备的刷子。作为毯刷，使用如JP-A-2001-5193和JP-A-2001-66788所述的，通过将用羊毛材料的编织的织物的长的薄条缠绕在轴辊的外周表面周围而制备的刷子。作为Moulton辊，使用如JP-A-10-198044所述，通过用纤维织物的滑动套筒覆盖 辊体并且在其安装侧牢固地系紧套管而制备的刷子。在其中将旋转构件用作摩擦构件的情况下，摩擦构件的转数优选尽可能大，以提 高PS版原版4的未曝光区中图像记录层的可移除性。然而，出于耐久性和自动显影装置 的制造成本，以及防止显影液58散布和损坏PS版原版4曝光区的观点，转数优选为30至 1，OOOrpm,并且更优选50至500rpm。在使用刷子作为摩擦构件的情况下，刷子的数量至少为1，并且还可以使用多个刷 辊。在使用2个以上刷子的情况下，它们中的至少一个可以在与PS版原版4的处理方向相 反的方向上旋转。此外，在使用旋转摩擦构件的情况下，显影处理可以在摩擦构件在旋转轴 方向上摇摆的同时进行。通过使摩擦构件在旋转轴方向上摇摆，更有效地移除PS版原版4 的非图像区并且可以制备具有更好质量的PS版4。作为用于摩擦构件的刷子的材料，天然纤维，例如，马鬃或猪毛，人造纤维，金属纤 维等是已知的。考虑到其耐化学品性，人造纤维是优选的。可用的人造纤维的实例包括聚 酰胺，例如，尼龙6，尼龙6. 6，尼龙6. 10，尼龙6. 12或尼龙12，聚酯，例如，聚对苯二甲酸乙 二醇酯或聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)，聚丙烯酸类，例如，聚丙烯腈或聚(甲基)丙烯酸烷 基酯，聚烯烃，例如，聚乙烯，聚丙烯，聚苯乙烯，聚氯乙烯或聚偏二氯乙烯，纤维素，例如，乙 酰纤维素，聚氨酯类，例如，聚氨酯，聚苯硫醚(polyphenylene sulfite)和氟树脂，例如，乙 烯/四氟乙烯共聚物或聚偏二氟乙烯。考虑到其弹性，刚性，耐磨性，耐热性，耐化学品性， 供水性和吸湿性，优选尼龙6，尼龙6. 6，尼龙6. 10，尼龙6. 12，尼龙12，聚丙烯，聚对苯二甲 酸丁二醇酯和聚对苯二甲酸乙二醇酯，并且更优选尼龙6. 6，尼龙6. 10，尼龙6. 12，尼龙12， 聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)和聚丙烯。在聚酯中，优选聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)。在 聚烯烃中，特别优选聚丙烯。对刷子的毛的宽度没有特别的限制，其优选为0.01至1.0mm，更优选0. 1至 0. 5mm。当刷子毛的宽度小于0. Olmm时，摩擦性可能变差，而当其大于1. Omm时，可能趋向 于在版表面上形成摩擦划痕。对刷子毛的长度也没有特别的限制，其通常使用的范围是3 至50mm。当长度短于3mm时，刷子与PS版原版4的接触可能变得不均勻并且刷子可能趋向 于对版表面造成摩擦划痕。当长度超过50mm时，在显影处理中没有产生长度的任何更多的 优点，并且在经济上也是不利的。在Moulton辊的情况下，由于其具有织物的滑动套筒，不 必限定其毛的宽度和长度。根据如上所述的第一实施方案，由于将在显影浴中同时经历显影和油脱敏处理的 PS版4在完成处理的情况下在干燥单元10中干燥，因此可以降低装置成本，另外，可以节省 空间。而且，由于显影和摩擦处理是在显影液中进行的，可以避免由显影液的飞溅引起的显 影液的散布，并且因此，与水平输送型自动显影装置相比，当进行相同的低碱性处理时，可 以解决散布的显影液可能干燥以形成浮渣的问题。此外，由于显影液58是循环的，可以总 是保持显影液的液面不变，从而稳定显影处理。〈第二实施方案〉图2是根据本发明第二实施方案的自动显影装置的构造图。在图2中，2”表示根据本发明第二实施方案的自动显影装置。在自动显影装置2”
10中，与根据本发明第一实施方案的自动显影装置2(图1)中的那些相同的参考数字具有与 装置2中相同的功能，并且省略其任何重复描述。在图2中，显影单元6在原理上具有与图1中相同的构造。差别在于在显影单元 6上游设置预_加热单元和预_水洗单元。预-加热单元设置在输送方向上显影单元6的上游并且具有在输送PS版的同时 将PS版的预定表面温度保持预定时间的功能。预-水洗单元设置在输送方向上显影单元6的上游并且在输送方向上预-加热单 元的下游，具有在输送PS版的同时用洗涤水洗涤和冷却PS版表面的功能。已通过预_水 洗单元的PS版以被洗涤的状态自动输送到下一步的显影单元6。尽管该装置可能因引入上述步骤使整体尺寸变大而不利，但是可以提高质量，例 如，印刷耐久性，并且可以使质量稳定。可以将预-加热单元和预-水洗单元的两个步骤都引入到装置中，但是也可以只 将它们中的任何一个引入其中。图3是说明根据本发明在资源节约方面优异的优点的构造图，其中本发明的装置 可以通过略微改进常规的自动显影装置而制备，并且(a)是根据第二实施方案的自动显影 装置的构造图，而(b)是常规补充型自动显影装置的构造图。在图3 (b)中，2B是常规自动显影装置并且其采用的显影处理步骤包括在预_加 热单元和预_水洗单元之后，在显影单元6中用碱性显影液显影，在水洗单元中洗涤碱性试 剂，然后在浸胶单元中用主要由亲水性树脂组成的胶溶液处理，和在干燥单元中干燥。显影单元6’中使用的显影液是pH为10以上的碱性显影液，并且从显影液储罐 55’通过显影液补充管道90’供给碱性显影液至显影浴20。另一方面，溢流的显影液作为用过的显影液(废液)通过废液管道90”排到废液 罐100中。当废液罐100被废液完全充满时，从装置中取出废液罐100，并且在除去其中的 废液后，将其再次送回到装置中。当将使用pH为8. 5至10. 5的显影液的本发明应用于常规自动显影装置时，仅通 过微小的改进就可以将本发明的功能赋予常规自动显影装置，因此，其在减少废部件、节约 资源和环境保护方面是有利的。图3(a)是第二实施方案中描述的自动显影装置，其与图3(b)的差别如下(1)作为第二循环管道90a，图3 (b)中的废液管道90”的端部连接到显影液储罐 55，而不是连接至废液罐100。(2)pH为8. 5至10. 8的显影液被供应至显影液储罐55。根据上述两个操作，可以有效利用现有自动显影机的构成构件并且通过小的改进 实现大的效果。[阴图型平版印刷版原版]采用用于本发明的阴图型平版印刷版原版，下面将依次描述其构成。[载体]首先，描述本发明中使用的平版印刷版原版的载体。尽管可以使用任何具有亲水性表面的载体，但是优选将尺寸稳定的板状材料用于 载体。载体包括，例如，纸，层压有塑料(例如，聚乙烯，聚丙烯或聚苯乙烯)的纸，金属板
11(例如，铝(包括铝合金)，锌或铜)或其合金(例如，与硅，铜，锰，镁，铬，锌，铅，铋或镍的 合金)，塑料膜(例如，二乙酸纤维素，三乙酸纤维素，丙酸纤维素，丁酸纤维素，乙酸丁酸纤 维素，硝酸纤维素，聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚乙烯，聚苯乙烯，聚丙烯，聚碳酸酯或聚乙烯 醇缩醛)，以及其上层压或气相沉积有如上所述的金属或合金的纸或塑料膜。在载体中，特 别优选铝板，因为其具有极好的尺寸稳定性并且廉价。此外，优选JP-B-48-18327中所述的 包含其上粘合有铝片的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的复合片材。通常，载体的厚度约为0. 05 至 Imm0在使用具有金属表面特别是铝表面的载体的情况下，优选对载体进行表面处理， 例如，下面所述的砂目化处理，在硅酸钠，氟锆酸钾，磷酸盐等的水溶液中的浸渍处理，或阳 极氧化处理。[砂目化处理]作为用于砂目化处理的方法，可以采用其中在盐酸或硝酸电解溶液中以电化学 方式进行表面砂目化的的电化学砂目化方法，或机械砂目化方法，例如，其中用金属丝刷刮 擦铝板表面的金属丝刷砂目化方法，其中用研磨球和研磨剂砂目化铝板表面的球砂目化方 法，或其中用尼龙刷和研磨剂砂目化铝板表面的刷砂目化方法。砂目化方法可以单独使用 或者其两种以上组合使用。例如，JP-A-56-28893中描述了进行机械砂目化，化学侵蚀和电 解砂目化的方法。具体地，形成有用表面粗糙度的方法是电化学砂目化方法，其中在盐酸或硝酸电 解溶液中以电化学方式进行表面砂目化，并且合适的电流密度在100至400C/dm2范围内。 更具体地，优选在含0. 1至50重量％的盐酸或硝酸的电解溶液中在以下条件下进行电解 温度为20至100°C，时间为1秒至30分钟并且电流密度为100至400C/dm2。然后将经过砂目化处理的铝载体用酸或碱化学侵蚀。使用酸作为侵蚀剂的方法需 要时间来破坏精细结构。这样的问题可以通过使用碱作为侵蚀剂解决。优选使用的碱性试剂的实例包括氢氧化钠，碳酸钠，铝酸钠，偏硅酸钠，磷酸钠，氢 氧化钾和氢氧化锂。优选的浓度和温度范围分别是1至50%和20至100°C。优选用于提 供在5至20g/m3范围内的铝溶解量的条件。在侵蚀程序后，用酸洗涤铝载体以移除残留在其表面的污迹(污点)。用于酸 洗涤步骤的酸的实例包括硝酸，硫酸，磷酸，铬酸，氢氟酸和氢氟硼酸(hydrofluoroboric acid)。作为用于在电化学砂目化处理后移除污点的方法，优选如JP-A-53-12739中 所述的使铝载体与温度为50至90°C的15至65重量％硫酸水溶液接触的方法，和如 JP-B-48-28123中所述的进行碱侵蚀的方法。铝载体的表面粗糙度(Ra)优选为0. 3至0. 7 μ m。[阳极氧化处理]还可以对经过上述砂目化处理的铝载体进行阳极氧化处理。阳极氧化处理可以以 本领域常规使用的方式进行。具体地，其通过以下进行将直流电或交流电施加于在含硫酸，磷酸，铬酸，草酸， 氨基磺酸，苯磺酸或其两种以上的组合的水溶液或非水溶液中的铝载体，以在铝载体表面 上形成阳极氧化膜。阳极氧化处理的条件通常不能确定，因为它们根据所用的电解溶液而广泛地变化。然而，通常合适的是电解溶液浓度在1至80%范围内，电解溶液温度在5至70°C范围 内，电流密度在0. 5至60A/dm2范围内，电压在1至100V范围内，并且电解时间在10至100 秒的范围内。阳极氧化处理中，特别优选英国专利1，412，768中描述的采用高电流密度在硫酸 溶液中阳极氧化的方法和美国专利3，511，661中描述的使用磷酸作为电解浴的阳极氧化方法。阳极氧化膜的量优选为1至10g/m2。当该量小于lg/m2时，印刷版易于擦伤。当 该量超过10g/m2时，大量的电力是必需的，因此在经济上是不利的。阳极氧化膜的量更优 选为1. 5至7g/m2，并且还更优选2至5g/m2。在砂目化处理和阳极氧化处理后，还可以对铝载体进行阳极氧化膜的封孔处理。 封孔处理是通过将铝载体浸渍在热水或含无机盐或有机盐的热水溶液中或浸渍在水蒸汽 浴中而进行的。此外，可以对铝载体进行表面处理，例如，采用碱金属硅酸盐的硅酸盐处理 或在氟锆酸钾，磷酸盐等的水溶液中浸渍处理。在载体(在铝载体的情况下，优选适当进行如上所述的表面处理的铝载体)上，例 如，涂布包含可光聚合的光敏组合物的图像记录层，并且如果需要，在图像记录层上涂布保 护层，以制备平版印刷版原版。在涂布图像记录层之前，如果需要，可以在载体上提供有机 或无机底涂层。可以进行JP-A-7-159983中所述的溶胶-凝胶处理，其中将能够通过自由 基引发加成反应的官能团共价结合到载体表面上。作为用于形成有机底涂层的物质，例如，示例的是水溶性树脂，例如，聚乙烯基膦 酸，在其侧链上具有磺酸基的聚合物或共聚物，或聚丙烯酸，黄色染料或胺盐。具体地，用于有机底涂层中的有机化合物选自，例如，羧甲基纤维素，糊精，阿拉伯 树胶，含氨基的膦酸，例如，2-氨基乙基膦酸，有机膦酸，例如，苯基膦酸，萘基膦酸，烷基膦 酸，甘油基膦酸，聚乙烯基膦酸，亚甲基二膦酸或亚乙基二膦酸(其每一个可以具有取代 基)，有机磷酸，例如，苯基磷酸，萘基磷酸，烷基磷酸或甘油基磷酸(其每一个可以具有取 代基)，有机次膦酸，例如，苯基次膦酸，萘基次膦酸，烷基次膦酸或甘油基次膦酸(其每一 个可以具有取代基)，氨基酸，例如，甘氨酸或β “丙氨酸，和具有羟基的胺的盐酸盐，例如， 三乙醇胺盐酸盐。有机化合物可以以其两种以上的混合物使用。可以用以下方法提供有机底涂层。具体地，有以下方法将上述有机化合物溶解在 水，有机溶剂，例如，甲醇，乙醇或甲基乙基酮或其混合溶剂中，将得到的溶液涂布在载体上 并且将其干燥以提供有机底涂层的方法，和将上述有机化合物溶解在水，有机溶剂，例如， 甲醇，乙醇或甲基乙基酮或其混合溶剂中，将载体浸渍在得到的溶液中以吸附有机化合物， 用水等洗涤载体并且将其干燥以提供有机底涂层的方法。在前一种方法中，可以将含浓度 为0. 005至10重量％的有机化合物的溶液通过各种方法涂布。可以使用任何方法，包括例 如，棒涂机涂布，旋涂，喷涂或幕涂。在后一种方法中，溶液中的有机化合物的浓度为0.01 至20重量％，优选0. 05至5重量％，浸渍温度为20至90°C，优选25至50°C，并且浸渍时 间为0. 1秒至20分钟，优选2秒至1分钟。还可以通过以下方法使用溶液用碱性物质例如氨水，三乙胺或氢氧化钾或酸性 物质例如盐酸或磷酸，将其PH调节至1至12的范围。此外，还可以将黄色染料添加到溶液 中以改善平版印刷版原版的色调再现性。
1权利要求
一种用于平版印刷版的浸渍型自动显影装置，在所述浸渍型自动显影装置中，非图像区的移除是在显影浴中浸渍平版印刷版原版的状态下进行的，所述平版印刷版原版在载体上具有经图像式曝光的图像记录层，所述显影浴填充有含有碳酸根离子、碳酸氢根离子和水溶性聚合物化合物的水溶液，其中由所述水溶液组成的显影液在形成处理路线的浸渍型显影浴与设置在所述处理路线外部的外部罐之间循环，以保持所述浸渍型显影浴的液面不变。
2.如权利要求1所述的浸渍型自动显影装置，其中所述显影液的pH为8.5至10. 8。
3.如权利要求1所述的浸渍型自动显影装置，其中以与位于所述显影浴中输送方向上 游的送入辊和位于所述显影浴中输送方向下游的送出辊保持接触的方式设置相应的板，以 在所述显影浴内部形成封闭结构。
4.如权利要求1至3中任何一项所述的浸渍型自动显影装置，其中至少一个摩擦构件 以保持所述摩擦构件的至少一部分浸渍在所述显影液中的状态旋转，以进行所述平版印刷 版原版的所述非图像区的移除。
5.如权利要求4所述的浸渍型自动显影装置，其中通过使所述摩擦构件旋转而移除所 述平版印刷版原版的所述非图像区的移除操作是在将要进行所述移除操作的所述平版印 刷版原版的一部分与所述显影液接触后至少2秒进行的。
6.如权利要求5所述的浸渍型自动显影装置，其中所述摩擦构件位于用于所述显影液 的所述显影浴在所述输送方向上的距离的中心的下游。
7.如权利要求6所述的浸渍型自动显影装置，其中在所述送入辊或送出辊的下游附近 设置用于喷射所述外部罐中的显影液的喷射器。
8.如权利要求1至7中任何一项所述的浸渍型自动显影装置，其中在所述显影浴的下 游设置水洗单元，油脱敏处理单元和干燥处理单元。
9.如权利要求1至8中任何一项所述的浸渍型自动显影装置，其中在所述显影浴的上 游设置热处理单元和预水洗单元中的至少一个，所述热处理单元用于热处理已曝光的平版 印刷版原版，并且所述预水洗单元用于在所述平版印刷版原版在光敏层上具有保护层时移 除所述保护层。
10.一种用于平版印刷版的自动显影方法，其中非图像区的移除是在显影浴中浸渍平 版印刷版原版的状态下进行的，所述平版印刷版原版在载体上具有经图像式曝光的图像记 录层，所述显影浴填充有显影液，其中所述显影液在形成处理路线的浸渍型显影浴与设置 在所述处理路线外部的外部罐之间循环，以保持所述浸渍型显影浴的液面不变。
全文摘要
本发明的目的是提供用于制备平版印刷版的浸渍型自动显影装置和自动显影方法，该装置和方法能够制备高质量的平版印刷版。一种用于平版印刷版的浸渍型自动显影装置(2)，在所述浸渍型自动显影装置(2)中，非图像区的移除是在显影浴(20)中浸渍在载体上具有经图像式曝光的图像记录层的平版印刷版原版(4)的状态下进行的，所述显影浴(20)填充有含有碳酸根离子、碳酸氢根离子和水溶性聚合物化合物的水溶液，其中由所述水溶液组成的显影液在形成处理路线的浸渍型显影浴(20)与设置在所述处理路线外部的外部罐(55)之间循环，以保持所述浸渍型显影浴(20)的液面不变。
文档编号G03F7/30GK101981505SQ20098011053
公开日2011年2月23日 申请日期2009年3月25日 优先权日2008年3月25日
发明者大石近司, 河内几生, 足立圭一 申请人:富士胶片株式会社