曝光装置用的对准装置以及对准标记的制作方法

曝光装置用的对准装置以及对准标记的制作方法
【专利摘要】对准装置设置有射出用于对准的光的对准光源，例如内置于照相机。而且，对准光源例如与照相机检测出的光的光轴同轴地射出对准光。对准光照射到基板和掩模，反射光由照相机所检测。在掩模对准标记与基板对准标记之间还存在用于曝光的微透镜阵列，由此，从基板对准标记反射的正立等倍像被成像在掩模上。进而，通过由照相机检测出的掩模对准标记的反射光以及基板对准标记，控制装置进行基板与掩模的对准。由此，能以高精度执行基板与掩模的对准。
【专利说明】曝光装置用的对准装置以及对准标记
【技术领域】
[0001]本发明涉及在使用了微透镜阵列的曝光装置中将基板与掩模进行对准的曝光装置用的对准装置以及对准标记。
【背景技术】
[0002]以往，在曝光装置中，从光源射出曝光光，将该曝光光经由形成有规定形状的图案的掩模照射在基板，并将掩模的图案曝光在基板上。因此，为了以高精度将图案曝光在基板上的规定位置，掩模与基板的相对地对位是重要的。例如专利文献I中公开了将曝光对象的晶圆接近掩模而配置的接近曝光方式的曝光装置，其构成为在掩模和晶圆的两者设置标记，并通过该标记对掩模与晶圆进行相对地对位。
[0003]另一方面，近来，已变成使用通过微透镜阵列将掩模图案投影到基板上的曝光装置。图44是表示使用了微透镜阵列的曝光装置的示意图。在曝光对象的基板I的上方，形成了被曝光在基板I的图案的掩模2相对于基板I隔开适当长度的间隔而被配置。进而，在该基板I与掩模2之间配置有以二维方式排列了微透镜4的微透镜阵列3,曝光光从掩模2的上方对掩模2进行照射，透过了掩模2的曝光光由微透镜阵列3投影到基板I上，形成在掩模2的图案通过微透镜阵列3作为正立等倍像转印到基板表面上的抗蚀剂等。
[0004]这种情况下，通常，将掩模2和基板I固定，使微透镜阵列3和曝光光源以及光学系统一体地在垂直于纸面的方向上移动，由此曝光光在基板I上进行扫描。这种情况下，需要在基板I的上表面以及掩模2的下表面各自设置对准标记Ia以及2a，并将这些对准标记Ia和2a作为标识对基板I与掩模2进行相对地对位。
[0005]现有技术文献
专利文献1:特开2004-103644号公报。

【发明内容】

[0006]本发明所要解决的技术问题
然而，在通过对准标记la，2a进行基板I与掩模2的对位的情况下，当想要以± I μ m左右的高精度来对基板I与掩模2进行对位时，需要由同一照相机同时地观察两个对准标记la, 2a。即，当用不同的照相机分别观察对准标记la, 2a时,不能保证两个对准标记Ia,2a的相对位置。
[0007]在专利文献I那样的接近曝光的情况下，掩模与基板接近至200 μ m左右，由于该间隔容纳在照相机的焦点深度之内，所以能用照相机同时地观察到掩模的对准标记和基板的对准标记。但是，在使用了微透镜阵列3的曝光装置中，由于需要在基板I与掩模2之间插装微透镜阵列3，所以基板I与掩模2之间的距离，即对准标记la，2a之间的间隔G存在5至15 mm左右。在通常的照相机透镜系统中，不能同时地观察到该5至15 _的间隔。
[0008]此外，如图44以及图45所示，还考虑对来自基板I的对准标记Ia的反射光和来自掩模2的对准标记2a的反射光设置光路差，来修正基板I的对准标记Ia和掩模2的对准标记2a的焦距差。
[0009]如图44所示，基板I与掩模2之间的间隙G为5至15 mm。在此情况下，当考虑视野和对准精度时，需要的透镜倍率为4倍左右。因此，在照相机侧看来，对准的图案间隙G (=5~15 mm)相当于5~15 mmX42=80~240 mm。需要修正该80至240 mm的焦距差。
[0010]于是，在图45中，由透镜21会聚来自光源20的光并由反射镜22反射，并经由透镜23入射至分束器17。而且，来自分束器17的光经由透镜18和19入射至掩模2，在掩模2的对准标记2a反射，并且入射到基板1，在基板I的对准标记Ia反射。在这些对准标记la, 2a反射的光去往分束器17，在透过该分束器17之后，经由透镜16，15入射到分束器14。来自对准标记la, 2a的反射光在分束器14分离成去往分束器11的光和去往镜子13的光，去往镜子13的光由于镜子12而去往分束器11。而且，在分束器11,来自分束器14的光按照原样透过，来自镜子12的光被反射而去往照相机10。这样，从分束器14经由镜子13，12的光和从分束器14直接到达的光由照相机10检测出。此时，从分束器14到镜子13的光路、从镜子13到镜子12的光路以及从镜子12到分束器11的光路的总长度被设定成比从分束器14直接入射到分束器11的光的光路的长度，仅长出80至240 mm的焦距差的量。因此，来自掩模2的对准标记2a的反射光，即为行进于经由镜子12，13的光路的光，以及来自基板I的对准标记Ia的反射光，即为行进于从分束器14直接入射到分束器11的光路的光中的任一个均在照相机10的CCD (电荷耦合元件)成像，能用照相机10同时观察到对准标T己 lei? 2aο
[0011]由此，能将基板I和掩模2的对准标记la，2a的图案的焦距差(相当于80至240mm)分到另外的光路来进行修正。然而，像这样利用另外的光路修正焦距差时，在各光路的光轴产生偏离的情况下，存在对准标记la，2a的两个图案的相对位置会偏离的这样的问题点。为此，在该方法中，对准精度降低。当对准精度降低时，曝光图案的精度也降低，对于近来的高精细液晶面板的曝光而言成为致命的问题。
[0012]本发明是鉴于所涉及的问题点而`做出的发明，其目的在于，提供一种能以高精度进行基板与掩模的对准的曝光装置用的对准装置以及对准标记。
[0013]用于解决技术问题的技术方案
涉及本发明的曝光装置用的对准装置，所述曝光装置具有:光源，射出曝光光；掩模，入射来自该光源的曝光光并在基板形成有曝光的图案；以及第一微透镜阵列，设置在所述基板与所述掩模之间，并入射透过了该掩模的曝光光在所述基板使所述图案的正立等倍像成像，所述曝光装置用的对准装置对所述曝光装置的所述掩模与所述基板进行相对地对位，
所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有:
对准光源，从所述掩模的上方将对准用的光照射到设置在所述基板的基板对准标记和设置在所述掩模的掩模对准标记；第二微透镜阵列，配置在所述基板对准标记与所述掩模对准标记之间，并使从所述基板对准标记反射的反射光在所述掩模上作为正立等倍像成像；照相机，从所述掩模侧检测所述基板对准标记的反射光和所述掩模对准标记的反射光；以及控制装置，以由该照相机检测出的所述基板对准标记和所述掩模对准标记相一致的方式调节所述掩模和/或所述基板的位置。
[0014]涉及本发明的其它的曝光装置用的对准装置，所述曝光装置具有:光源，射出曝光光；掩模，入射来自该光源的曝光光并在基板形成有曝光的图案；以及第一微透镜阵列，设置在所述基板和所述掩模之间，并入射透过了该掩模的曝光光在所述基板使所述图案的正立等倍像成像，所述曝光装置用的对准装置对所述曝光装置的所述掩模与所述基板进行相对地对位，
所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有:对准光源，从所述基板的下方将对准用的光照射到设置在所述基板的基板对准标记和设置在所述掩模的掩模对准标记；第二微透镜阵列，配置在所述基板对准标记与所述掩模对准标记之间，并使从所述掩模对准标记反射的反射光在所述基板上作为正立等倍像成像；照相机，从所述基板侧检测所述基板对准标记的反射光和所述掩模对准标记的反射光；以及控制装置，以由该照相机检测出的所述基板对准标记和所述掩模对准标记相一致的方式调节所述掩模和/或所述基板的位置。
[0015]在涉及这些本发明的曝光装置用的对准装置中，例如，所述第一微透镜阵列和所述第二微透镜阵列由一片共有微透镜阵列构成，所述对准用的光在使所述共有微透镜阵列移动到所述基板对准标记与所述掩模对准标记之间的状态下进行照射。或者，所述第一微透镜阵列和所述第二微透镜阵列由包含曝光光所照射的曝光位置和对准光所照射的对准位置的一张共有微透镜阵列构成。或者，所述第一微透镜阵列和所述第二微透镜阵列以分体方式构成。
[0016]另外，在涉及本发明的这些曝光装置用的对准装置中，例如，能构成为，所述基板对准标记以及所述掩模对准标记的一个形成为框状，另一个形成为在对准时位于所述框的中心的矩形形状。
[0017]所述对准光源能构成为，例如与所述照相机检测出的光的光轴同轴地射出对准光。或者构成为，所述对准光源和所述照相机为分体，并且来自所述对准光源的光的光轴与在所述照相机检测出的反射光的光轴不同轴。
[0018]本发明的对准标记，使用微透镜阵列，并将该微透镜阵列配置在曝光对象的基板与设置有在该基板曝光的图案的掩模之间，并在对所述掩模与所述基板进行相对地对位时使用，所述微透镜阵列具有:多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠；多边视野光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；以及开口光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的曝光光的最大放大部的至少一部分并且具有圆形的开口并且规定各微透镜的开口数，
所述对准标记的特征在于，
形成在所述基板或所述掩模，
具有在相对于所述多边视野光圈的开口的所有边各自倾斜的方向上延伸的多条线状的标记片，所述标记片由从对准中心放射状地延伸的多个第一组标记片和在以所述对准中心为中心的多边形的边上延伸的多个第二组标记片构成，以所述标记片中的多个标记片存在于任一个所述多边视野光圈之中的方式，确定所述多边视野光圈和所述标记片的位置。
[0019]在该对准标记中，优选为，所述第二组标记片在以所述对准中心为共同中心的不同大小的多个多边形的边上相连而被配置。或者，优选为，所述第二组标记片在以所述对准中心为共同中心的不同大小的多个多边形的边上以含有所述多边形的角部的方式被间断地配置。另外，优选为，所述第二组标记片虽然位于不同多边形上但粗细不同。
[0020]涉及本发明的其它的对准标记，在供给曝光装置的基板或掩模中为了它们的位置调整而形成，并由线对称的多边形形状的图形构成，其特征在于，具有:
多边形形状部，配置成不与构成在所述基板与所述掩模之间矩阵状配置的多个透镜的各个多边视野光圈的开口部的任一缘边平行；以及
放射线部，由从所述多边形形状部的中心横穿所述多边形形状部的至少6条放射线构
成，
所述多边形形状部和所述放射线部的整体大于所述透镜的大小，小于4个邻接的透镜的整体的大小。
[0021]涉及本发明的其它的曝光装置用的对准装置，将形成在掩模的曝光图案转印到基板，所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有:
对准光源，兼用于曝光光的射出或者独立的对准光的射出用；
微透镜阵列，配置在所述掩模和所述基板之间，并使从设置在所述基板的基板对准标记反射的对准光的反射光在所述掩模上作为为正立等倍像成像；
照相机，在从所述掩模侧，将对准光同时地照射到所述基板对准标记和设置在所述掩模的掩模对准标记时，从所述掩模侧检测从所述掩模对准标记反射的反射光以及成像在所述掩模上的所述基板对准标记的正立等倍像；以及
控制装置，以由所述照相机检测出的所述基板对准标记与所述掩模对准标记相一致的方式，调节所述掩模和/或所述基板的位置，
所述微透镜阵列具有:多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠；多边视野光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；以及开口光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的曝光光的最大放大部的至少一部分，且具有圆形的开口并规定各微透镜的开口数，
所述基板对准标记具有:
在相对于所述多边视野光圈的开口的所有边各自倾斜的方向上延伸的多条线状的标记片，
所述标记片由从对准中心放射状地延伸的多个第一组标记片和在以所述对准中心为中心的多边形的边上延伸的多个第二组标记片构成，以所述标记片中的多个标记片存在于任一个所述多边视野光圈之中的方式，确定所述多边视野光圈和所述标记片的位置。
[0022]涉及本发明的其它的曝光装置用的对准装置，将形成在掩模的曝光图案转印到基板，所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有:
对准光源，兼用于曝光光的射出或者独立的对准光的射出用；
微透镜阵列，配置在所述掩模与所述基板之间，并使从设置在所述掩模的掩模对准标记反射的对准光的反射光在所述基板上作为正立等倍像成像；
照相机，在从所述基板侧将对准光同时地照射到所述掩模对准标记和设置在所述基板的基板对准标记时，从所述基板侧检测从所述基板对准标记反射的反射光以及成像在所述基板上的所述掩模对准标记的正立等倍像；以及
控制装置，以由所述照相机检测出的所述基板对准标记和所述掩模对准标记相一致的方式，调节所述掩模和/或所述基板的位置，
所述掩模对准标记具有:在相对于所述多边视野光圈的开口的所有边各自倾斜的方向上延伸的多条线状的标记片，所述标记片由从对准中心放射状地延伸的多个第一组标记片和在以所述对准中心为中心的多边形的边上延伸的多个第二组标记片构成，以所述标记片中的多个标记片存在于任一个所述多边视野光圈之中的方式，确定所述多边视野光圈和所述标记片的位置。
[0023]在该曝光装置用的对准装置中，优选为，所述第二组标记片在以所述对准中心为共同中心的不同大小的多个多边形的边上相连而被配置。或者，优选为，所述第二组标记片在以所述对准中心为共同中心的不同大小的多个多边形的边上以含有所述多边形的角部的方式而被间断地配置。另外，优选为，所述第二组标记虽然位于不同的多边形上但粗细不同。
[0024]涉及本发明的其它的对准标记，使用微透镜阵列，并将该微透镜阵列配置在曝光对象的基板与设置有在该基板曝光的图案的掩模之间，在对所述掩模与所述基板进行相对地对位时使用，所述微透镜阵列具有:多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠；多边视野光圈，配置在该单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；开口光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的曝光光的最大放大部的至少一部分且具有圆形的开口并规定各微透镜的开口数；以及遮光膜，对除了所述微透镜阵列的上表面中的所述微透镜之外的部分进行遮光，
所述对准标记的特征在于，
形成在所述基板或所述掩模，
构成标记的所有边相对于所述微透镜在直线上排列的第一方向倾斜。
[0025]在该对准标记中，优选为，所述微透镜阵列，其微透镜在垂直于曝光装置的扫描方向的方向上排列成一列而被配置，所述第一方向为垂直于该扫描方向的方向，构成标记的所有边相对垂直于所述扫描方向的方向倾斜。优选为，构成所述标记的所有边相对于垂直于所述扫描方向的方向形成45°的角度。
[0026]涉及本发明的其它的曝光装置用的对准装置，将形成在掩模的曝光图案转印到基板，所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有:
对准光源，兼用于曝光光的射出或者独立的对准光的射出用；
微透镜阵列，配置在所述掩模与所述基板之间，并使从设置在所述基板的基板对准标记反射的对准光的反射光在所述掩模上作为正立等倍像成像；
照相机，在从所述掩模侧将对准光同时地照射到所述基板对准标记和设置在所述掩模的掩模对准标记时，从所述掩模侧检测从所述掩模对准标记反射的反射光以及成像在所述掩模上的所述基板对准标记的正立等倍像；以及
控制装置，以由所述照相机检测出的所述基板对准标记和所述掩模对准标记相一致的方式，调节所述掩模和/或所述基板的位置，
所述微透镜阵列具有:
多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠；多边视野光圈，配置在该单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；开口光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的曝光光的最大放大部的至少一部分且具有圆形的开口并规定各微透镜的开口数；以及遮光膜，对除了所述微透镜阵列的上表面中的所述微透镜之外的部分进行遮光，
所述掩模对准标记或所述基板对准标记中，构成标记的所有边相对于所述微透镜在直线上排列的第一方向倾斜。
[0027]涉及本发明的其它的曝光装置用的对准装置，一种曝光装置用的对准装置，将形成在掩模的曝光图案转印到基板，所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有:
对准光源，兼用于曝光光的射出或者独立的对准光的射出用；
微透镜阵列，配置在所述掩模和所述基板之间，并使从设置在所述掩模的掩模对准标记反射的对准光的反射光在所述基板上作为正立等倍像成像；
照相机，在从所述基板侧将对准光同时地照射到所述掩模对准标记和设置在所述基板的基板对准标记时，从所述基板侧检测从所述基板对准标记反射的反射光以及成像在所述基板上的所述掩模对准标记的正立等倍像；以及
控制装置，以由所述照相机检测出的所述基板对准标记和所述掩模对准标记相一致的方式，调节所述掩模和/或所述基板的位置，
所述微透镜阵列具有:
多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠；多边视野光圈，配置在该单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；开口光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的曝光光的最大放大部的至少一部分且具有圆形的开口并规定各微透镜的开口数；以及遮光膜，对除了所述微透镜阵列的上表面中的所述微透镜之外的部分进行遮光，
所述掩模对准标记或所述基板对准标记中，构成标记的所有边相对于所述微透镜在直线上排列的第一方向倾斜。
[0028]在该曝光装置用的对准装置中，优选为，所述微透镜阵列，其微透镜在垂直于曝光装置的扫描方向的方向上排列成一列而被配置，所述第一方向为垂直于该扫描方向的方向，构成标记的所有边相对垂直于所述扫描方向的方向倾斜。另外，优选为，所述构成标记的所有边相对于垂直于所述扫描方向的方向形成45°的角度。
[0029]涉及本发明的其它的曝光装置用的对准装置，一种曝光装置用的对准装置，设置在使用了通过扫描曝光将掩模的图案转印到基板的微透镜阵列的扫描曝光装置中，并对所述掩模与所述基板进行相对地对位，
所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有
对准光源，将对准用的光照射到设置在所述基板的基板对准标记和设置在所述掩模的掩模对准标记；
微透镜阵列，介于所述基板与所述掩模之间，使所述基板对准标记或者所述掩模对准标记各自在所述掩模或者所述基板中作为正立等倍像成像；
照相机，将所述基板对准标记和所述掩模对准标记拍摄成其中一个为反射光的像并且另一个为正立等倍像；以及
控制装置，基于由该照相机拍摄的所述基板对准标记和所述掩模对准标记，来调节所述掩模和/或所述基板的位置，
所述微透镜阵列具有:
多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠；
多边视野光圈，配置在该单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；
以及 开口光圈，限制所述单位微透镜阵列之间的开口数，
所述微透镜阵列被配置为:所述多个微透镜在正交于扫描曝光方向的方向上排列而构成微透镜列，所述微透镜列在所述扫描曝光方向上配置成多个列，并且在所述扫描曝光方向上邻接的两列微透镜列的相互间在正交于所述扫描曝光方向的方向上偏倚，
所述控制装置使所述微透镜阵列相对于所述基板以及所述掩模在所述扫描曝光方向上相对地移动，并且通过所述照相机以不是所述微透镜列的排列间距的整数倍的间隔对所述基板对准标记的像以及所述掩模对准标记的像进行多次拍摄，将所拍摄的多个像重合，并将该重合的基板对准标记的像和掩模对准标记的像使用于对准。
[0030]涉及本发明的其它的曝光装置用的对准装置，设置在使用了通过扫描曝光将掩模的图案转印到基板的微透镜阵列的扫描曝光装置中，对所述掩模与所述基板进行相对地对位，所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有:
对准光源，将对准用的光照射到设置在所述基板的基板对准标记和设置在所述掩模的掩模对准标记；
微透镜阵列，介于所述基板和所述掩模之间，并使所述基板对准标记或者所述掩模对准标记各自在所述掩模或者所述基板作为正立等倍像成像；
照相机，将所述基板对准标记和所述掩模对准标记拍摄为其中一个为反射光的像并且另一个为正立等倍像；以及
控制装置，基于由该照相机拍摄的所述基板对准标记和所述掩模对准标记，来调节所述掩模和/或所述基板的位置，
所述微透镜阵列具有:
多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠；
多边视野光圈，配置在该单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；
以及
开口光圈，限制所述单位微透镜阵列之间的开口数，
所述微透镜阵列被配置为:所述多个微透镜在正交于扫描曝光方向的方向上排列而构成微透镜列，所述微透镜列在所述扫描曝光方向上配置成多个列，并且在所述扫描曝光方向上邻接的两列微透镜列的相互间在正交于所述扫描曝光方向的方向上偏倚，
所述控制装置使所述微透镜阵列相对于所述基板和所述掩模在扫描曝光方向上相对地移动，并且由所述照相机将所述基板对准标记的像和所述掩模对准标记的像连续地拍摄为动画，将连续地拍摄的基板对准标记的像和掩模对准标记的像使用于对准。
[0031]在该曝光装置用的对准装置中，优选为，所述基板对准标记以及所述掩模对准标记的一个形成为框状，另一个形成为在对准时位于所述框的中心的矩形形状。另外，优选为，所述对准光源与所述照相机检测出的光的光轴同轴地射出对准光。所述微透镜阵列能共用为曝光用的微透镜阵列。
[0032]发明效果
涉及本发明的其它的曝光装置用的对准装置，当由对准光源从掩模的上方将对准光照射到掩模以及基板时，该对准光透过掩模，照射到基板上，在基板上的基板对准标记反射后，反射光通过第二微透镜阵列在掩模上作为基板对准标记的正立等倍像成像。因此，能通过照相机在掩模上检测出基板对准标记以及掩模对准标记，起因于基板与掩模之间的间隙G的照相机侧的焦距差变为O。因此，即使在对准光的光轴倾斜的情况下，由照相机检测出的两个对准标记彼此的相对位置也不变化，能以高精度进行基板与掩模的对准。例如，能防止有时尽管取得了基板与掩模的对准，但在照相机中也误观察为未取得对准，有时尽管未取得基板与掩模的对准，但在照相中也误观察为取得了对准。进而，在本发明中，由于控制装置以由照相机检测出的基板对准标记和掩模对准标记相一致的方式，调节掩模和/或基板的位置，所以能以高精度进行基板与掩模的对准。
[0033]涉及本发明的其它的曝光装置用的对准装置，当由对准光源从基板的下方将对准光照射到掩模以及基板时，在基板例如由PI (聚酰亚胺)以及ITO (氧化铟锡)等透光性材料构成的情况下，该对准光透过基板，照射在掩模上，在掩模上的掩模对准标记反射后，反射光通过第二微透镜阵列在基板上作为掩模对准标记的正立等倍像成像。因此，能通过照相机在基板上检测出基板对准标记和掩模对准标记，在起因于基板与掩模之间的间隙G的照相机侧的焦距差变为O。因此，即使在对准光的光轴倾斜的情况下，由照相机检测出的两个对准标记彼此的相对位置也不变化，能以高精度进行基板与掩模的对准。
【专利附图】

【附图说明】
[0034]图1 (a)是表示涉及本发明的第一实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图1(b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图；
图2 (a)、图2 (b)是表示在图1所示的曝光装置中对准光的光路倾斜的情况的图；
图3是表示涉及本发明的比较例的曝光装置用的对准装置的图；
图4是表示在涉及本发明的比较例的对准装置中对准光的光路的图；
图5 (a)至图5 (d)是表示在涉及第一实施方式的对准装置中未设置第二微透镜阵列7的情况的图；
图6 (a)是表示涉及本发明的第二实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图6 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图；
图7 (a)是表示涉及本发明的第三实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图7 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图；
图8 (a)、图8 (b)是表示在图7所示的曝光装置中对准光的光路倾斜的情况的图；
图9 (a)是表示涉及本发明的第四实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图9 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图；
图10 (a)是表示涉及本发明的第五实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图10 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图；
图11 Ca)是表示涉及本发明的第六实施方式的基板以及掩模的对准方法的图，图11(b)是将成像在掩模上的基板对准标记与微透镜阵列一起示出的图；
图12是表示涉及本发明的第六实施方式的基板对准标记的图；
图13 (a)是将基板对准标记与微透镜阵列一起示出的图，图13 (b)是其放大图；
图14是表示具有与六边视野光圈的边平行的线状分量的基板对准标记的图；
图15 Ca)是将基板对准标记与微透镜阵列一起示出的图，图15 (b)是其放大图；
图16 (a)是将基板对准标记与微透镜阵列一起示出的图，图16 (b)是其放大图；
图17 (a)是将基板对准标记与微透镜阵列一起示出的图，图17 (b)是其放大图； 图18 (a)、图18 (b)是表示在图11所示的曝光装置中对准光的光路倾斜的情况的图； 图19 (a)至图19 (d)是表示涉及本发明的比较例的曝光装置的对准装置的图；
图20是表示涉及第六实施方式的基板对准标记的变形例的图；
图21 (a)是表示涉及本发明的第七实施方式的基板对准标记的图，图21 (b)是将基板对准标记与微透镜阵列一起示出的图；
图22是表示涉及第七实施方式的基板对准标记的变形例的图；
图23 (a)、图23 (b)是表示涉及本发明的第八实施方式的基板对准标记的图；
图24 Ca)是表示涉及本发明的第九实施方式的基板以及掩模的对准方法的图，图24(b)是表示掩模对准标记的图；
图25是表示使用了微透镜阵列的曝光装置的图；
图26是表示单位微透镜阵列的配置的截面图；
图27是表不微透镜的光圈形状的图；
图28是表示涉及本发明的第十实施方式的曝光装置中的基板以及掩模和微透镜阵列的截面图；
图29是同样地表示微透镜阵列的各微透镜的配置的图；
图30是同样地表示微透镜阵列的构造的示意截面图；
图31 (a)是表不六边视野光圈12的图，图31 (b)是表不圆形光圈的不意平面图；
图32是说明六边视野光圈的功能的图；
图33是表示本发明的比较例的掩模对准标记的图，图33 Ca)是表示掩模对准标记相对于微透镜阵列的关系的图，图33 (b)是表示一个掩模对准标记的形状的图，图33 (c)是表示由照相机的传感器检测出的像的图；
图34是表示本发明的实施方式的掩模对准标记的图，图34 Ca)是表示掩模对准标记相对于微透镜阵列的关系的图，图34 (b)是表示一个掩模对准标记的形状的图，图34 (c)是表示由照相机的传感器检测出的像的图；
图35 (a)至图35 (c)是在涉及本发明的第十一实施方式的对准装置中，将经由多边视野光圈检测出的基板对准标记的像与微透镜阵列一起示出的图，以及表示将通过照相机拍摄的基板对准标记的像重合的状态的图；
图36 Ca)是表示涉及本发明的第十一实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图36(b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图；
图37 (a)、图37 (b)是表示在图36所示的曝光装置中对准光的光路倾斜的情况的图；图38 (a)至图38 (d)是表示在涉及本发明的第十二实施方式的对准装置中经由多边视野光圈检测出的基板对准标记的像以及由照相机连续地拍摄为动画的基板对准标记的像的图；
图39 Ca)是表示涉及本发明的第十三实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图39(b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图；
图40 Ca)是表示涉及本发明的第十四实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图40(b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图；
图41 (a)、图41 (b)是表示在图40所示的曝光装置中对准光的光路倾斜的情况的图； 图42 Ca)是表示涉及本发明的第十五实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图42(b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图；
图43 Ca)是表示涉及本发明的第十六实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图43(b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图；
图44是表示使用了微透镜阵列的曝光装置的图；
图45是表示设置光路差并吸收基板与掩模之间的间隙的对准装置的图。
【具体实施方式】
[0035]以下对于本发明的实施方式，参照随附的附图，具体地进行说明。图1 (a)是表示涉及本发明的第一实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图1 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图。如图1所示，在本实施方式中，设置有对准装置的曝光装置与以往的使用了微透镜阵列的曝光装置相同，在基板I与掩模2之间设置微透镜阵列3，使从曝光光源8射出的曝光光透过形成于掩模2的图案，通过微透镜阵列3，使图案的正立等倍像成像于基板上。在该曝光装置中，对准装置使用于基板I与掩模2的相对地对位中。
[0036]在涉及本实施方式的对准装置中，在掩模2的上方设置有对准光源5，该对准光源5从掩模2的上方将对准用的光照射到设置在基板I的基板对准标记Ia和设置在掩模2的对准标记2a。如图1所示，曝光用的上述微透镜阵列3在基板I与掩模2相对地对位时移动到基板对准标记Ia与掩模对准标记2a之间，使一片微透镜阵列3在曝光时和对准时移动来进行使用。而且，在对准时构成为通过微透镜阵列3将从基板对准标记Ia反射的正立等倍像成像在掩模2上。另外，构成为在掩模2的上方设置照相机6，通过照相机6检测从掩模对准标记2a反射的反射光以及成像在掩模2上的基板对准标记Ia的正立等倍像。
[0037]如图1 (a)所示，在本实施方式中，照相机6例如为I焦点型同轴落射式显微镜，内置有对准光源5。而且，对准光源5构成为与照相机6检测出的光的光轴同轴地射出对准光。作为该对准光源5，能使用激光或者透过了干涉滤光片的灯光。作为灯光源，例如如果使用卤素灯，则能降低成本，所以优选。此外，对准光源5也可以与照相机6以分体方式设置。从对准光源5射出的光，例如经由反射镜以及分束器等的光学系统而照射到掩模2以及基板I。
[0038]在掩模2例如设置有框状的掩模对准标记2a，在基板I例如设置有大小比掩模对准标记2a小且矩形的基板对准标记la。而且，在对准时，当基板I与掩模2处于规定的位置关系时，如图1 (b)所示，由照相机6检测出的基板对准标记Ia位于掩模对准标记2a的中心。
[0039]照射到掩模2以及基板I的对准光构成为各自被各对准标记la，2a反射而由照相机6检测。如图1 (a)所示，照相机6与控制掩模2的位置的控制装置9连接，控制装置9构成为在通过基于照相机6的检测结果需要进行基板I与掩模2的对准的情况下，使掩模2移动。例如，在由照相机6检测出的基板对准标记Ia的位置从框状的掩模对准标记2a的中心偏离的情况下，控制装置9以基板对准标记Ia位于掩模对准标记2a的中心的方式使掩模2移动。此外，如图1 (a)中用双点划线示出的那样，控制装置9也可以构成为，例如连接至载置基板I的平台等，并通过使基板I移动来进行基板I与掩模2的对准。另外，控制装置9也可以构成为，通过使基板I以及掩模2的两者移动来进行基板I与掩模2的对准。[0040]在对准时，通过在掩模对准标记2a与基板对准标记Ia之间的微透镜阵列3，由基板对准标记Ia反射的反射光，透过微透镜阵列3，将基板对准标记Ia的正立等倍像成像在掩模2上。因此，虽然在基板I与掩模2之间实际存在5至15 _的间隙G，但是起因于该间隙G的照相机6侧的焦距差变为O。因此，能将相对于照相机6的传感器的距离不同的基板I以及掩模2的对准标记la，2a同时成像在照相机6，如果将各对准标记作为标识对基板I与掩模2的位置进行调整，则能以高精度进行基板I与掩模2的对准。另外，通过使在照相侧的焦距差为0，如图2 (a)所示，即使在对准光的光轴倾斜的情况下，对准标记彼此的相对位置也不改变，能获得非常高的对准精度。
[0041]接着，对于如上述那样构成的本实施方式的对准装置的动作进行说明。微透镜阵列3在曝光时位于设置在掩模2的图案区域的下方。首先，该微透镜阵列3在图1中向右的方向移动，移动到基板对准标记Ia与掩模对准标记2a之间。接着，从内置于照相机6的卤素灯等的对准光源5射出对准光。该对准光，例如经由反射镜以及分束器等的光学系统首先照射到掩模2。照射到掩模2的对准光由掩模对准标记2a反射。另一方面，透过掩模2的对准光，透过配置在掩模2的下方的微透镜阵列3，照射到基板I上。
[0042]而且，在基板对准标记Ia反射的反射光透过微透镜阵列3，再次入射到掩模2，将基板对准标记Ia的正立等倍像成像在掩模2上。而且，各反射光入射到照相机6的传感器而检测出掩模对准标记2a以及成像在掩模2上的基板对准标记Ia的正立等倍像。这样，在本实施方式中，通过照相机6检测出成像在掩模2上的基板对准标记Ia的正立等倍像，因此虽然在基板I与掩模2之间实际存在5至15 _的间隙G，但是在照相机6侧起因于该间隙G的焦距差为O。
[0043]而且，通过由照相机6检测出的基板和掩模的各对准标记la，2a，来进行基板I与掩模2的对准。例如，在由照相机6检测出的基板对准标记Ia的位置从框状的掩模对准标记2a的中心偏离的情况下，通过控制装置9以基板对准标记Ia位于掩模对准的中心的方式使掩模2移动,进行基板I与掩模2的对准。在本实施方式中，由于起因于基板I与掩模2之间的间隙G的照相机6侧的焦距差变为0，所以能将基板I以及掩模2的对准标记la，2a作为标识以高精度进行基板I与掩模2的对准。
[0044]另外，由于将基板对准标记Ia的正立等倍像成像在掩模2上，所以如图2 Ca)所示，即使在对准光的光轴倾斜的情况下，由照相机6检测出的基板以及掩模的对准标记Ia以及2a的相对位置，也如图2 (b)所示，不会从对准光垂直于基板I以及掩模2进行照射的图1 (b)的情况变化，对准精度也不会由于对准光的光轴倾斜的原因而降低。
[0045]以下，对于在对准光的光轴倾斜的情况下的上述效果，与比较例进行比较详细地说明。图3是表示涉及本发明的比较例的曝光装置用的对准装置的图，图4是表示在涉及本发明的比较例的对准装置中对准光的光路的图。如图3以及图4所示，该对准装置是使用了 2焦点型的同轴落射照明的对准装置，例如，设置有射出长波长光的第一光源27和射出短波长光的第二光源26,来自第一光源27的长波长光在反射镜29反射后去往分束器28,来自第二光源26的短波长光在该分束器28与来自第一光源27的长波长光汇合。而且,这些汇合光在透镜30会聚之后，在分束器24反射而经过透镜25后去往掩模2以及基板I。该汇合光在掩模2以及基板I垂直于其表面入射，在掩模2的对准标记2a以及基板I的对准标记Ia反射，经与入射光路相同的光路返回。该反射光通过分束器24，经过透镜23，22和滤光片21入射到照相机20。因此，反射镜29以及分束器28构成使从第一以及第二光源27, 26射出的长波长光和短波长光汇合在同一光路的第一光学系统,透镜30、分束器24、透镜25构成将来自该第一光学系统的汇合光垂直于掩模2以及基板I的表面照射到掩模2以及基板I的第二光学系统，透镜25、分束器24、透镜23、透镜22构成使在掩模2以及基板I的对准标记2a，Ia反射的反射光返回与第二光学系统相同的光路后将其引导至照相机20的第三光学系统。
[0046]在该比较例中，当从第一光源27射出例如波长为670 nm的红光，从第二光源26射出例如波长为405 nm的蓝光时，这些光在分束器28汇合后经同一光路行进至照相机20。即，如图4所示，汇合光从分束器24去往掩模2以及基板1，相对于该掩模2以及基板I垂直于其表面地入射。
[0047]此后，在掩模2的对准标记2a以及基板I的对准标记Ia反射的汇合光的反射光按照与入射光相同的光路朝分束器24 —直前进，透过滤光片21，入射至照相机20的传感器。此时，由于汇合光通过由相同的透镜25,23,22构成的光学系统，因此在这样的相同的透镜的情况下，蓝光(波长405 nm)的焦点距离短，红光(波长670 nm)的焦点距离长。因此，如果适当地设定透镜25，23，22的光学常数，则能使入射到照相机20的传感器的光中在掩模2的对准标记反射的光的蓝光分量在照相机20的传感器形成合焦点，而在距照相机20更远的基板I的对准标记反射的光的红光分量在照相机20的传感器形成合焦点。在像这样构成的比较例的对准装置中，虽然基板I与掩模2之间的间隙G为5至15 _左右，但是对于照相机20的入射光中红光和蓝光经过不同的光路长度而在传感器形成合焦点，因此吸收掉例如5 mm的间隙G，能在照相机20的传感器聚焦基板I以及掩模2这两者的对准标记la, 2a,能通过使基板I上的对准图案和掩模2上的对准图案这两者聚焦在传感器，同时地进行观察。
[0048]在像这样构成的比较例的对准装置中，如图5 (a)所示，在对准光垂直于基板I以及掩模2照射的情况下，如图5 (b)所示，可获得规定的对准精度。但是，如图5 (c)所示，在对准光的光轴倾斜的情况下，反射光的光路变化，由于基板I与掩模2之间的间隙G的原因，即使在基板I与掩模2处于规定的位置关系的情况下，也如图5 (d)所示在照相机6侧检测出的对准标记la，2a的位置会偏离。这样一来，尽管实际上对准标记2a和对准标记Ia其位置相一致，掩模2与基板I取得了对准，也在照相机6中误观察到未取得对准。换言之，尽管在基板I与掩模2未取得对准，也会产生在照相机6观察为对准标记Ia处于对准标记2a的中心，从而误观察到基板I与掩模2取得了对准。
[0049]对此，在本实施方式中，通过微透镜阵列3，将基板对准标记Ia的正立等倍像成像在掩模2上，因此，如图2 (a)所示，即使在对准光的光轴倾斜的情况下，也如图2 (b)所示，由照相机6检测出的基板以及掩模的对准标记Ia和2a的相对位置不变化，能获得非常高的对准精度。
[0050]另外，在上述比较例中，需要设置波长不同的两个对准光源，构造以及对准方法稍微复杂，但是在涉及本实施方式的对准装置中，在对准时，通过仅使曝光用的微透镜阵列3移动到基板对准标记Ia和掩模对准标记2a之间，从而使起因于基板I与掩模2之间的间隙G的照相机6侧的焦距差为O而获得高的对准精度，对准光源仅一个即可。
[0051]在基板I与掩模2对准之后，将微透镜阵列3向图1中的左方向移动，移动到设置在掩模2的图案区域的下方,此后,射出曝光光,开始基于微透镜阵列3的扫描曝光。在本实施方式中，如上述那样，由于能获得高的对准精度，所以能将扫描曝光中的曝光精度维持
得非常高。
[0052]此外，本实施方式中的基板以及掩模的对准标记la，2a的形状是一个例子，只要能在照相机6检测出各对准标记la，2a以进行基板I与掩模2的对准，则本发明并不由对准标记la，2a的形状所限定。
[0053]另外，在本实施方式中，对于构成为对准光源5内置于照相机6,与照相机6检测出的光的光轴同轴地射出对准光的情况进行了说明，但是在本发明中，将基板I以及掩模2的一个的正立等倍像成像在另一个，并由照相机6对此进行检测，因此对准光源5射出的光的光轴也可以不与在照相机检测到的反射光的光轴同轴。
[0054]接着，对于涉及本发明的第二实施方式的曝光装置用的对准装置进行说明。图6(a)是表示涉及本发明的第二实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图6 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图。在第一实施方式中，对于在曝光时和对准时使曝光用的微透镜阵列3移动，将一片微透镜阵列共用为曝光用和对准用的情况进行了说明，但是如图6所示，在本实施方式中，微透镜阵列3以包含曝光光所照射的曝光位置和对准光所照射的对准位置的大小被设置。对于其它结构与第一实施方式相同。
[0055]像本实施方式那样，通过以包含曝光位置和对准位置的大小的微透镜阵列来构成一片共有微透镜阵列3，从而在曝光时和对准时不需要使微透镜阵列3移动。其它效果与第一实施方式相同。
[0056]接着，对于涉及本发明的第三实施方式的曝光装置用的对准装置进行说明。图7(a)是表示涉及本发明的第三实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图7 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图，图8 (a)、图8 (b)是表示在图7所示的曝光装置中对准光的光路倾斜的情况下的图。如图7所示，在本实施方式中，设置有曝光用的(第一)微透镜阵列3和对准用的第二微透镜阵列7的两片微透镜阵列。而且，第二微透镜阵列7的光学特性与(第一)微透镜阵列3的相同。其它结构与第一实施方式相同。
[0057]在本实施方式中，也能将基板对准标记Ia的正立等倍像成像在掩模2上,能使起因于基板I与掩模2之间的5至15 mm的间隙G的照相机6侧的焦距差为0，与第一实施方式相同，能以高精度进行基板I与掩模2的对准。另外，如图8所示，即使在对准光的光轴倾斜的情况下，对准标记彼此的相对位置也不变化，能获得非常高的对准精度。另外，在微透镜阵列中，曝光用的微透镜阵列3和对准用的微透镜阵列7以分体方式构成，由此与第二实施方式相同，在曝光时和对准时不需要使微透镜阵列3移动。
[0058]接着，对于涉及本发明的第四实施方式的曝光装置用的对准装置进行说明。图9Ca)是表示涉及本发明的第四实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图9 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图。如图9所示，在本实施方式中，对准光源5以及照相机6被配置在基板I的下方，从基板的下方照射对准用的光。另外，基板对准标记Ib形成为框状，掩模对准标记2b形成为矩形形状。在本实施方式中，曝光对象的基板I例如由PI(聚酰亚胺)以及ITO (氧化铟锡)等光透过性材料构成，对准用的光透过基板I照射到掩模
2。即，在本实施方式中，在基板I由光透过性材料构成的情况下，对准光的照射方向以及基板I与掩模2的各对准标记lb，2b的形状与第一实施方式不同，其它结构与第一实施方式相同。
[0059]在本实施方式中，曝光用的微透镜阵列3也在基板I与掩模2的相对地对位时移动到掩模对准标记2b和基板对准标记Ib之间，使一片微透镜阵列3在曝光时和对准时移动来进行使用。而且，在对准时，通过微透镜阵列3，由掩模对准标记2b反射的反射光透过微透镜阵列3，掩模对准标记2b的正立等倍像被成像在基板I上。因此，虽然在基板I与掩模2之间存在5至15 mm的间隙G，但是起因于该间隙G的照相机6侧的焦距差为O。因此，在本实施方式中也与上述第一至第三实施方式相同，能将基板I的基板对准标记Ib以及掩模2的掩模对准标记2b作为标识，以高精度进行基板I与掩模2的对准。例如，在由照相机6检测出的掩模对准标记2b的位置从框状的基板对准标记Ib的中心偏离的情况下，通过控制装置9以掩模对准标记2b位于基板对准标记Ib的中心的方式使掩模2移动来进行基板I与掩模2的对准。另外，由于将掩模对准标记2b的正立等倍像成像在基板I上，因此即使在对准光的光轴倾斜的情况下，由照相机6检测出的基板以及掩模的对准标记Ib以及2b的相对位置也不会从对准光垂直于基板I以及掩模2地照射的情况变化，能获得非常高的对准精度。
[0060]此外,在本实施方式中，与第二实施方式相同，也以包含曝光光所照射的曝光位置和对准光所照射的对准位置的大小来设置微透镜阵列3，从而在曝光时和对准时无需使微透镜阵列3移动。
[0061]接着，对于涉及本发明的第五实施方式的曝光装置用的对准装置进行说明。图10(a)是表示涉及本发明的第五实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图10 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图。如图10所示，在本实施方式中，与第三实施方式相同，设置有曝光用的(第一)微透镜阵列3和对准用的第二微透镜阵列7的两片微透镜阵列。而且，第二微透镜阵列7的光学特性与(第一)微透镜阵列3的相同。由此，在本实施方式中，与第二实施方式相同，在曝光时和对准时无需使微透镜阵列3移动。
[0062]接着，对于本发明的第六实施方式进行说明。图11 (a)是表示涉及本发明的第六实施方式的基板以及掩模的对准方法的图，图11 (b)是将成像在掩模上的基板对准标记与微透镜阵列一起示出的图，图12是表示涉及本发明的第六实施方式的基板对准标记的图，图13 (a)是将基板对准标记与微透镜阵列一起示出的图，图13 (b)是其放大图。如图11(a)所示，在本实施方式中，与以往的使用了微透镜阵列的曝光装置相同，曝光装置在基板I与掩模2之间设置有微透镜阵列3，使从曝光光源8射出的曝光光透过形成在掩模2上图案，通过微透镜阵列3将图案的正立等倍像成像在基板上。在该曝光装置中，在掩模2设置有例如框状的掩模对准标记2a，在曝光对象的基板I设置有规定形状的基板对准标记11。而且，在对准时，微透镜阵列3例如移动到基板对准标记11和掩模对准标记2a之间，使一片微透镜阵列3在曝光时和对准时移动来进行使用。而且，在对准时，通过微透镜阵列3将从基板对准标记11反射的光在掩模上成像为正立等倍像。
[0063]在本实施方式中，构成为在掩模2的上方设置有从掩模2的上方将对准用的光照射到设置在基板I的基板对准标记11和设置在掩模2的掩模对准标记2a的对准光源5，在对准时，通过微透镜阵列3来使从基板对准标记11反射的正立等倍像成像在掩模2上。另夕卜，构成为在掩模2的上方设置有照相机6，由照相机6检测出从掩模对准标记2a反射的反射光以及成像在掩模2上的基板对准标记11的正立等倍像。而且，在对准时，当基板I与掩模2处于规定的位置关系时，由照相机6检测出的掩模对准标记2a的对准中心与基板对准标记11的对准中心相一致。
[0064]如图11 (a)所示，照相机6与控制掩模2的位置的控制装置9连接，控制装置9构成为，在通过基于照相机6的检测结果而需要进行基板I与掩模2的对准的情况下使掩模2移动。例如，在由照相机6检测出的基板对准标记11的对准中心的位置从掩模对准标记2a的对准中心偏离的情况下，控制装置9以基板对准标记11的对准中心与掩模对准标记2a的对准中心相一致的方式使掩模2移动。此外，如图11 (a)中用双点划线示出的那样，控制装置9也可以构成为，例如连接至载置基板I的平台等，通过使基板I移动来进行基板I与掩模2的对准。另外，控制装置9还可以构成为通过使基板I以及掩模2两者移动来进行基板I与掩模2的对准。
[0065]如图11 Ca)所示，在本实施方式中，照相机6例如为I焦点型的同轴落射式显微镜，内置有对准光源5。而且，对准光源5构成为与照相机6检测出的光的光轴同轴地射出对准光。作为该对准光源5，可以使用激光或者透过了干涉滤光片的灯光。作为灯光源，例如如果使用卤素灯，则能降低成本，所以优选。此外，对准光源5也可以与照相机6以分体方式设置。从对准光源5射出的光，例如经由反射镜以及分束器等的光学系统而照射到掩模2以及基板I。
[0066]在微透镜阵列3中按各微透镜中的每个设置有多边视野光圈42和开口光圈41。在本实施方式中，如图27所示，多边视野光圈构成为，在微透镜的开口光圈41之中作为六边形形状的开口而形成的六边视野光圈42。因此，如图11 (b)所示，基板I的反射光通过六边视野光圈42，仅透过来自与六边形所包围的区域相对应的基板区域的反射光，并将该区域的正立等倍像成像在掩模2上。
[0067]图25是表示使用了微透镜阵列的曝光装置的示意图。在曝光对象的基板I的上方，形成有曝光在基板I的图案的掩模2相对于基板I隔开适当长度的间隔而被配置。而且，在该基板I与掩模2之间配置有以二维方式排列了微透镜4的微透镜阵列3，曝光光从掩模2的上方对掩模2进行照射，透过掩模2的曝光光通过微透镜阵列3被投影在基板I上，形成在掩模2的图案通过微透镜阵列3作为正立等倍像被转印到基板表面上的抗蚀剂
坐寸ο
[0068]图26是表示使用于曝光装置中的微透镜阵列3的图。如图26所示，微透镜阵列3例如为4片8透镜结构，具有层叠4片单位微透镜阵列3-1，3-2，3-3，3-4的构造。各单位微透镜阵列3-1至3-4由通过表里两个凸透镜表现的光学系统构成。由此，曝光光在单位微透镜阵列3-2和单位微透镜阵列3-3之间暂且会聚，进而在单位微透镜阵列3-4下方的基板上成像。即，掩模2的倒立等倍像成像在单位微透镜阵列3-2和单位微透镜阵列3-3之间，掩模2的正立等倍像成像在基板上。在单位微透镜阵列3-2和单位微透镜阵列3-3之间配置有多边视野光圈(例如六边视野光圈42)，在单位微透镜阵列3-3和单位微透镜阵列3-4之间配置有圆形的开口光圈41。开口光圈41限制各微透镜的NA (开口数)并且六边视野光圈42在接近成像位置将视野缩窄成六边形。针对每个微透镜设置这些六边视野光圈42以及开口光圈41，对于各微透镜，通过开口光圈41将微透镜的光透过区域整形为圆形，并且将曝光光在基板上的曝光区域整形为六边形。六边视野光圈42例如如图27所示在微透镜的开口光圈41中形成为六边形形状的开口。因此，通过该六边视野光圈42，当设为透过微透镜阵列3的曝光光停止进行扫描时，在基板I上只有被包围在如图13所示的六边形中的区域被照射。
[0069]在使用了微透镜阵列的扫描曝光中，通常将掩模2和基板I固定，通过使微透镜阵列3和曝光光源以及光学系统一体地在垂直于纸面的方向上移动，从而曝光光对基板I上进行扫描。这种情况下，需要在基板I的上表面以及掩模2的下表面各自设置对准标记Ia以及2a，将这些对准标记Ia以及2a作为标识来对基板I与掩模2进行相对地对位。
[0070]像这样，由于在微透镜阵列3设置有多边视野光圈，所以在设置于基板I的对准标记例如如图14所示为由两条线状的标记片111 Α,ΙΙΙ B构成的十字形状的基板对准标记111那样的情况下，产生基板对准标记111位于微透镜阵列3的微透镜之间而不能进行对准标记的检测的情况。另外，如图14所示，即使在基板对准标记111的一部分穿过六边视野光圈42的开口而能进行检测的情况下，也会在被检测出的标记片111 B与构成六边视野光圈42的开口的边平行的情况下，难以识别由照相机6检测出的像是构成六边视野光圈42的开口的边42d的像还是基板对准标记111的标记片111 B的像。
[0071]如图12所示，本实施方式中的基板对准标记11由在相对于六边视野光圈42的开口的所有边42a至42f倾斜的方向上延伸的多条线状的标记片IlA至IlK构成。因此，在由照相机6检测时，所检测出的标记延伸的方向相对于六边视野光圈42的边倾斜。由此，能相对于六边视野光圈42的开口明确地识别由照相机6检测出的标记片。即，本实施方式中的基板对准标记11由从对准中心110放射状地延伸的第一标记片IIA至11C，和在以对准中心110为中心的多边形(例如8边形)的边上延伸的多个第二标记片IlD至IlK构成。而且，第一标记片以及第二标记片在多个位置处交叉。即，第一标记片IlB与两条第二标记片11E，IlI交叉，第一标记片IlC与两条第二标记片11F，IlJ交叉，第一标记片IlA与两条第二标记片IlD以及IlK在一个点交叉，另外与两条第二标记片IlG以及IlH在一个点交叉。而且，以这些标记片中的多个标记片存在于任一个多边视野光圈中的方式确定六边视野光圈42以及标记片的位置。
[0072]如图13所示，在第一标记片IlA至IlC所交叉的对准中心110穿过六边视野光圈42的开口而能被检测的情况下，能将该对准中心110作为标识来进行基板I以及掩模2的对准。但是，如图15至图17所示，在基板对准标记11相对于微透镜阵列3的相对位置从图13所示的状态偏离的情况下，由于基板对准标记11的对准中心110位于被以二维方式配置的微透镜之间不透过光的区域中，因此对准中心110未能穿过六边视野光圈42的开口而被检测。
[0073]在本发明中，基板对准标记11例如以标记片彼此的交叉部为穿过六边视野光圈42的开口而被检测的形状进行设置，通过该标记片IlA至IlK彼此所交叉的点，检测出基板对准标记11的对准中心110。例如如图15所示,在基板对准标记11相对于微透镜阵列3的相对位置从图13所示的状态在左右方向上偏离的情况下，第二标记片11E，11F彼此的交叉部以及第二标记片111，IlJ彼此的交叉部穿过了六边视野光圈31的开口而被检测到。在这种情况下，如图15 (b)所示，所检测出的交叉部的中点被检测为基板对准标记的对准中心110。另外，如图16所示，在基板对准标记11相对于微透镜阵列3的相对位置从图13所示的状态在斜向方向上偏离的情况下，第二标记片11D，IlE彼此的交叉部以及第二标记片11H，IlI彼此的交叉部穿过了六边视野光圈31的开口而被检测到。在这种情况下，如图16 (b)所示，所检测出的交叉部的中点被检测为基板对准标记的对准中心110。进而，如图17所示，在基板对准标记11相对于微透镜阵列3的相对位置从图13所示的状态在上下方向上偏离的情况下，第二标记片11J，IlK彼此的交叉部以及第一标记片IlA和第二标记片HG，IlH的交叉部穿过了六边视野光圈31的开口而被检测到。在这种情况下，如图17(b)所示，以第一标记片IlA和第二标记片11G，IlH的交叉部作为基准，将分隔开规定距离的量的位置检测为基板对准标记的对准中心110。在该图17所示的例子中，进而，还检测出第二标记片11J，IlK彼此的交叉部，以根据需要利用于基板对准标记的对准中心110的检测。
[0074]接着，对于如上述那样构成的本实施方式的对准装置的动作进行说明。微透镜阵列3在曝光时位于设置在掩模2的图案区域的下方。首先，该微透镜阵列3在图11中向右的方向上移动，移动到基板对准标记11和掩模对准标记2a之间。接着，从内置于照相机6的卤素灯等的对准光源5射出对准光。该对准光例如经由反射镜以及分束器等的光学系统首先照射到掩模2。照射到掩模2的对准光被掩模对准标记2a反射。另一方面，透过掩模2的对准光透过被配置在掩模2下方的微透镜阵列3照射到基板I上。
[0075]而且，在基板对准标记11反射的反射光透过微透镜阵列3再次入射到掩模2，基板对准标记11的正立等倍像被成像在掩模2上。此时，在掩模2上，只有来自与六边视野光圈31的开口对应的基板区域的反射光被透过，该区域的正立等倍像被成像在掩模2上。而且，各反射光入射到照相机6的传感器，从而检测出掩模对准标记2a以及成像在掩模2上的基板对准标记11的正立等倍像。像这样，通过由照相机6检测出成像在掩模2上的基板对准标记11的正立等倍像，虽然在基板I与掩模2之间实际上存在5至15 mm的间隙G，但是在照相机6侧起因于该间隙G的焦距差变为O。
[0076]在本实施方式中，基板对准标记11由在相对于六边视野光圈42的开口的所有边4a至42f倾斜的方向上延伸的多条线状的标记片IlA至IlK构成。因此，在由照相机6检测时，根据被检测出的标记延伸的方向，能相对于六边视野光圈42的开口明确地对其进行识别。
[0077]当由照相机6检测基板对准标记11时，如图13所示，在第一标记片IlA至IlC彼此所交叉的基板对准标记11的对准中心Iio穿过六边视野光圈42的开口而能被检测出的情况下，能将该基板对准标记的对准中心110作为标识来进行基板I以及掩模2的对准。例如，在由照相机6检测出的基板对准标记11的对准中心的位置从框状的掩模对准标记2a的中心偏离的情况下，通过控制装置9以基板对准标记的对准中心110位于掩模对准标记2a的中心的方式使掩模2移动来进行基板I与掩模2的对准。在本实施方式中，由于起因于基板I与掩模2之间的间隙G的照相机6侧的焦距差变为0，因此能将基板I以及掩模2的对准标记la，2a作为标识来以高精度进行基板I与掩模2的对准。
[0078]但是，如图15至图17所示，在基板对准标记11相对于微透镜阵列3的相对位置从如图13所示的状态偏离的情况下，基板对准标记的对准中心110位于以二维方式配置的微透镜之间不透过光的区域，因此对准中心110未能穿过六边视野光圈42的开口而被检测。但是，在本实施方式中，基板对准标记11由从对准中心110放射状地延伸的第一标记片IlA至IlC和在以对准中心110为中心的多边形(例如8边形)的边上延伸的多个的第二标记片IlD至IlK构成，以多个标记片存在于任一个多边视野光圈中的方式确定六边视野光圈42以及标记片的位置。即，基板对准标记11以标记片彼此的交叉部穿过六边视野光圈42的开口而被检测的形状进行设置，通过该标记片IlA至IlK彼此所交叉的点，从而检测出基板对准标记11的对准中心110。例如如图15所示，通过照相机6，第二标记片11E，IlF彼此的交叉部以及第二标记片111，IlJ彼此的交叉部穿过六边视野光圈42的开口而被检测，如图15 (b)所示，所检测出的交叉部的中点被检测为基板对准标记的对准中心110。或者，如图16所示，第二标记片11D，IlE彼此的交叉部以及第二标记片11H，11I彼此的交叉部穿过六边视野光圈42的开口而被检测，如图16 (b)所示，所检测出的交叉部的中点被检测为基板对准标记的对准中心110。如图17所示，在第一标记片IlA和第二标记片11G，IlH的交叉部穿过六边视野光圈42的开口而被检测的情况下，如图17 (b)所示，将第一标记片IlA和第二标记片11G，IlH的交叉部作为基准，将分隔开规定距离的量的位置检测为基板对准标记的对准中心110。因此，以该基板对准标记的对准中心110位于框状的掩模对准标记2a的中心的方式进行基板I与掩模2的对准。
[0079]像以上那样，在本实施方式中，即使在基板对准标记11的对准中心110位于以二维方式配置的微透镜之间不透过光的区域的情况下，也能通过基板对准标记11的各线状的标记片IIA至IIK彼此的交叉点来检测对准中心110，并能通过所检测出的对准标记将对位精度维持得高。
[0080]像本实施方式那样使用微透镜阵列3，将基板对准标记11的正立等倍像成像在掩模2上，由此，通过使起因于基板与掩模之间的间隙G的照相机侧的焦距差为0，从而如图18 (a)所示，即使在对准光的光轴倾斜的情况下，对准标记11，2a之间的相对位置也不会从图11所示的情况变化，能获得非常高的对准精度。
[0081]S卩，在基板I以及掩模2的相对地对位中不使用微透镜阵列3的情况下，如图19Ca)所示，在对准光垂直于基板I以及掩模2地照射的情况下，如图19 (b)所示，可获得规定的对准精度。但是，如图19(c)所示，在对准光的光轴倾斜的情况下，反射光的光路变化，由于基板I与掩模2之间的间隙G的原因，即使在基板I与掩模2处于规定的位置关系的情况下，也如图19 (d)所示，在照相机6侧检测的对准标记la，2a的位置偏离。这样一来，尽管实际上对准标记2a和对准标记Ia其位置相一致，掩模2和基板I取得了对准，也在照相机6中误观察到未取得对准。换言之，尽管在基板I与掩模2未取得对准，也会产生在照相机6观察为对准标记Ia处于对准标记2a的中心，从而误观察到基板I与掩模2取得了对准。
[0082]对此，在本实施方式中，通过微透镜阵列3将基板对准标记11的正立等倍像成像在掩模2上，因此如图18所示，即使在对准光的光轴倾斜的情况下，由照相机6检测出的基板以及掩模的对准标记11以及2a的相对位置也不变化，能获得非常高的对准精度。
[0083]在基板I与掩模2对准之后，将微透镜阵列3在图11中向左的方向上移动，移动到设置在掩模2的图案区域的下方，此后，射出曝光光，开始微透镜阵列3的扫描曝光。在本实施方式中，如上述那样，可获得高的对准精度，因此能将扫描曝光的曝光精度维持得非常闻。
[0084]在本实施方式中，对于构成为对准光源5内置于照相机6,与照相机6检测出的光的光轴同轴地射出对准光的情况进行了说明，但是在本发明中，只要构成为能将基板I以及掩模2的一个的正立等倍像成像在另一个，并由照相机6对此进行检测即可，对准光源5射出的光的光轴也可以不与在照相机检测到的反射光的光轴同轴。[0085]接着，对于本实施方式的变形例的基板对准标记进行说明，图20是表示涉及第六实施方式的基板对准标记的变形例的图。如图20所示，该基板对准标记12为第六实施方式中的第二标记片IlD至IlK被分割成两部分而在中央形成间隙。即，本实施方式中的基板对准标记12由从对准中心120放射状地延伸的3条第一标记片12A至12C和在以对准中心120为中心的多边形的边上延伸的多个第二标记片12D至12W构成。而且，第一标记片以及第二标记片在多个位置交叉。即，第一标记片12B与两条第二标记片12G，12Q交叉，第一标记片12C与两条第二标记片12J，12T交叉，第一标记片12A与两条第二标记片12D以及12W在一个点交叉，另外，与两条第二标记片12M以及12N在一点交叉。但是，在本实施方式中，构成基板对准标记的标记片彼此的交叉点的数目也与第六实施方式相同。因此，通过与第六实施方式相同的对准方法，可获得相同的效果。
[0086]接着，对于涉及本发明的第七实施方式的基板对准标记进行说明。图21 (a)是表示涉及本发明的第七实施方式的基板对准标记的图，图21 (b)是将基板对准标记与微透镜阵列一起示出的图。如图21 (a)所示，涉及本实施方式的基板对准标记13为，在第六实施方式的基板对准标记11中,在对准中心130侧具有在以该对准中心为共同中心的8边形的边上相连而配置的线状标记片13d至13k。其它的标记片13A至13C与第六实施方式的标记片IlA至IlC相同，标记片13D至13K也与第六实施方式的标记片IlD至IlK相同。
[0087]像这样，通过设置以对准中心130为共同中心的标记片13d至13k，除了在第六实施方式的上述情况之外，还如图21 (b)所示，产生在对准中心130侧的标记片13d，13e的交叉点以及在外侧的标记片13D，13E的交叉点这两者穿过一个六边视野光圈42的开口而被成像在掩模2上的情况。这种情况下，将在交叉点彼此的延长线上仅分隔开规定距离的位置检测为基板对准标记13的对准中心130。而且，能将该被检测出的对准中心130的位置作为标识来进行基板I以及掩模2的对准。
[0088]在本实施方式中还可获得与第六实施方式相同的效果。此外，在本实施方式中基板对准标记也可以进行与第六实施方式相同的变形。例如，在第七实施方式的基板对准标记13中，被形成为围住对准中心130的标记片13D至13K、13d至13k也可以被分割成两部分而在中央形成间隙，从而能使用如图22所示的基板对准标记14。
[0089]此外，如图21 (b)所示，该对准标记13由线对称的多边形形状的图形构成，具有被配置为不与构成多边视野光圈的开口部的任一缘边平行的多边形形状部，以及由从所述多边形形状部的中心横穿所述多边形形状部的至少6条放射线构成的放射线部，所述多边形形状部以及所述放射线部的整体大于所述透镜的大小，小于4个邻接的透镜的整体的大小。因此，如前面所述，能将对准标记13的线段与多边视野光圈42的缘边区别开，进而，由于任一线段存在于多边视野光圈42之中，因此能以良好精度检测对准标记13的中心。
[0090]接着，对于涉及本发明的第八实施方式的基板对准标记进行说明。图23 (a)、图23 (b)是表示涉及本发明的第八实施方式的基板对准标记的图。如图23 (a)所示，本实施方式的基板对准标记15为在第七实施方式的基板对准标记13中在对准中心130侧的标记片和被配置在外侧的标记片的线的粗细不同。因此在本实施方式中，容易地识别对准中心130侧的线状标记和外侧的标记片。其它结构以及效果与第六和第七实施方式相同。
[0091]此外，在本实施方式中基板对准标记15也可以进行与第六以及第七实施方式相同的变形。例如，在第八实施方式的基板对准标记15中，被形成为围住对准中心的线状标记也可以被分割成两部分而在中央形成间隙，从而能使用如图23 (b)所示的基板对准标记16。
[0092]在上述第六至第八实施方式中，对于将基板对准标记的正立等倍像成像在掩模上的情况进行了说明，但是在将掩模对准标记的正立等倍像成像在基板上的情况下，也由从对准中心放射状地延伸的第一组标记片和在以对准中心为中心的多边形的边上延伸的第二组标记片来构成掩模对准标记，如果以这些标记片中的多个标记片存在于任一个多边视野光圈之中的方式确定六边视野光圈以及标记片的位置，则可获得与第六至第八实施方式相同的效果。
[0093]接着，对于涉及本发明的第九实施方式的曝光装置进行说明。图24 (a)是表示涉及本发明的第九实施方式的基板以及掩模的对准方法的图，图24 (b)是表示掩模对准标记的图。如图24 (a)所示，在本实施方式中，对准光源5以及照相机6被配置在基板I的下方，从基板的下方照射对准用的光。另外，基板对准标记Ib形成为框状，掩模对准标记2B如图24 (b)所示以与第六实施方式中的基板对准标记11相同的形状设置。在本实施方式中，曝光对象基板I例如由PI (聚酰亚胺)以及ITO (氧化铟锡)等光透过性材料构成，对准用的光透过基板I照射到掩模2。即，在本实施方式中，在基板I由光透过性材料构成的情况下，对准光的照射方向以及基板I与掩模2的各对准标记lb，2b的形状与第六实施方式不同，其它结构与第六实施方式相同。像本实施方式那样，即使在从基板的下方照射对准光的情况下，也能通过与第六实施方式相同的对准方法来实现高精度的对准。
[0094]接着，对于本发明的第十实施方式进行说明。图28是表示涉及本发明的实施方式的曝光装置的图，图29是表示微透镜阵列的微透镜的配置的图，图30是表示微透镜阵列的构造的图，图31是表示开口形状的图，图32是表示微透镜阵列的曝光原理的图。在基板I和形成有应转印到该基板I的曝光图案的掩模2之间配置有微透镜阵列3。由于将该微透镜阵列3配设在其间，因此基板I与掩模2之间的间隙为如前面所述的5至15 mm。使得微透镜阵列3如后述那样将设置在掩模2的图案的正立等倍像成像在基板I。
[0095]而且,在基板I上表面相对于掩模2的相向面配置有基板对准标记32,在掩模2的表面相对于基板I的相向面配置有掩模对准标记31。
[0096]另外，如图29和图30所示，微透镜阵列3由以二维方式配置多个微透镜4而构成，各微透镜4配置有六边形形状的六边视野光圈42，只有透过该六边视野光圈42的光被照射到基板I。如图30所示，微透镜阵列3例如由层叠4片单位微透镜阵列3-1，3-2，3-3，3-4而构成，各单位微透镜阵列3-1，3-2，3-3，3-4具有在玻璃板的上表面以及下表面形成有作为凸透镜的微透镜4的构造。而且，在最上层的单位微透镜阵列3-1的上表面，在除微透镜4以外的区域形成有Cr膜等的遮光膜43，在设置在该遮光膜43的圆形开口 40内配置有作为凸透镜的微透镜2a。该遮光膜43为了防止杂散光而反射被照射到微透镜4以外的区域的曝光光，以防止曝光光入射到微透镜4以外的区域。
[0097]另外，在单位微透镜阵列3-2和单位微透镜阵列3-3之间配置有六边视野光圈42，在单位微透镜阵列3-3和单位微透镜阵列3-4之间配置有规定开口数的圆形开口光圈41。如图31 Ca)所示，六边视野光圈42在示出透镜形状的遮光膜43的开口 40内作为六边形形状的开口而被设置，如图31 (b)所示，圆形开口光圈41在开口 40内作为圆形的开口而被设置。而且，如图30所示，通过4片单位微透镜阵列，透过掩模2的曝光光首先在单位微透镜阵列3-2和单位微透镜阵列3-3之间暂且成像为倒立等倍像，在单位微透镜阵列3-3和单位微透镜阵列3-4之间最大地放大之后，从单位微透镜阵列3-4射出而在基板I上成像为正立等倍像。此时，由于在成像为倒立等倍像的位置配置有六边视野光圈42，因此掩模图案被整形为该六边形的形状并被转印到基板I。圆形光圈41将曝光光的最大放大部的形状整形为圆形，并规定微透镜的NA (开口数)。
[0098]在本实施方式的曝光装置中，基板I与掩模2被固定，而微透镜3以及光源(未图不)一体地在扫描方向S上同步移动，由此将掩模2的图案扫描曝光到基板I表面的例如抗蚀剂膜，或是微透镜阵列3以及光源被固定，基板I以及掩模2—体地在扫描方向S上同步移动，由此将掩模2的图案扫描曝光到基板I表面的抗蚀剂膜。
[0099]此时，在基板I的表面上，如图32所示那样，曝光光被瞬间地照射到六边视野光圈42的六边形部分。如在该图32以及图29所示，微透镜在垂直于扫描方向S的方向上并列而被配置，关于在垂直于扫描方向S的方向上并列的微透镜列,在扫描方向S上邻接的微透镜列在垂直于扫描方向S的方向上稍微偏离地配置。即，微透镜的六边视野光圈42形成为六边形形状，相对于垂直于扫描方向S的方向，由左侧的三角形部分45b、中间的矩形部分45a和右侧的三角形部分45c构成。而且，以微透镜列的左侧的三角形部分45b和在扫描方向S上邻接的微透镜列的右侧的三角形部分45c关于扫描方向S重叠的方式，多个微透镜列被配置在扫描方向S上。因此,对于垂直于扫描方向S的方向,微透镜4并列在一条直线上，而对于扫描方向S则稍微偏离地配置。而且,这些微透镜列被配置为关于扫描方向S以3列为I组，第四列微透镜列被配置在与第一列微透镜列相同的位置。即，第一列和第四列的微透镜列在垂直于微透镜4的扫描方向S的方向上的位置相同。
[0100]而且，当微透镜阵列3以及光源，和基板I以及掩模2在扫描方向S上相对地移动时，在基板I上，关于垂直于扫描方向S的方向，首先，接受第一列微透镜列的六边视野光圈的右侧三角形部分45C的通过的区域，此后接受第二列微透镜列的六边视野光圈的左侧三角形部分45b的通过，没有第三列微透镜列开口部的通过。另一方面，接受第一列微透镜列的六边视野光圈的矩形部分45a的通过的区域，此后没有第二列以及第三列微透镜列开口部的通过。进而，接受第一列微透镜列的六边视野光圈的左侧三角形部分45b的通过的区域，此后不接受第二列微透镜列开口部的通过，接受第三列微透镜列的六边视野光圈的右侧三角形部分45c的通过。像这样，在扫描时，基板I上的区域，每当3列微透镜列通过时，接受六边视野光圈42的两个三角形部分45b，45c的通过，或是接受一个矩形部分45a的通过。因为三角形部分45b，45c的开口面积为矩形部分45a的开口面积的1/2，所以每当通过3列微透镜列时,关于扫描方向S接受均勻的光量曝光。第四列微透镜列关于垂直于扫描方向S的方向在与第一列微透镜列相同的位置配置有微透镜，因此，以后成为3列一组重复同样的曝光。因此，作为微透镜阵列3，通过对于扫描方向S设置3 η (η为自然数)列的微透镜列，使这3 η列的微透镜列进行扫描，从而基板I在其扫描区域的整个区域接受均匀光量的均等的曝光。由此，通过微透镜阵列3以及光源相对于基板I以及掩模2在扫描方向S上相对地移动，从而形成在掩模2的图案被曝光到基板I上。这样，通过微透镜阵列3，掩模2的图案的正立等倍像被转印到基板I。
[0101]在本实施方式中，微透镜阵列3如图25所在曝光工序中使用于将掩模2的掩模图案的正立等倍像成像在基板I的目的，并且如图28所示在对准工序中将微透镜阵列3使用于基板I与掩模2的对位。即，在对准工序中，使微透镜阵列3移动到基板对准标记32和掩模对准标记31之间，从掩模2的上方，通过照相机51检测掩模对准标记31和基板对准标记32。
[0102]该照相机51例如为I焦点型的同轴落射式显微镜，内置有对准用的光源和拍摄像用的传感器。即，从照相机51照射对准光，并且使对准光的反射光与对准光的光轴同轴地入射来检测该反射光。根据照相机51的对准光的照射以及对准光的反射光的检测由控制部52控制。另外，控制部52基于掩模对准标记31和基板对准标记32的检测结果控制用于掩模2和基板I的相对地对位的驱动源(未图示)。对准光源构成为与照相机51检测出的光的光轴同轴地射出对准光，作为该对准光源，能使用激光或者透过干涉滤光片的灯光。作为灯光源，例如如果使用卤素灯，则能降低成本而是优选的。此外，对准光源也可以与照相机51以分体方式设置。从对准光源射出的光例如经由反射镜和分束器等的光学系统照射到掩模2和基板I。
[0103]图33 (b)表示比较例的掩模对准标记31的形状。即，该掩模对准标记31是在玻璃基板34上通过像Cr膜那样反射光的金属膜33从而形成口形的图案。对准标记31的中心部为不存在金属膜33的所谓的除去部35，曝光光可透过。因此，在该掩模对准标记31中，由作为金属膜33和除去部35的边界的边3a，3b，3c，3d规定标记形状。
[0104]不过，在照相机51的传感器检测出该掩模对准标记31的情况下，对于微透镜阵列3检测为如图29所示。即，当来自照相机51的对准光照射到微透镜阵列3时，由于来自微透镜阵列3的最上层的遮光膜43的反射光的光量多，因此看起来发白。而且，在不存在遮光膜43的开口 40设置有微透镜4，入射到该微透镜4的光在六边视野光圈42被整形为六边形照射到基板1，在基板I的基板对准标记32反射的光经由微透镜4返回到照相机5，在照相机5的传感器检测出基板对准标记32。此时，透过六边视野光圈42在基板I反射的光的光量多，看起来发白。另一方面，虽然透过遮光膜43的开口 40，但是未透过六边视野光圈42的光被该六边视野光圈12反射，返回到照相机51，在照相机51的传感器检测到。该六边视野光圈42的反射光如图29所示，在照相机51的传感器看起来呈灰色。
[0105]图33 (a)是将该掩模对准标记31重叠在微透镜阵列2进行显示的图。掩模对准标记31的各边3a，3b, 3c, 3d根据与掩模2和微透镜阵列3的相对位置关系，存在边3d位于两个微透镜列之间的情况。这种情况下，由于来自照相机51的对准光在掩模对准标记31反射时的反射光的光量多，在照相机51的传感器看起来发白，因此与在微透镜阵列3的遮光膜43反射时的反射光同化，不能作出区别。因此，如图33 (c)示出在照相机51的传感器检测的图像那样，掩模对准标记31的边3d与遮光膜43的反射光同化而不能检测出其位置。
[0106]另一方面，图34 (b)示出本发明实施方式的掩模对准标记31的结构。本发明实施方式的掩模对准标记31与图33相同，在玻璃基板34之上通过作为Cr膜等的遮光反射膜的金属膜33从而形成正方形的除去部35。该掩模对准标记31在金属膜33和除去部35的边界形成有边36，36 38，311，通过该边36，36 38，311规定了掩模对准标记31的形状。这些边3e，3f，3g，3h的任一个都不在与微透镜阵列3中的微透镜4的排列方向相一致的方向上延伸。即，各边3e，3f，3g，3h的任一个都相对于微透镜2a在直线上排列的第一方向倾斜。在本实施方式中，由于微透镜在垂直于扫描方向S的方向上排列，因此垂直于该扫描方向S的方向为第一方向,所有的边3e, 3f, 3g, 3h相对于扫描方向S倾斜。在本实施方式中，边3e，3f，3g，3h相对于扫描方向S以45的角度交叉。
[0107]在本发明中，像这样，掩模对准标记31的各边3e，3f，3g，3h相对于微透镜的排列方向不一致，因此如图34 (a)所示，不存在位于微透镜列之间的边。因此，如图34 (c)所示，在照相机4的传感器检测出所有的边3e，3f，3g，3h作为在六边视野光圈42反射的光(灰色光)和在金属膜33反射的光(白色光)的边界。
[0108]接着，对于如上述构成的本发明的实施方式的动作进行说明。将微透镜阵列2配置在基板I的基板对准标记32和掩模2的掩模对准标记31之间，从掩模2的上方，通过作为落射显微镜的照相机51，将对准光朝向掩模对准标记31和基板对准标记32垂直地向下方照射。这样一来，如图34(a)所不,照相机51的传感器将来自掩模对准标记31的金属膜33的反射光和来自微透镜阵列3的遮光膜43的反射光的任一个都作为白色光进行检测，将在六边视野光圈42反射的反射光作为灰色光检测出，并且检测透过六边视野光圈42的对准光在基板I的基板对准标记32反射的反射光。通过微透镜阵列2，透过六边视野光圈42的对准光成像在基板I上，在基板对准标记32反射后，通过微透镜阵列3在掩模2成像。
[0109]另一方面，掩模对准标记31如图34 (C)所示，掩模对准标记31的各边3e，3f，3g，3h在微透镜阵列3上重叠，由照相机51的传感器检测出。此时，由于掩模对准标记31的各边3e，3f，3g，3h与微透镜的排列方向不一致，因此不会位于微透镜列之间，如图34 (c)所示，所有边3e，3f，3g，3h被在六边视野光圈42反射的反射光(灰色光)之上检测出。
[0110]因此，照相机51的传感器能在掩模2的下表面将掩模对准标记31的轮廓(所有的边3e，3f，3g，3h)在六边视野光圈42反射的反射光之上检测出。另外，能将基板对准标记32作为来自通过微透镜阵列3成像在掩模2的下表面的基板对准标记32的反射光进行检测。由于任一掩模都能在掩模2的下表面检测出，因此照相机51能在其焦点深度的范围内同时检测出两者的标记。
[0111]因此，在使用微透镜阵列的曝光装置中，即使在基板I与掩模2的间隙大的情况下，也能在同一面(掩模下表面)同时检测出掩模对准标记31和基板对准标记32，能取得以高精度对基板I与掩模2的对准。
[0112]另外，由于照相机51在同一面检测出基板对准标记32和掩模对准标记31，所以即使在照相机51的光轴相对于掩模2倾斜的情况下，对于取得基板I与掩模2的对准的情况，也必然检测到掩模对准标记31和基板对准标记32配合的位置，因此不会对掩模2和基板I的对准进行误检测。
[0113]进而，像从图33和图34的对比可知那样，本发明的情况(图34)下，由于在示出掩模对准标记31的轮廓的边之中不存在在微透镜的排列方向上延伸的边，所以能从反射光之中检测出所有的边，能以高精度检测掩模对准标记31。因此能进一步提高掩模3和基板I的对准精度。
[0114]不用说，本发明并不被限定于上述实施方式。例如，在上述实施方式中，虽然将对准光从掩模的上方照射到掩模以及基板，在掩模的上方检测对准光，但是，也可以从基板I的下方进行该对准光的照射和检测。也可以在基板I的下方将照相机的对准光照射方向朝向上方来配置照相机51，在基板I的上表面检测基板对准标记32，通过微透镜阵列3将掩模对准标记31成像在基板I的上表面，在基板I的上表面进行检测。这种情况下，只要将基板对准标记32形成为图34所示即可。即，需要形成为使基板对准标记32的轮廓的各边与微透镜阵列的排列方向不一致。
[0115]此外，在上述实施方式中，虽然多边视野光圈为六边视野光圈42，微透镜列按每3列构成微透镜列组，但是本发明不限于此而可能为各种形态。例如，通过微透镜规定基板上的视野的多边视野光圈不限于六边视野光圈，也可以具有例如菱形、平行四边形或者梯形形状等的开口。例如，在该梯形形状(四边形)的视野光圈中，也能将视野区域分解成中央的矩形部分和其两侧的三角形部分。另外，构成一组微透镜列组的微透镜列不限于3列，例如，虽然在上述的梯形和平行四边形(横向长)的开口的情况下，按每3列构成一个组，但是在菱形和平行四边形(纵向长)的情况下，按每两列构成一个组。进而，虽然图32所示的微透镜的排列关于扫描方向S由3列构成一个组，第四列微透镜列与第一列微透镜列关于垂直于扫描方向S的方向被配置在相同的位置，但是根据所设计的透镜性能，透镜大小和视野宽度(六边视野光圈宽度)不同，因此存在透镜间距间隔与视野宽度的比率变更的情况。该情况下，当将透镜间距调整为视野宽度的整数倍时，也会产生不成为3列结构的情况。
[0116]另外，上述实施方式中，虽然使用于曝光的微透镜阵列3移动到掩模对准标记31和基板对准标记32之间，将基板对准标记32的像投影在掩模上，但是也可以设置对准用的专用微透镜阵列，或配置具备曝光用和对准用的两者的功能的大型微透镜阵列。
[0117]接着，对于本发明的第十一实施方式进行说明。图35 (a)至图35 (C)是在本发明第十一实施方式的对准装置中将经由多边视野光圈检测出的基板对准标记的像和微透镜阵列一起示出的图，和示出将通过照相机拍摄的基板对准标记的像重合的状态的图，图36Ca)是表示涉及本发明的第十一实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图36 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图。如图36所示，在本实施方式中，设置有对准装置的曝光装置与以往的使用微透镜阵列的扫描曝光装置一样，在基板I与掩模2之间设置有微透镜阵列3，使从曝光光源8射出的曝光光透过形成在掩模2的图案，通过微透镜阵列3将图案的正立等倍像成像在基板上。而且，构成为通过使微透镜阵列3和曝光光源以及光学系统一体地相对于掩模2和基板I在垂直于图36的纸面的方向上(以下称为扫描曝光方向)相对移动，从而曝光光对基板I上进行扫描，掩模2的图案被转印到基板I上。在该曝光装置中，对准装置被使用于基板I与掩模2的相对地对位。
[0118]本实施方式的对准装置在掩模2的上方设置有将对准用的光从掩模2的上方照射到设置在基板I的基板对准标记Ia和设置在掩模2的掩模对准标记2a的对准光源5。如图36 (a)所示，在本实施方式中，对准光源5和检测基板对准标记Ia以及掩模对准标记2a的照相机6 —起内置于I焦点型的同轴落射式显微镜。而且，对准光源5构成为与照相机6检测出的光的光轴同轴地射出对准光。作为该对准光源5，可以使用激光或透过干涉滤光片的灯光。作为灯光源，例如如果使用卤素灯，则能降低成本，所以优选。此外，对准光源5也可以与照相机6以分体方式设置。从对准光源5射出的光例如经由反射镜和分束器等的光学系统照射到掩模2和基板I。
[0119]微透镜阵列3与图26所示的微透镜阵列一样，例如为4片8透镜结构，具有层叠4片单位微透镜阵列3-1，3-2，3-3，3-4的构造。各单位微透镜阵列3_1至3_4以二维方式配置有多个微透镜4而构成。例如单位微透镜阵列3-1至3-4为排列有多个微透镜的微透镜列在正交于其排列方向的方向上配置多个列而成。而且，邻接的微透镜列的微透镜彼此在列方向上相互偏倚，例如通过3列微透镜列构成一个微透镜列组。而且，微透镜阵列3以各微透镜列中的微透镜的排列方向成为与相对于基板I与掩模2的相对扫描曝光方向正交的方向的方式配置在曝光装置和对准装置。在本实施方式中，微透镜阵列3在基板I与掩模2的相对地对位时移动到基板对准标记Ia和掩模对准标记2a之间，在曝光时和对准时使一片微透镜阵列3移动，将曝光用的微透镜阵列3共用为对准用而进行使用。
[0120]曝光装置设置有例如使微透镜阵列3移动的驱动装置(未图示)，由控制装置进行控制。而且，在曝光时，控制装置以使微透镜阵列3和光源8—体地在曝光方向上移动的方式进行控制。另外，在对准时，在照射对准光的状态下，控制装置以使微透镜阵列3在扫描曝光方向上移动的方式进行控制，由此构成为从基板I反射的光与微透镜阵列3的六边视野光圈42的六边形开口相对应而被从照相机6侧检测。在本实施方式中，微透镜阵列3的移动方向在曝光时和对准时为相同方向。
[0121]掩模2例如设置有框状的掩模对准标记2a，基板I例如设置有大小与掩模对准标记2a相比小的矩形的基板对准标记la。而且，在对准时，当基板I与掩模2处于规定的位置关系时，如图36 (b)所示，由照相机6检测的基板对准标记Ia位于掩模对准标记2a的中心。
[0122]在本实施方式中，构成为在基板I与掩模2的对准时，通过微透镜阵列3，从基板对准标记Ia反射的正立等倍像被成像在掩模2上，通过设置在掩模2上方的照相机6同时检测从掩模对准标记2a反射的反射光以及成像在掩模2上的基板对准标记Ia的正立等倍像。
[0123]如图36(a)所示，照相机6与控制掩模2的位置的第二控制装置9连接，第二控制装置9构成为，在通过基于照相机6的检测结果需要基板I与掩模2的对准时使掩模2移动。例如，在由照相机6检测出的基板对准标记Ia的位置从框状的掩模对准标记2a的中心偏离的情况下，第二控制装置9以基板对准标记Ia位于掩模对准标记2a的中心的方式使掩模2移动。此外，如图36 (a)以双点划线所示，第二控制装置9也可以构成为，例如连接至载置基板I的平台等，通过使基板I移动，从而进行基板I与掩模2的对准。或者，第二控制装置9也可以构成为通过使基板I与掩模2两者移动，从而进行基板I与掩模2的对准。
[0124]在对准时，通过配置在掩模对准标记2a和基板对准标记Ia之间的微透镜阵列3，从基板对准标记Ia反射的反射光透过微透镜阵列3，基板对准标记Ia的正立等倍像被成像在掩模2上。因此，虽然在基板I与掩模2之间实际上存在5至15 mm的间隙G，但是起因于该间隙G的照相机6侧的焦距差变为O。因此，能将相对于照相机6的传感器的距离不同的基板I以及掩模2的对准标记la，2a同时成像在照相机6，如果将各对准标记作为标识，调整基板I与掩模2的位置，则能以高精度进行基板I与掩模2的对准。另外，通过使照相机侧的焦距差为0，如图37 Ca)所示，即使在对准光的光轴倾斜的情况下，对准标记彼此的相对位置也不会变化(图37 (b))，能获得非常高的对准精度。
[0125]在微透镜阵列3的单位微透镜阵列之间的反转成像位置配置有例如如图27所示的六边视野光圈42。因此，被成像在掩模2上的基板对准标记Ia的像变成与六边视野光圈42的开口对应的像。因此，瞬间地产生基板对准标记Ia的端缘不在与六边视野光圈42的开口对应的位置的情况，产生从照相机6侧不能检测出基板对准标记Ia的端缘，不能断定基板对准标记Ia的中心位置，不能将所检测出的像使用于基板I与掩模2的对准的情况。
[0126]但是，在本实施方式中，在微透镜阵列3中，多个微透镜在正交于扫描曝光方向的方向上进行排列而构成微透镜列，该微透镜列在其扫描曝光方向上配置成多个列，并且在扫描曝光方向上邻接的两列微透镜列相互之间以在垂直于扫描曝光方向的方向上偏倚的方式配置，在对准时，由控制装置以在扫描曝光方向上移动的方式进行控制。而且，控制装置通过照相机以不是微透镜阵列3的各微透镜列的排列间距的整数倍的间隔对两个对准标记的像进行多次拍摄，将所拍摄的多个像重合，将该重合的基板对准标记Ia和掩模对准标记2a的像使用于对准。因此，即使在设置有多边视野光圈的情况下，也能确实地断定基板对准标记Ia的端缘。S卩，如图35 (a)至图35 (c)所示，由照相机6检测出的基板对准标记Ia的像，存在瞬间地不能检测其端缘的情况。例如如图35 Ca)所示，对准标记Ia左侧的端缘不能由照相机6检测到。但是，控制装置在使微透镜阵列3在扫描曝光方向方向上移动的同时，通过照相机6以不是微透镜阵列3的微透镜列的排列间距的整数倍的间隔对基板对准标记Ia的像进行多次拍摄，如图35 (a)至图35 (C)右侧的图所示，通过重合所拍摄的多张像，从而能确实地检测出基板对准标记Ia的端缘，能进行基板I与掩模2的对准。此时，当根据照相机6的对准标记la，2a的拍摄以微透镜列的排列间距的整数倍的间隔进行时，基板对准标记Ia的像通过多次拍摄而被检测为在正交于扫描曝光方向的方向上并列。因此，在基板对准标记Ia的扫描方向的端缘不能被第一次拍摄检测出的情况下，在第二次以后的拍摄中也不能检测出基板对准标记Ia的扫描曝光方向的端缘。根据该照相机6的拍摄次数优选为构成微透镜列组的微透镜列的列数以上。
[0127]接着，对于如上所述构成的本实施方式的对准装置的动作进行说明。微透镜阵列3在曝光时位于设置在掩模2的图案区域的下方。首先，该微透镜阵列3在图36的向右方向上移动，移动到基板对准标记Ia和掩模对准标记2a之间。接着，从内置于照相机6的卤素灯等的对准光源5射出对准光，并且由控制装置以微透镜阵列3在扫描曝光方向上移动的方式进行控制。该对准光例如经由反射镜以及分束器等的光学系统，首先照射到掩模2。照射到掩模2的对准光被掩模对准标记2a反射。另一方面，透过掩模2的对准光透过配置在掩模2下方的微透镜阵列3，照射到基板I上。
[0128]而且，在基板对准标记Ia反射的反射光透过微透镜阵列3，再次入射到掩模2，基板对准标记Ia的正立等倍像被成像在掩模2上。而且，各反射光入射到照相机6的传感器，掩模对准标记2a以及成像在掩模2上的基板对准标记Ia的正立等倍像被检测出。像这样，在本实施方式中，由照相机6检测出成像在掩模2上的基板对准标记Ia的正立等倍像，因此，虽然在基板I与掩模2之间的实际上存在5至15 _的间隙G，但是在照相机6侧起因于该间隙G的焦距差变为O。
[0129]控制装置通过照相机6对成像在掩模2上的基板对准标记Ia的像和掩模对准标记2a—起进行多次拍摄(图35)。S卩，微透镜阵列3中在单位微透镜阵列之间的反转成像位置设置有六边视野光圈42，因此成像在掩模2上的基板对准标记Ia的像变成与六边视野光圈42的开口对应的像，瞬间地产生从照相机6侧不能检测出基板对准标记Ia的端缘的情况。例如如图35 (a)所示，产生不能检测出基板对准标记Ia的左侧的端缘，不能断定基板对准标记Ia的中心位置，不能将所拍摄的对准标记Ia的像使用于基板I与掩模2的对准的情况。但是，在本实施方式中，通过控制装置，在使微透镜阵列3在扫描曝光方向上移动的同时，通过照相机6以不是微透镜阵列3的各微透镜列的排列间距的整数倍的间隔对基板对准标记Ia的像进行多次拍摄。而且，控制装置将所拍摄的多张像重合，将该重合的对准标记la，2a的像使用于对准。由此，能确实地检测出基板对准标记Ia的端缘。因此，能确实地断定基板对准标记Ia的中心位置，能使用于高精度的对准。
[0130]而且，通过由照相机6检测出的基板以及掩模的各对准标记la，2a，从而进行基板I以及掩模2的对准。例如，在由照相机6检测出的基板对准标记Ia的位置从框状的掩模对准标记2a的中心偏离的情况下，通过第二控制装置9，以基板对准标记Ia位于掩模对准标记2a的中心的方式使掩模2移动来进行基板I与掩模2的对准。在本实施方式中，由于起因于基板I与掩模2之间的间隙G的照相机6侧的焦距差变为0，所以能将基板I和掩模2的对准标记la，2a作为标识，以高精度进行基板I与掩模2的对准。
[0131]另外，由于将基板对准标记Ia的正立等倍像成像在掩模2上，所以如图37 (a)所示，即使在对准光的光轴倾斜的情况下，由照相机6检测的基板以及掩模的对准标记Ia和2a的相对位置也如图37 (b)所不不从对准光垂直于基板I和掩模2地照射的图36 (b)的情况变化，对准精度也不会由于对准光的光轴倾斜的原因而降低。
[0132]与此相对，在未通过微透镜阵列3将基板对准标记Ia成像在掩模2的情况下，如参照图5说明的，误检验对准标记的位置。在本实施方式的对准装置中，对准精度高，并且在对准时，以使曝光用的微透镜阵列3移动到基板对准标记Ia和掩模对准标记2a之间的方式，使起因于基板I与掩模2之间的间隙G的照相机6侧的焦距差为O而可获得高对准精度，对准光源仅为一个也可以。
[0133]在基板I与掩模2的对准后，微透镜阵列3向图36中的左方向移动，移动到设置在掩模2的图案区域的下方,之后,射出曝光光,开始微透镜阵列3的扫描曝光。在本实施方式中，像上述那样，可获得高对准精度，因此，能将扫描曝光中的曝光精度维持得非常高。
[0134]此外，本实施方式的基板和掩模的对准标记la，2a的形状为一个例子，只要能在照相机6检测出各对准标记la，2a以进行基板I与掩模2的对准，则本发明并不由对准标记la，2a的形状所限定。
[0135]另外，虽然在本实施方式中，对于对准光源5构成为和照相机6 —起内置于显微镜，与照相机6检测出的光的光轴同轴地射出对准光的情况进行了说明，但是在本发明中，由于将基板I和掩模2的一个的正立等倍像成像在另一个，由照相机6对此进行检测，因此对准光源5射出的光的光轴与通过照相机检测出的反射光的光轴也可以不同轴。
[0136]接着，对于涉及本发明的第十二实施方式的曝光装置用的对准装置进行说明。图38 (a)至图38 (d)是表示在本发明第十二实施方式的对准装置中经由多边视野光圈检测的基板对准标记的像以及由照相机连续地拍摄为动画的基板对准标记的像的图。本实施方式与第十一实施方式的不同在于下述的点:在对准时照相机6连续地拍摄成像在掩模2上的基板对准标记Ia的正立等倍像。此外，在图38中，作为一个例子，表示使在扫描曝光方向上并列的微透镜阵列3的各微透镜列每次以扫描曝光方向的排列间距移动的状态。
[0137]在本实施方式中，在对准时，控制装置在使微透镜阵列3移动的同时，通过由照相机6对成像在掩模2上的基板对准标记Ia的正立等倍像进行规定时间的连续拍摄，从而如图38 (b)至38 (d)所示，与六边视野光圈42的开口对应而成像在掩模2上的基板对准标记Ia的像通过扫描而被检测为其像呈带状延伸。而且，例如如图32所示，在微透镜阵列3为在扫描曝光方向上配置3列微透镜列而构成一个微透镜组的情况下，通过将照相机6的拍摄时间设为微透镜阵列3移动微透镜列的排列间距的3个间距的量的时间以上，从而如图38 (d)所示，能在照相机6侧检测出基板对准标记Ia的整体。因此，在本实施方式中，能以比第十一实施方式高的精度检测基板对准标记Ila的中心位置。
[0138]接下来，对于涉及本发明的第十三实施方式的曝光装置用的对准装置进行说明。图39 (a)是表示涉及本发明的第十三实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图39 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图。在第十一实施方式和第十二实施方式中，虽然对在曝光时和对准时使曝光用的微透镜阵列3移动，将一片微透镜阵列共用为曝光用和对准用的情况进行说明，但是如图39所示，在本实施方式中，微透镜阵列3以包含曝光光所照射的曝光位置和对准光所照射的对准位置的大小被设置。对于其它结构，与第十一实施方式相同。
[0139]像本实施方式那样，通过以包含曝光位置和对准位置的大小的微透镜阵列构成一片共有的微透镜阵列3，从而在曝光时和对准时，不需要使微透镜阵列3移动。另外，能对在曝光时和对准时各自使微透镜阵列3移动的结构，例如驱动装置进行共用。其它的效果与第H 实施方式相同。
[0140]此外，与第十二实施方式相同，通过构成为在对准时，在使微透镜阵列3移动的同时，由照相机6对成像在掩模2上的基板对准标记Ia的像和掩模对准标记2a的像一起连续地进行拍摄，从而可获得与第十二实施方式相同的效果。
[0141]接下来，对于涉及本发明的第十四实施方式的曝光装置用的对准装置进行说明。图40 (a)是表示涉及本发明的第十四实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图40 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图，图41 (a)、图41 (b)是在图40所示的曝光装置中对准光的光路倾斜的情况下的图。如图40所示，在本实施方式中，设置有曝光用的(第一)微透镜阵列3和对准用的(第二)微透镜阵列7的两片微透镜阵列。而且，第二微透镜阵列7的光学特性与(第一)微透镜阵列3的相同。其它结构与第十一实施方式相同。
[0142]在本实施方式中，也能将基板对准标记Ia的正立等倍像成像在掩模2上,能使起因于基板I与掩模2之间的5至15 mm的间隙G的照相机6侧的焦距差为0，与第十一实施方式相同，能以高精度进行基板I与掩模2的对准。另外，如图41所示，即使在对准光的光轴倾斜的情况下，对准标记彼此的相对位置也不变化，能获得非常高的对准精度。另外，在微透镜阵列中，曝光用的微透镜阵列3和对准用的微透镜阵列7以分体方式构成，由此与第十三实施方式相同，在曝光时和对准时不需要使微透镜阵列3移动。
[0143]而且，在本实施方式中，也通过在对准时，控制装置在使微透镜阵列7移动的同时由照相机6以不是微透镜阵列3的各微透镜列的排列间距的整数倍的间隔对成像在掩模2上的基板对准标记Ia的像和掩模对准标记2a —起多次进行拍摄，将所拍摄的对准标记的像重合来使用于对准，从而可获得与第十一实施方式相同的效果。另外，通过构成为在使微透镜阵列7移动的同时，由照相机6对成像在掩模2上的基板对准标记Ia的像和掩模对准标记2a的像一起连续地进行拍摄，从而可获得与第十二实施方式相同的效果。
[0144]在本实施方式中，通过设置曝光用的微透镜阵列3和对准用的微透镜阵列7，从而能使曝光时的微透镜阵列3的扫描曝光方向和对准时的微透镜阵列7的移动方向为不同的方向。即，如果根据第二驱动装置的微透镜阵列7的移动方向为与构成微透镜列的微透镜的排列方向正交的方向，则可获得本发明的效果。
[0145]接着，对于涉及本发明的第十五实施方式的曝光装置用的对准装置进行说明。图
42(a)是表示涉及本发明的第十五实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图42 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图。如图42所示，在本实施方式中，对准光源5和照相机6配置在基板I的下方，从基板的下方照射对准用的光。另外，基板对准标记Ib形成为框状，掩模对准标记2b形成为矩形形状。在本实施方式中，曝光对象基板I例如由PI(聚酰亚胺)和ITO (氧化铟锡)等光透过性材料构成，对准用的光透过基板1，照射到掩模
2。即，在本实施方式中，在基板I由光透过性材料构成的情况下，对准光的照射方向，以及基板I和掩模2的各对准标记lb, 2b的形状与第^ 实施方式不同，其它的结构与第i
实施方式相同。
[0146]在本实施方式中，曝光用的微透镜阵列3在基板I与掩模2的相对地对位时移动到掩模对准标记2b和基板对准标记Ib之间，在曝光时和对准时使一片微透镜阵列3移动来进行使用。而且，在对准时，通过微透镜阵列3，从而被掩模对准标记2b反射的反射光透过微透镜阵列3，掩模对准标记2b的正立等倍像被成像在基板I上。此时，由于设置在微透镜阵列3的单位微透镜阵列之间的反转成像位置的六边视野光圈42的原因，成像在基板I上的掩模对准标记2b的像变成与六边视野光圈42的开口对应的像。因此，瞬间地产生从照相机6侧不能检测掩模对准标记2b的端缘，不能断定掩模对准标记2b的中心位置，不能将所拍摄的对准标记2b的像使用于基板I与掩模2的对准的情况。但是，微透镜阵列3被配置为，多个微透镜在正交于扫描曝光方向的方向上排列而构成微透镜列，该微透镜列在其扫描曝光方向上配置成多个列，并且在扫描曝光方向上邻接的两列微透镜列相互间在正交于扫描曝光方向的方向上偏倚，在对准时，由控制装置以在扫描曝光方向上移动的方式进行控制。因此，在本实施方式中，也由控制装置通过照相机6以不是微透镜阵列3的各微透镜列的排列间距的整数倍的·间隔对成像在基板I上的掩模对准标记2b的像和基板对准标记Ib —起多次进行拍摄，将所拍摄的多张像重合，将该重合的基板对准标记Ib以及掩模对准标记2b的像使用于对准，由此，即使在设置多边视野光圈的情况下，也能确实地断定掩模对准标记Ib的端缘，能使用于基板I与掩模2的对准。
[0147]另外，虽然在基板I与掩模2之间存在5至15 mm的间隙G，但是起因于该间隙G照相机6侧的焦距差变为O。因此，在本实施方式中也与上述第十一至第十四实施方式相同，能将基板I和掩模2的对准标记lb，2b作为标识来以高精度进行基板I与掩模2的对准。例如，在由照相机6检测的掩模对准标记2b的位置从框状的基板对准标记Ib的中心偏离的情况下，通过第二控制装置9以掩模对准标记2b位于基板对准标记Ib的中心的方式使掩模2移动来进行基板I与掩模2的对准。另外，由于将掩模对准标记2b的正立等倍像成像在基板I上，因此即使在对准光的光轴倾斜的情况下，由照相机6检测出的基板对准标记Ib和掩模对准标记2b的相对位置也不会从对准光垂直于基板I和掩模2地照射的情况变化，能获得非常高的对准精度。
[0148]此外，在本实施方式中也构成为在对准时，控制装置在使微透镜阵列3移动的同时，通过照相机6对成像在基板I上的掩模对准标记2b的像和基板对准标记Ib的像一起连续地进行拍摄，由此，可获得与第十二实施方式相同的效果。
[0149]另外，通过以包含曝光光所照射的曝光位置和对准光所照射的对准位置的大小设置微透镜阵列3，从而与第十三实施方式相同，在曝光时和对准时不需要使微透镜阵列3移动。
[0150]接着，对于涉及本发明的第十六实施方式的曝光装置用的对准装置进行说明。图43 (a)是表示涉及本发明的第十六实施方式的曝光装置用的对准装置的图，图43 (b)是表示检测出的对准标记的相对位置关系的图。如图43所示，在本实施方式中，与第十四实施方式相同，设置有曝光用的微透镜阵列3和对准用的微透镜阵列7的两片微透镜阵列。而且，对准用的微透镜阵列7的光学特性与曝光用的微透镜阵列3的相同。由此，在本实施方式中，可获得与第十四实施方式相同的效果。
[0151]此外，在本实施方式中，也与第十四实施方式相同，能使曝光时的微透镜阵列3的扫描曝光方向和对准时的微透镜阵列7的移动方向(第一方向)为不同的方向。即，如果基于控制装置的微透镜阵列7的移动方向为与构成微透镜列的微透镜的排列方向正交的方向，则可获得本发明的效果。
[0152]产业上的可利用性
根据本发明，由于能防止有时尽管取得了基板与掩模的对准，但在照相机中也误观察为未取得对准，有时尽管未取得基板与掩模的对准，但在照相中也误观察为取得了对准，所以使用由照相机检测出的基板对准标记和掩模对准标记，能以高精度进行基板与掩模的对准。
[0153]附图标记说明
1:基板，2:掩模，3:(第一)微透镜阵列，4:微透镜，5:对准光源，7:第二微透镜阵列，la, Ib:基板对准标记，2a，2b:掩模对准标记，6，20:照相机，21:滤光片，22，23，25，30:透镜，24，28:分束器，29:反射镜，9:控制装置，40:开口，41:开口光圈，42:六边视野光圈，
43:遮光膜。
【权利要求】
1.一种曝光装置用的对准装置，所述曝光装置具有:光源，射出曝光光；掩模，入射来自该光源的曝光光并在基板形成有曝光的图案；以及第一微透镜阵列，设置在所述基板与所述掩模之间，并入射透过了所述掩模的曝光光在所述基板使所述图案的正立等倍像成像，所述曝光装置用的对准装置对所述曝光装置的所述掩模与所述基板进行相对地对位， 所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有: 对准光源，从所述掩模的上方将对准用的光照射到设置在所述基板的基板对准标记和设置在所述掩模的掩模对准标记； 第二微透镜阵列，配置在所述基板对准标记与所述掩模对准标记之间，并使从所述基板对准标记反射的反射光在所述掩模上作为正立等倍像成像； 照相机，从所述掩模侧检测所述基板对准标记的反射光和所述掩模对准标记的反射光；以及 控制装置，以由该照相机检测出的所述基板对准标记和所述掩模对准标记相一致的方式调节所述掩模和/或所述基板的位置。
2.一种曝光装置用的对准装置，所述曝光装置具有:光源，射出曝光光；掩模，入射来自该光源的曝光光并在基板形成有曝光的图案；以及第一微透镜阵列，设置在所述基板和所述掩模之间，并入射透过了所述掩模的曝光光在所述基板使所述图案的正立等倍像成像，所述曝光装置用的对准装置对所述曝光装置的所述掩模与所述基板进行相对地对位， 所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有: 对准光源，从所述基板的下方将对准用的光照射到设置在所述基板的基板对准标记和设置在所述掩模的掩模对准标记； 第二微透镜阵列，配 置在所述基板对准标记与所述掩模对准标记之间，并使从所述掩模对准标记反射的反射光在所述基板上作为正立等倍像成像； 照相机，从所述基板侧检测所述基板对准标记的反射光和所述掩模对准标记的反射光；以及 控制装置，以由该照相机检测出的所述基板对准标记和所述掩模对准标记相一致的方式调节所述掩模和/或所述基板的位置。
3.根据权利要求1或2所述的曝光装置用的对准装置，其特征在于， 所述第一微透镜阵列和所述第二微透镜阵列由一片共有微透镜阵列构成，所述对准用的光在使所述共有微透镜阵列移动到所述基板对准标记与所述掩模对准标记之间的状态下进行照射。
4.根据权利要求1或2所述的曝光装置用的对准装置，其特征在于， 所述第一微透镜阵列和所述第二微透镜阵列由包含曝光光所照射的曝光位置和对准光所照射的对准位置的一片共有微透镜阵列构成。
5.根据权利要求1或2所述的曝光装置用的对准装置，其特征在于， 所述第一微透镜阵列和所述第二微透镜阵列以分体方式构成。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的曝光装置用的对准装置，其特征在于， 所述基板对准标记和所述掩模对准标记的一个形成为框状，另一个形成为在对准时位于所述框的中心的矩形形状。
7.根据权利要求1至6中任意一项所述的曝光装置用的对准装置，其特征在于，所述对准光源与所述照相机检测出的光的光轴同轴地射出对准光。
8.根据权利要求1至6中任意一项所述的曝光装置用的对准装置，其特征在于， 所述对准光源和所述照相机为分体，来自所述对准光源的光的光轴与由所述照相机检测出的反射光的光轴不同轴。
9.一种对准标记，使用微透镜阵列，并将该微透镜阵列配置在曝光对象的基板与设置有在该基板曝光的图案的掩模之间，并在对所述掩模与所述基板进行相对地对位时使用，所述微透镜阵列具有:多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠；多边视野光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；以及开口光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的曝光光的最大放大部的至少一部分并且具有圆形的开口并且规定各微透镜的开口数， 所述对准标记的特征在于， 形成在所述基板或所述掩模， 具有在相对于所述多边视野光圈的开口的所有边各自倾斜的方向上延伸的多条线状的标记片，所述标记片由从对准中心放射状地延伸的多个第一组标记片和在以所述对准中心为中心的多边形的边上延伸的多个第二组标记片构成，以所述标记片中的多个标记片存在于任一个所述多边视野光圈之中的方式，确定所述多边视野光圈和所述标记片的位置。
10.根据权利要求9所述的对准标记，其特征在于， 所述第二组标记片在以所述对准中心为共同中心的不同大小的多个多边形的边上相连而被配置。
11.根据权利要求9所述的对准标记，其特征在于，· 所述第二组标记片在以所述对准中心为共同中心的不同大小的多个多边形的边上以含有所述多边形的角部的方式被间断地配置。
12.根据权利要求10或11所述的对准标记，其特征在于， 所述第二组标记片虽然位于不同多边形上但粗细不同。
13.—种对准标记，在供给曝光装置的基板或掩模中为了它们的位置调整而形成，并由线对称的多边形形状的图形构成，其特征在于，具有: 多边形形状部，配置成不与构成在所述基板与所述掩模之间矩阵状配置的多个透镜的各个多边视野光圈的开口部的任一缘边平行；以及 放射线部，由从所述多边形形状部的中心横穿所述多边形形状部的至少6条放射线构成， 所述多边形形状部和所述放射线部的整体大于所述透镜的大小，小于4个邻接的透镜的整体的大小。
14.一种曝光装置用的对准装置，将形成在掩模的曝光图案转印到基板，所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有: 对准光源，兼用于曝光光的射出或者独立的对准光的射出用； 微透镜阵列，配置在所述掩模和所述基板之间，并使从设置在所述基板的基板对准标记反射的对准光的反射光在所述掩模上作为为正立等倍像成像； 照相机，在从所述掩模侧，将对准光同时地照射到所述基板对准标记和设置在所述掩模的掩模对准标记时，从所述掩模侧检测从所述掩模对准标记反射的反射光以及成像在所述掩模上的所述基板对准标记的正立等倍像；以及 控制装置，以由所述照相机检测出的所述基板对准标记与所述掩模对准标记相一致的方式，调节所述掩模和/或所述基板的位置， 所述微透镜阵列具有:多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠；多边视野光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；以及开口光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的曝光光的最大放大部的至少一部分，且具有圆形的开口并规定各微透镜的开口数， 所述基板对准标记具有: 在相对于所述多边视野光圈的开口的所有边各自倾斜的方向上延伸的多条线状的标记片， 所述标记片由从对准中心放射状地延伸的多个第一组标记片和在以所述对准中心为中心的多边形的边上延伸的多个第二组标记片构成，以所述标记片中的多个标记片存在于任一个所述多边视野光圈之中的方式，确定所述多边视野光圈和所述标记片的位置。
15.一种曝光装置用的对准装置，将形成在掩模的曝光图案转印到基板，所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有: 对准光源，兼用于曝光光的射出或者独立的对准光的射出用； 微透镜阵列，配置在所述掩模与所述基板之间，并使从设置在所述掩模的掩模对准标记反射的对准光的反射光在所述基板上作为正立等倍像成像； 照相机，在从所述基板侧将对准光同时地照射到所述掩模对准标记和设置在所述基板的基板对准标记时， 从所述基板侧检测从所述基板对准标记反射的反射光以及成像在所述基板上的所述掩模对准标记的正立等倍像；以及 控制装置，以由所述照相机检测出的所述基板对准标记和所述掩模对准标记相一致的方式，调节所述掩模和/或所述基板的位置， 所述掩模对准标记具有:在相对于所述多边视野光圈的开口的所有边各自倾斜的方向上延伸的多条线状的标记片，所述标记片由从对准中心放射状地延伸的多个第一组标记片和在以所述对准中心为中心的多边形的边上延伸的多个第二组标记片构成，以所述标记片中的多个标记片存在于任一个所述多边视野光圈之中的方式，确定所述多边视野光圈和所述标记片的位置。
16.根据权利要求14或15所述的曝光装置，其特征在于， 所述第二组标记片在以所述对准中心为共同中心的不同大小的多个多边形的边上相连而被配置。
17.根据权利要求14或15所述的曝光装置，其特征在于， 所述第二组标记片在以所述对准中心为共同中心的不同大小的多个多边形的边上以含有所述多边形的角部的方式被间断地配置。
18.根据权利要求16或17所述的曝光装置，其特征在于， 所述第二组标记片虽然位于不同多边形上但粗细不同。
19.一种对准标记，使用微透镜阵列，并将该微透镜阵列配置在曝光对象的基板与设置有在该基板曝光的图案的掩模之间，在对所述掩模与所述基板进行相对地对位时使用，所述微透镜阵列具有:多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠；多边视野光圈，配置在该单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；开口光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的曝光光的最大放大部的至少一部分且具有圆形的开口并规定各微透镜的开口数；以及遮光膜，对除了所述微透镜阵列的上表面中的所述微透镜之外的部分进行遮光， 所述对准标记的特征在于， 形成在所述基板或所述掩模， 构成标记的所有边相对于所述微透镜在直线上排列的第一方向倾斜。
20.根据权利要求19所述的对准标记，其特征在于， 所述微透镜阵列，其微透镜在垂直于曝光装置的扫描方向的方向上排列成一列而被配置，所述第一方向为垂直于该扫描方向的方向，构成标记的所有边相对垂直于所述扫描方向的方向倾斜。
21.根据权利要求20所述的对准标记，其特征在于， 构成所述标记的所有边相对垂直于所述扫描方向的方向形成45°的角度。
22.—种曝光装置用的对准装置，将形成在掩模的曝光图案转印到基板，所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有: 对准光源，兼用于曝光光的射出或者独立的对准光的射出用； 微透镜阵列，配置在所述掩模与所述基板之间，并使从设置在所述基板的基板对准标记反射的对准光的反射光在所述掩模上作为正立等倍像成像； 照相机，在从所述掩模侧·将对准光同时地照射到所述基板对准标记和设置在所述掩模的掩模对准标记时，从所述掩模侧检测从所述掩模对准标记反射的反射光以及成像在所述掩模上的所述基板对准标记的正立等倍像；以及 控制装置，以由所述照相机检测出的所述基板对准标记和所述掩模对准标记相一致的方式，调节所述掩模和/或所述基板的位置， 所述微透镜阵列具有: 多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠；多边视野光圈，配置在该单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；开口光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的曝光光的最大放大部的至少一部分且具有圆形的开口并规定各微透镜的开口数；以及遮光膜，对除了所述微透镜阵列的上表面中的所述微透镜之外的部分进行遮光， 所述掩模对准标记或所述基板对准标记中，构成标记的所有边相对于所述微透镜在直线上排列的第一方向倾斜。
23.—种曝光装置用的对准装置，将形成在掩模的曝光图案转印到基板，所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有: 对准光源，兼用于曝光光的射出或者独立的对准光的射出用； 微透镜阵列，配置在所述掩模和所述基板之间，并使从设置在所述掩模的掩模对准标记反射的对准光的反射光在所述基板上作为正立等倍像成像； 照相机，在从所述基板侧将对准光同时地照射到所述掩模对准标记和设置在所述基板的基板对准标记时，从所述基板侧检测从所述基板对准标记反射的反射光以及成像在所述基板上的所述掩模对准标记的正立等倍像；以及控制装置，以由所述照相机检测出的所述基板对准标记和所述掩模对准标记相一致的方式，调节所述掩模和/或所述基板的位置， 所述微透镜阵列具有: 多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠；多边视野光圈，配置在该单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；开口光圈，配置在所述单位微透镜阵列之间的曝光光的最大放大部的至少一部分且具有圆形的开口并规定各微透镜的开口数；以及遮光膜，对除了所述微透镜阵列的上表面中的所述微透镜之外的部分进行遮光， 所述掩模对准标记或所述基板对准标记中，构成标记的所有边相对于所述微透镜在直线上排列的第一方向倾斜。
24.根据权利要求22或23所述的曝光装置，其特征在于， 所述微透镜阵列，其微透镜在垂直于曝光装置的扫描方向的方向上排列成一列而被配置，所述第一方向为垂直于所述扫描方向的方向，构成标记的所有边相对于垂直于所述扫描方向的方向倾斜。
25.根据权利要求24所述的曝光装置，其特征在于， 构成所述标记的所有片相对于垂直于所述扫描方向的方向形成45°的角度。
26.—种曝光装置用的对准装置，设置在使用了通过扫描曝光将掩模的图案转印到基板的微透镜阵列的扫描曝光装置中，并对所述掩模与所述基板进行相对地对位， 所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有 对准光源，将对准用的光照射到设置在所述基板的基板对准标记和设置在所述掩模的掩模对准标记； 微透镜阵列，介于所述基板与所述掩模之间，使所述基板对准标记或者所述掩模对准标记各自在所述掩模或者所述基板中作为正立等倍像成像； 照相机，将所述基板对准标记和所述掩模对准标记拍摄成其中一个为反射光的像并且另一个为正立等倍像；以及 控制装置，基于由该照相机拍摄的所述基板对准标记和所述掩模对准标记，来调节所述掩模和/或所述基板的位置， 所述微透镜阵列具有: 多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠； 多边视野光圈，配置在该单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；以及 开口光圈，限制所述单位微透镜阵列之间的开口数， 所述微透镜阵列被配置为:所述多个微透镜在正交于扫描曝光方向的方向上排列而构成微透镜列，所述微透镜列在所述扫描曝光方向上配置成多个列，并且在所述扫描曝光方向上邻接的两列微透镜列的相互间在正交于所述扫描曝光方向的方向上偏倚， 所述控制装置使所述微透镜阵列相对于所述基板以及所述掩模在所述扫描曝光方向上相对地移动，并且通过所述照相机以不是所述微透镜列的排列间距的整数倍的间隔对所述基板对准标记的像以及所述掩模对准标记的像进行多次拍摄，将所拍摄的多个像重合，并将该重合的基板对准标记的像和掩模对准标记的像使用于对准。
27.一种曝光装置用的对准装置，设置在使用了通过扫描曝光将掩模的图案转印到基板的微透镜阵列的扫描曝光装置中，对所述掩模与所述基板进行相对地对位，所述曝光装置用的对准装置的特征在于，具有: 对准光源，将对准用的光照射到设置在所述基板的基板对准标记和设置在所述掩模的掩模对准标记； 微透镜阵列，介于所述基板和所述掩模之间，并使所述基板对准标记或者所述掩模对准标记各自在所述掩模或者所述基板作为正立等倍像成像； 照相机，将所述基板对准标记和所述掩模对准标记拍摄为其中一个为反射光的像并且另一个为正立等倍像；以及 控制装置，基于由该照相机拍摄的所述基板对准标记和所述掩模对准标记，来调节所述掩模和/或所述基板的位置， 所述微透镜阵列具有: 多张单位微透镜阵列，由以二维方式配置多个微透镜而构成且相互层叠； 多边视野光圈，配置在该单位微透镜阵列之间的反转成像位置并具有多边形的开口 ；以及 开口光圈，限制所述单位微透镜阵列之间的开口数， 所述微透镜阵列被配置为:所述多个微透镜在正交于扫描曝光方向的方向上排列而构成微透镜列，所述微透镜列在所述扫描曝光方向上配置成多个列，并且在所述扫描曝光方向上邻接的两列微透镜列的相·互间在正交于所述扫描曝光方向的方向上偏倚， 所述控制装置使所述微透镜阵列相对于所述基板和所述掩模在扫描曝光方向上相对地移动，并且由所述照相机将所述基板对准标记的像和所述掩模对准标记的像连续地拍摄为动画，将连续地拍摄的基板对准标记的像和掩模对准标记的像使用于对准。
28.根据权利要求26或27所述的曝光装置用的对准装置，其特征在于， 所述基板对准标记和所述掩模对准标记的一个形成为框状，另一个在对准时形成为位于所述框的中心的矩形形状。
29.根据权利要求26至28中任意一项所述的曝光装置用的对准装置，其特征在于， 所述对准光源与所述照相机检测出的光的光轴同轴地射出对准光。
30.根据权利要求26至29中任意一项所述的曝光装置用的对准装置，其特征在于， 所述微透镜阵列共用为曝光用的微透镜阵列。
【文档编号】G03F9/00GK103858208SQ201280039116
【公开日】2014年6月11日 申请日期:2012年8月7日 优先权日:2011年8月10日
【发明者】桥本和重 申请人:株式会社V技术