用具有随时间稳定特性的干涉涂层涂布的物品的制作方法

用具有随时间稳定特性的干涉涂层涂布的物品的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种物品，该物品包括一个具有用多层干涉涂层涂布的至少一个主表面的衬底，所述涂层包括一个具有低于或等于1.55的折射率的层A。该物品的特征在于：层A或者形成了外干涉涂层或者形成了与外干涉涂层直接接触的中间层，所述外干涉涂层具有小于或等于1.55的折射率的层B；层A是通过离子束沉积处于气态形式的来自至少一种化合物C的活化的物种获得的并且在其结构中含有至少一个硅原子、至少一个碳原子、至少一个氢原子以及，任选地，至少一个氮原子和/或至少一个氧原子，在化合物A不含有氮和/或氧时层A在氮和/或氧的存在下进行沉积，并且层A不是由无机前体化合物形成的。
【专利说明】用具有随时间稳定特性的干涉涂层涂布的物品
[0001] 本发明总体上涉及一种物品，优选一种光学物品，尤其是眼用镜片，该物品具有一 个干涉涂层，优选减反射涂层，其光学特性随时间是稳定的，并且其此外具有改进的热机械 特性；并且涉及一种用于生产这种物品的方法。
[0002] 无论是无机或有机的眼镜，已知的是以这种方式处理眼用眼镜以防止形成可能刺 激镜片的佩戴者和与它们交互的人的寄生反射。于是镜片设置有一个通常由一种或多种无 机材料制成的单层或多层减反射涂层。
[0003] 在生产减反射涂层的过程中，总体上选择目标性能标准，即由反射系数Rm和R v定 义的减反射涂层的有效性，以及它的反射剩余的颜色，基本上由其色彩角h和色度C*表征。 后两个参数保证了对于佩戴者和与它们交互的人减反射处理的审美品质。
[0004] 然而，减反射涂层的这些层的光学特性，以及更通常地干涉涂层的这些层的光学 特性，特别是二氧化硅层的特性，随着时间而改变，其程度为如果眼镜已在库存保存，和/ 或在出售后由佩戴者使用该物品过程中，其有效特征（最重要的是外观特征）在涂层在物 品上形成时的时刻与后者被出售时的时刻可以不同。
[0005] 解决第一个问题的一种方法包括估计减反射涂层的特性如何随时间而变化，并且 然后生产一种不同于所希望的但在储存过程中将随时间而改变以达到目标值的减反射涂 层。
[0006] 然而，由于随时间的变化是经验性的并且不总是可模型化的，出售用具有目标性 能标准的减反射涂层处理过的镜片的问题仍然存在。
[0007] 此外，对于处方眼镜（在其制造之后的若干天销售给佩戴者），佩戴者在使用过程 中光学特性改变的问题仍有待解决。
[0008] 因此，开发新颖的干涉涂层，特别是减反射涂层将是所希望的，这些涂层的光学特 性随着时间较不容易变化，同时基本上保持或改善这些干涉涂层的其他特性，如它们的机 械特性和粘附。
[0009] 根据本发明，这个问题通过在离子束下沉积一个从处于气态形式的唯一地由有机 前体材料获得的由沉积形成的低折射率层作为干涉涂层的外层解决。
[0010] 专利US 6 919 134描述了一种包括减反射涂层的光学物品，该减反射涂层含有至 少一个由有机化合物与无机化合物的共蒸发获得的所谓的"混合"层，从而为该涂层提供更 好的粘附性、更好的耐热性以及更好的耐磨性。这种减反射涂层优选包含两个"混合"层， 一个在内部位置而另一个在外部位置。这些层通常是通过典型地二氧化硅与改性硅油的离 子辅助共蒸发而沉积的。
[0011] 专利申请JP 2007-078780描述了一种包括多层减反射涂层的眼镜片，其外层是一 个所谓的"有机"低折射率层。此层是通过湿法处理（旋涂或浸涂）来沉积的，而减反射涂 层的无机层是通过离子辅助真空沉积来沉积的。该专利申请指出，这种减反射叠层具有比 完全由无机层组成的减反射涂层更好的耐热性。所述"有机"层优选含有二氧化硅颗粒与 有机硅烷粘合剂（如缩水甘油醚丙基三甲氧基硅烷）的混合物。
[0012] 专利申请JP 05-323103描述了将一种有机氟化合物并入含有Si02与Ti02的层的 光学多层叠层的最后一层，目的在于使其疏水并从而最小化由水的吸收所造成的其光学特 征的改变。含氟层是通过在由含氟前体（其可以是四氟乙烯或氟烷基硅烷）组成的气氛中 气相沉积该层的构成材料获得的。
[0013] 本发明的主要目的是生产干涉涂层，特别是减反射涂层，其光学特性，特别是其色 度（佩戴者对此参数更敏感）是比已知的干涉涂层随时间更稳定的。这种干涉涂层在叠层 的各层的沉积结束具有它们的目标特征，从而使之有可能保证其性能并简化质量控制。这 个技术问题在以上引用的专利或专利申请中尚未解决。
[0014] 此外，在配镜师处修整和装配眼镜过程中，眼镜经受机械变形，这可能在无机干涉 涂层产生裂纹，特别是当操作不是小心进行时。同样，热应力（框架的加热）可以在干涉涂 层中产生裂纹。取决于裂纹的数目和尺寸，后者可能会损害佩戴者的视野并妨碍眼镜被售 出。
[0015] 因此，本发明的另一个目的是为了获得具有改进的热机械特性同时保持良好的粘 附特性的干涉涂层。特别地，本发明涉及具有改进的临界温度（即当它们经受温度增加时 具有良好的耐裂化性）的物品。
[0016] 本发明的另一个目的是为了提供一种用于制造干涉涂层的方法，该方法简单、易 于实现并且可再现。
[0017] 诸位发明人已经发现，改变干涉涂层（通常是一个低折射率层，典型地是二氧化 硅层）的外层的性质使得能够实现目标目的。根据本发明，该层是通过在离子束下沉积处 于气态形式的活化的物种形成的，该物种是唯一地从有机前体材料获得的。
[0018] 因此，该目标目的是根据本发明通过一种物品实现的，该物品包括一个具有至少 一个用多层干涉涂层涂布的主表面的衬底，所述涂层包括一种具有低于或等于1. 55的折 射率的层A，该层A :
[0019] 〇或者是该干涉涂层的外层，
[0020] 0或者是一个与该干涉涂层的外层直接接触的中间层，在第二种情况下，该干涉涂 层的此外层是一个具有小于或等于1. 55的折射率的层B，并且所述层A是通过在离子束下 沉积处于气态形式的由至少一种化合物C产生的活化的物种获得的，该化合物C在其结构 中含有至少一个硅原子、至少一个碳原子、至少一个氢原子以及，任选地，至少一个氮原子 和/或至少一个氧原子，所述层A的沉积是当化合物A不含有氮和/或氧时在氮和/或氧 的存在下进行的；并且该层A不是由无机前体化合物形成的。
[0021] 本发明还涉及一种用于制造这种物品的方法，该方法包括至少以下步骤：
[0022] -提供一种物品，该物品包括一个具有至少一个主表面的衬底，
[0023] -在该衬底的所述主表面上沉积一个多层干涉涂层，所述涂层包括一个具有低于 或等于1. 55的折射率的层A，该层A :
[0024] 〇或者是该干涉涂层的外层，
[0025] 〇或者是一个与该干涉涂层的外层直接接触的中间层，该干涉涂层的此外层是一 个具有小于或等于1. 55的折射率的层B，
[0026] -回收一个物品，该物品包括一个具有用所述干涉涂层（包含所述层A)涂布的主 表面的衬底，所述层A通过在离子束下沉积处于气态形式的由至少一种化合物C产生的活 化的物种获得，该化合物C在其结构中含有至少一个硅原子、至少一个碳原子、至少一个氢 原子以及，任选地，至少一个氮原子和/或至少一个氧原子，所述层A的沉积是当化合物A 不含有氮和/或氧时在氮和/或氧的存在下进行的，该层A不是由无机前体化合物形成的。
[0027] 本发明将参考附图更详细地进行说明，其中图1示意性地示出了镜片所经历的变 形以及其中此变形D在实验部分所描述的耐弯曲性试验中进行测量的方式。
[0028] 在本申请中，当一个物品在其表面上具有一个或多个涂层时，表述"在物品上沉积 一层或一个涂层"应理解为是指将一个层或一个涂层沉积在物品的外部涂层的未涂布的 (暴露的）表面上，即其距该衬底最远的涂层。
[0029] 在衬底"上"或已沉积在衬底"上"的一个涂层被定义为以下涂层⑴放置在该衬 底上方，（ii)不一定与该衬底接触，即一个或多个中间涂层可以布置在所讨论的衬底与涂 层之间，并且（iii)不一定完全覆盖该衬底（尽管优选这样做）。当"层1位于层2之下" 时，应理解，该层2比该层1距该衬底更远。
[0030] 根据本发明生产的物品包括一个衬底，优选透明衬底，具有正面和背面的主面，所 述主面的至少一个并优选这两个主面都含有干涉涂层。
[0031] 该衬底的"背面"（背面通常是凹的）应理解为是当物品被使用时，最接近佩戴者 的眼睛的面。相反，衬底的"正面"（正面通常是凸的）应理解为是当物品被使用时，最远离 佩戴者的眼睛的面。
[0032] 尽管根据本发明的物品可以是任何类型的物品，如屏幕、上光（glazing)单元、尤 其用在工作环境中的一副防护眼镜、或反射镜，优选光学物品，更优选光学镜片，并且甚至 更优选一副眼镜的眼用镜片，或毛坯光学或眼用镜片，如半成品光学镜片，并且特别是眼镜 片。该镜片可以是偏振的或着色的镜片或变色镜片。优选地，根据本发明的眼用镜片具有 高的透射率。
[0033] 根据本发明的干涉涂层可以形成于一个裸衬底（也就是说，一个未涂布的衬底） 的至少一个主面上，或形成于已涂布了一个或多个功能性涂层的一个衬底的至少一个主面 上。
[0034] 根据本发明的物品的衬底优选地可以是一种有机玻璃，例如由热塑性或热固性塑 料制成的一种有机玻璃。此衬底可以选自在专利申请W0 2008/062142中提及的衬底，并且 可以例如是通过二甘醇双烯丙基碳酸酯的（共）聚合获得的衬底、聚（硫）氨酯衬底或由 (热塑性）双酚-A聚碳酸酯（PC)制成的衬底。
[0035] 在干涉涂层沉积在该衬底（任选地涂布有，例如抗磨损和/或抗刮擦涂层）上之 前，常见的是将所述任选涂布的衬底的表面经受一种旨在提高干涉涂层的粘附性的物理或 化学活化处理。此预处理通常在真空下进行。它可以是一种用高能和/或反应性物种（例 如离子束（"离子预清洗"或"IPC"）或电子束）进行的轰击、一种电晕放电处理、一种辉光 放电处理、一种UV处理或一种真空等离子体（通常是氧或氩等离子体）处理的问题。它也 可以是酸性或碱性表面处理和/或用溶剂（水或者一种或多种有机溶剂）处理的问题。这 些处理中的若干种可以组合。凭借这些清洁处理，优化了该衬底的表面的清洁度和反应性。
[0036] 术语"高能物种"（和/或"反应性物种"）特别应理解为是指具有在从1至300eV、 优选从1至150eV、更优选从10至150eV并且甚至更优选从40至150eV的范围内的能量的 离子物种。该高能物种可以是化学物种如离子、自由基，或如质子或电子的物种。
[0037] 衬底表面的优选的前处理是一种用离子枪进行的离子轰击处理，该离子是从一个 或多个电子被剥离的气体原子形成的颗粒。虽然也可以使用氧或氧与氩的混合物，优选地 在通常在从50至200V范围内的加速电压下、在通常在活化表面上包含的10与100 μ A/cm2 之间的电流密度下、以及通常可能在从8X 1(Γ5毫巴至2X 1(Γ4毫巴的范围内的真空室内的 残余压力下使用氩作为电离的气体（Ar+离子）。
[0038] 根据本发明的物品包括一个干涉涂层，优选在一个抗磨损涂层上形成。优选的是 基于含有至少两个并且优选至少三个可水解基团的环氧硅烷水解产物键合到硅原子上的 抗磨损涂层。
[0039] 该可水解基团优选地是烧氧基娃烧基团。
[0040] 干涉涂层可以是在光学领域中，特别是眼科光学中常规使用的任何干涉涂层，前 提条件是它包含一个在离子束下通过沉积处于气态形式的从硅的有机衍生物产生的活化 的物种形成的层A。非限制性地，该干涉涂层可以是一个减反射涂层、反射（镜像）涂层、红 外线滤光片或紫外线滤光片，但优选地是减反射涂层。
[0041] 减反射涂层是在一个物品的表面上沉积的一个涂层，它改善了最终物品的减反射 特性。它在相对宽的可见光谱部分上降低物品/空气界面处的光反射。
[0042] 如众所周知的，这些干涉（优选减反射）涂层常规地包括介电材料的一个单层或 多层叠层。它们优选地是包括高折射率（HI)层和低折射率（LI)层的多层涂层。
[0043] 在本专利申请中，当一个干涉涂层的层的折射率大于1.55,优选地大于或等于 1. 6,更优选大于或等于1. 8并且甚至更优选大于或等于2. 0时，它被称为高折射率层。当一 个干涉涂层的层的折射率小于或等于1. 55,优选地小于或等于1. 50并且更优选小于或等 于1. 45时，它被称为低折射率层。除非另外指明，否则在本发明中提及的折射率是在25°C 下对于630nm的波长来表达的。
[0044] 这些HI层是常规的高折射率层，在本领域中众所周知的。它们通常含有一种或多 种无机氧化物，如，非限制性地，氧化锆（Zr0 2)、氧化钛（Ti02)、五氧化二钽（Ta205)、氧化钕 (Nd 205)、氧化铪（Hf02)、氧化镨（Pr203)、钛酸镨办110 3)、1^203、他205、￥ 203、氧化铟 111203、或 氧化锡Sn02。优选的材料是Ti0 2、Ta205、PrTi03、Zr02、Sn0 2、Ιη203以及它们的混合物。
[0045] 该LI层也是众所周知的层并且可以包含，非限制性地，Si02、MgF2、ZrF 4、一小部分 的氧化铝（A1203)、A1F3以及它们的混合物，但优选5叫层。也可以使用SiOF制成的层（氟 掺杂的Si0 2)。理想情况下，本发明的干涉涂层不包括含二氧化硅与氧化铝的混合物的层。
[0046] 总体而言，该HI层具有从10nm至120nm范围内的物理厚度并且该LI层具有从 10nm至100nm范围内的物理厚度。
[0047] 优选地，干涉涂层的总厚度是小于1微米、更优选小于或等于800nm并且甚至更优 选小于或等于500nm。干涉涂层的总厚度通常是大于100nm，并且优选大于150nm。
[0048] 甚至更优选地，该干涉涂层（优选是减反射涂层）包括至少两个低折射率（LI)层 和至少两个高折射率（HI)层。在干涉涂层中层的总数目优选地是小于或等于8并且更优 选小于或等于6。
[0049] 该HI和LI层在干涉涂层中不必交替，尽管他们可以在本发明的一个实施例中。两 个（或更多个）HI层可以沉积于彼此上，就像两个（或更多个）LI层可以沉积于彼此上。
[0050] 根据本发明的一个实施例，该干涉涂层包括一个底层。在这种通用的情况下，此底 层在层的沉积的顺序中形成干涉涂层的第一层，即该底层是干涉涂层与底层涂层（通常是 一种抗磨损涂层和/或抗刮擦涂层）接触的层，或者当干涉涂层直接沉积在衬底上时是干 涉涂层与该衬底接触的层。
[0051] 表述"干涉涂层的底层"应理解为是指用于为了提高所述涂层对磨损和/或刮擦 的耐受性和/或促进该涂层对衬底或底层涂层的粘附性的具有相对大的厚度的涂层。根据 本发明的底层可以选自在专利申请W0 2010/109154中所描述的底层。
[0052] 优选地，该底层的厚度是在100至200nm之间。优选地它本质上完全是无机的并 且优选由二氧化硅Si0 2制成。
[0053] 本发明的物品可以通过将至少一个导电层并入干涉涂层制成抗静电的。术语"抗 静电的"应理解为是指不存储和/或积累一个可感知的静电电荷的特性。当物品的表面之 一在用合适的布摩擦之后不吸引且不保留灰尘以及小粒子时，该物品通常视为具有可接受 的抗静电特性。
[0054] 该导电层可以位于干涉涂层中的不同地方，前提条件是这不干扰后者的减反射特 性。它可以例如沉积在该干涉涂层的底层上，如果底层存在的话。它优选位于干涉涂层的 两个介电层之间，和/或在干涉涂层的一个低折射率层之下。
[0055] 该导电层必须足够薄以不降低该干涉涂层的透明度。总体而言，根据其性质，其厚 度在从〇· 1至150nm并且优选从0· 1至50nm的范围内。小于0· lnm的厚度通常不允许获 得足够的导电性，而大于150nm的厚度通常不允许获得所要求的透明度和低吸收特性。
[0056] 该导电层优选地是由导电的且高度透明的材料制得。在这种情况下，其厚度优选 在从〇· 1至30nm，更优选从1至20nm并且甚至更优选从2至15nm的范围内。该导电层优 选含有选自氧化铟、氧化锡、氧化锌和它们的混合物的金属氧化物。氧化铟锡（锡掺杂的氧 化铟，In 203:Sn)、氧化铟（Ιη203)、以及氧化锡511〇 2是优选的。根据一个最佳的实施例，该导 电且光学透明的层是一个氧化铟锡（ΙΤ0)的层。
[0057] 总体而言，导电层有助于获得的减反射特性并且在干涉涂层中形成高折射率层。 这是由导电且高度透明的材料制成的层如ΙΤ0层的情况。
[0058] 该导电层还可以是非常薄的贵金属（Ag、Au、Pt等）层，典型地小于lnm厚并且优 选小于0.5nm厚。
[0059] 除了层A该干涉涂层的各层（包括任选的抗静电层）优选地是使用以下技术 中的一种通过真空沉积来沉积的：i)蒸发，任选地离子辅助蒸发，ii)离子束溅射，iii) 阴极溅射或iv)等离子体增强的化学气相沉积。在由福森和柯恩编辑的作品"薄膜工 艺"和"薄膜工艺II"，学术出版社，1978和1991中分别描述了这些不同的技术。（"Thin Film Processes〃and〃Thin Film Processes II"，edited by Vossen and Kern, Academic Press, 1978andl991)。真空蒸发技术是特别推荐的。
[0060] 优选地，干涉涂层的各层是通过真空蒸发沉积的。
[0061] 现在将描述干涉涂层的层A和B(层B是任选的）。在本发明的背景下，这些层是 低折射率层，因为它们的折射率是< 1. 55。在本发明的一些实施例中，层A的折射率优选地 为高于或等于1. 45,更优选高于1. 47,甚至更优选高于或等于1. 48并且理想地高于或等于 1. 49。
[0062] 层A是通过在离子束下沉积处于气态形式的由至少一种化合物C产生的活化的物 种沉积的，该化合物C在其结构中含有至少一个硅原子、至少一个碳原子、至少一个氢原子 以及，任选地，至少一个氮原子和/或至少一个氧原子，所述层A的沉积是当化合物A不含 有氮和/或氧时在氮和/或氧的存在下进行的。
[0063] 优选地，该沉积是在一个包括导向待涂布的衬底的离子枪的真空室中进行的，该 离子枪朝向所述衬底发射由在该离子枪内的等离子体产生的正离子束。优选地，从离子枪 发出的离子是由气体原子（其中一个或多个电子被剥离）形成的颗粒，该气体是惰性气体、 氧或者两种或更多种这些气体的混合物。
[0064] 将一种气态前体（化合物C)引入真空室中，优选在离子束的方向，并在离子枪的 作用下活化。
[0065] 不希望局限于任何理论，诸位本发明人认为离子枪的等离子体将离子射入位于该 枪的前端一定距离的区域，然而没有到达待涂布的衬底，并且前体化合物C的活化/解离优 先在此区域中发生，更通常地在离子枪附近，以及在离子枪更小的范围内。
[0066] 这样利用离子枪和气态前体的沉积技术，有时称为"离子束沉积"，尤其在专利US 5 508 368中描述。
[0067] 根据本发明，离子枪优选地是在室中产生等离子体的唯一位置。
[0068] 如果需要的话，离子在离开离子枪之前可以成为中性的。在这种情况下，轰击仍然 被认为是离子轰击。离子轰击引起原子重排和沉积中的层的致密化，在其形成时将其压实。 [0069] 在根据本发明的方法的实施过程中，待处理的表面优选通过离子轰击，在活化的 表面上使用的电流密度通常包括在20与lOOOA/cm2之间，优选在30与500A/cm2之间，更优 选在30与200A/cm2之间，并且真空室内的残余压力通常可以在从6 X ΚΓ5毫巴至2 X ΚΓ4毫 巴并且优选从8ΧΚΓ5毫巴至2ΧΚΓ4毫巴的范围内。氩和/或氧离子束是优选使用的。当 使用氩和氧的混合物时，Ar:0 2摩尔比优选彡1，更优选彡0. 75并且甚至更优选彡0. 5。这 个比率可通过调节在离子枪内的气体流速来控制。氦流速优选在从0至30sccm的范围内。 氧(?流速优选在从5至30sccm的范围内，并且与层A的前体化合物的流速成比例上升。
[0070] 离子束的离子（优选地是从在层A的沉积过程中所使用的离子枪发出的）优选具 有在从75至150eV，更优选从80至140eV并且甚至更优选从90至110eV范围内的能量。
[0071] 所形成的活化的物种典型地是自由基或离子。
[0072] 本发明的技术不同于利用等离子体的沉积（例如PECVD)，因为它涉及通过离子束 轰击形成中的层A，该束优选地是通过离子枪发射的。
[0073] 除了在沉积过程中的离子轰击，有可能进行层A的等离子体处理，任选地伴随着 在离子束下的沉积。
[0074] 优选地，在衬底水平没有等离子体的辅助下沉积该层。
[0075] 除了层A，干涉涂层的其他层可以在离子束下进行沉积。
[0076] 在真空下进行的层A的前体材料的蒸发可以使用焦耳热源来实现。
[0077] 层A的前体材料包含至少一种化合物C，该化合物C在本质上是有机的并且在其结 构中包含至少一个硅原子、至少一个碳原子、至少一个氢原子和任选地至少一个氮原子和/ 或至少一个氧原子。
[0078] 优选地，该化合物C包含至少一个氮原子和/或至少一个氧原子并且优选至少一 个氧原子。
[0079] 在层A中各化学元素（Si、0、C、H)的浓度可以用卢瑟福背散射光谱技术（RBS)和 弹性反冲探测分析（ERDA)来测定。
[0080] 碳原子在层A中的原子百分比优选在从10 %至25 %并且更优选从15 %至25 %的 范围内。氢原子在层A中的原子百分比优选在从10%至40%并且更优选从10%至20%的 范围内。硅原子在层A中的原子百分比优选在从5%至30%并且更优选从15%至25%的 范围内。氧原子在层A中的原子百分比优选在从20 %至60 %并且更优选从35 %至45 %的 范围内。
[0081] 下列化合物是层A的环状和非环状的有机前体化合物的非限制性实例：八甲基环 四硅氧烷（0MCTS)、十甲基环五硅氧烷、十二甲基环六硅氧烷、六甲基环三硅氧烷、六甲基二 娃氧烧（HMDS0)、八甲基二娃氧烧、十甲基四娃氧烧、四乙氧基娃烧、乙稀基二甲基娃烧、7K 甲基-娃氣烧、7K甲基-娃烧、7K甲基环二娃氣烧、乙稀基甲基-乙氧基娃烧、-乙稀基四 甲基二硅氧烷、四甲基二硅氧烷以及四烷基硅烷如四甲基硅烷
[0082] 层A的前体化合物优选含有至少一个硅原子，该硅原子具有至少一个优选地 C1-C4烷基并且更优选两个相同的或不同的优选地C1-C4烷基，例如甲基。
[0083] 层A的前体化合物优选包含Si-0-Si基团并且更优选包含以下基团：
[0084]
【权利要求】
1. 一种物品，该物品包括一个具有至少一个用多层干涉涂层涂布的主表面的衬底，所 述涂层包括一个具有低于或等于1. 55的折射率的层A，其特征在于： -所述层A是： 〇或者是该干涉涂层的外层， 〇或者是与该干涉涂层的外层直接接触的一个中间层，该干涉涂层的此外层是一个具 有小于或等于1. 55的折射率的层B， -并且所述层A是通过在一种离子束下沉积处于气态形式的由至少一种化合物C产生 的活化的物种获得的，该化合物C在其结构中含有至少一个硅原子、至少一个碳原子、至少 一个氢原子以及，任选地，至少一个氮原子和/或至少一个氧原子，所述层A的沉积是当化 合物A不含有氮和/或氧时在氮和/或氧的存在下进行的并且 -所述层A不是由无机前体化合物形成的。
2. 如权利要求1所述的物品，其特征在于该离子束是由一个离子枪发射的。
3. 如前述权利要求中任一项所述的物品，其特征在于该化合物C含有至少一个带有至 少一个烷基基团的硅原子。
4. 如前述权利要求中任一项所述的物品，其特征在于该化合物C含有至少一个具有以 下化学式的基团：
其中R1至R4独立地指代烷基基团。
5. 如权利要求1至4中任一项所述的物品，其特征在于该化合物C选自八甲基环四硅 氧烧和六甲基二娃氧烧。
6. 如前述权利要求中任一项所述的物品，其特征在于该化合物C的这一个或多个硅原 子不包含可水解基团。
7. 如前述权利要求中任一项所述的物品，其特征在于该层A不含有分离的金属氧化物 相。
8. 如前述权利要求中任一项所述的物品，其特征在于该物品具有一个沉积在该层A上 的层B,该层B含有相对于该层B的总重量至少50wt%的二氧化娃，优选75wt%或以上，更 优选90wt%或以上并且理想地lOOwt%。
9. 如前述权利要求中任一项所述的物品，其特征在于该层A具有在从20至150nm并且 优选从25至120nm的范围内的厚度。
10. 如前述权利要求中任一项所述的物品，其特征在于该层B具有在从2至60nm并且 优选从5至50nm的范围内的厚度。
11. 如前述权利要求中任一项所述的物品，其特征在于该干涉涂层含有低折射率层并 且除了该层A，所有这些低折射率层本质上是无机的。
12. 如前述权利要求中任一项所述的物品，其特征在于除了该层A，该干涉涂层的所有 层本质上是无机的。
13. 如前述权利要求中任一项所述的物品，其特征在于该物品是一种光学镜片，优选地 是一种眼用镜片。
14. 如前述权利要求中任一项所述的物品，其特征在于该干涉涂层是一个减反射涂层。
15. 如前述权利要求中任一项所述的物品，其特征在于在该层A中的应力为在从Ο 至-500MPa的范围内。
16. 如前述权利要求中任一项所述的物品，其特征在于在该干涉涂层中的应力为在从 0至-400MPa的范围内。
17. -种用于制造根据前述权利要求中任一项所述的物品的方法，该方法包括至少以 下步骤： -提供一种物品，该物品包括一个具有至少一个主表面的衬底， -在该衬底的所述主表面上沉积一个多层干涉涂层，所述涂层包括一个具有低于或等 于1. 55的折射率的层A，该层A : 〇或者是该干涉涂层的外层， 〇或者是一个与该干涉涂层的外层直接接触的中间层，该干涉涂层的此外层是一个具 有小于或等于1. 55的折射率的层B， -回收一个物品，该物品包括一个具有主表面的衬底，该主表面用包含所述层A的所述 干涉涂层涂布，其特征在于所述层A是通过在离子束下沉积处于气态形式的由至少一种化 合物C产生的活化的物种获得的，该化合物C在其结构中含有至少一个硅原子、至少一个碳 原子、至少一个氢原子以及，任选地，至少一个氮原子和/或至少一个氧原子，所述层A的沉 积是当化合物A不含有氮和/或氧时在氮和/或氧的存在下进行的，并且其特征在于该层 A不是由无机前体化合物形成的。
【文档编号】G02B1/11GK104054009SQ201280065037
【公开日】2014年9月17日 申请日期:2012年12月27日 优先权日:2011年12月28日
【发明者】L·马丁努, J·萨皮哈, O·扎贝达, S·基亚罗托, K·谢勒 申请人:蒙特利尔综合理工学院公司, 埃西勒国际通用光学公司