一种显示母板及显示面板的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种显示母板及显示面板，其中，所述显示母板上至少设置有一个梳毛图形区，每个梳毛图形区包括至少一组梳毛图形。本发明通过在显示母板上设置梳毛图形，在摩擦布对显示母板的表面进行配向摩擦之前和/或配向摩擦过程中，梳毛图形可以对摩擦布的布毛进行梳理，使得梳理后的布毛变得整齐，改善布毛聚集性不均的问题，从而可以改善显示母板的表面的配向摩擦条纹不均匀的问题，将该显示母板进行切割所得到的TFT阵列基板或者彩膜基板应用于显示面板，可以改善显示面板的显示效果。
【专利说明】—种显示母板及显示面板
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示【技术领域】，尤其涉及一种显示母板及显示面板。
【背景技术】
[0002]在液晶显示面板中，位于彩膜基板和TFT阵列基板上的带有配向方向的配向膜，可以使未加电状态下的液晶分子按照一定的方向进行排列，进而使得液晶显示面板在未加电时处于白屏或者黑屏状态，因而配向膜中的配向方向对液晶显示面板的显示效果起着非常重要的作用。
[0003]通常配向膜上的配向方向可以通过摩擦布的布毛对配向膜进行配向摩擦来得到。然而，在现有技术中，对于FFS型(Fringe Field Switching,边缘场开关型)显示模式和IPS型(In-Plane Switching,平面转换型)显示模式的液晶显示面板,在使用摩擦布进行配向摩擦时，配向摩擦条纹的均匀性和面板内异物问题相互制约。如果使用较硬的尼龙的摩擦布时，与较软的棉布相比，配向摩擦条纹的均匀性较好，但是会更容易产生异物；如果使用较软的棉布的摩擦布时，则不容易产生异物，但是会使配向摩擦条纹不均匀。
[0004]上述导致配向摩擦条纹不均匀的主要原因是摩擦布的布毛的聚集性不均匀，也就是说，当采用布毛聚集性不均匀的摩擦布对液晶显示面板进行配向摩擦时，会导致液晶显示面板的表面的配向摩擦条纹不均匀。
【发明内容】
[0005]有鉴于此，本发明实施例提供一种显示母板及显示面板，以解决现有技术中摩擦布的布毛的聚集性不均匀导致配向摩擦条纹不均匀的技术问题。
[0006]第一方面，本发明实施例提供了一种显示母板，所述显示母板上至少设置有一个梳毛图形区，每个梳毛图形区包括至少一组梳毛图形。
[0007]第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，所述显示面板采用上述第一方面所述的显示母板切割形成的TFT阵列基板或者彩膜基板对盒设置。
[0008]本发明实施例提供的显示母板及显示面板，通过在显示母板上至少设置一个梳毛图形区，其中，每个梳毛图形区包括至少一组梳毛图形，在摩擦布对显示母板的表面进行配向摩擦之前和/或配向摩擦过程中，梳毛图形可以对摩擦布的布毛进行梳理，使得梳理后的布毛变得整齐，改善布毛聚集性不均的问题，从而可以改善显示母板的表面的配向摩擦条纹不均匀的问题，将该显示母板进行切割所得到的TFT阵列基板或者彩膜基板应用于显示面板，可以改善显示面板的显示效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
[0010]图1a是本发明实施例一所针对的一种在进入梳毛图形区之前的摩擦布的布毛的分布示意图；
[0011]图1b是本发明实施例一提供的一种梳毛图形对摩擦布布毛的梳理过程的示意图；
[0012]图1c是本发明实施例一提供的一种从梳毛图形区出来之后的摩擦布的布毛的分布示意图；
[0013]图2是本发明实施例二提供的一种显示母板的俯视结构示意图；
[0014]图3是本发明实施例三提供的一种显示母板的俯视结构示意图；
[0015]图4a是本发明实施例四提供的一种梳毛图形区中的梳毛图形的局部放大示意图；
[0016]图4b是本发明实施例四提供的一种梳毛图形中的凸起长条沿图4a中C1-C2方向的剖面结构示意图；
[0017]图5a是本发明实施例五提供的一种显示母板的基板区域的局部剖面示意图；
[0018]图5b是本发明实施例五提供的一种梳毛图形的局部剖面示意图；
[0019]图6a是本发明实施例六提供的一种显示母板的基板区域的局部剖面示意图；
[0020]图6b是本发明实施例六提供的一种梳毛图形的局部剖面示意图；
[0021]图7是本发明实施例七提供的一种显示面板的结构剖面示意图。
【具体实施方式】
[0022]下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部内容。
[0023]为对方案表述清楚，首先介绍几个概念。显示母板，即包括多个显示基板的母板，多个显示基板同步制备，最后再切割成为独立的显示基板。显示母板需要设置配向方向，该配向方向可以通过配向摩擦来实现，即摩擦滚轮沿第一方向在显示母板的表面滚动，摩擦滚轮上布设有第二方向的布毛，第一方向和第二方向共同决定了显示母板的配向方向。
[0024]在本发明各实施例中，对所述显示母板的配向摩擦通过摩擦滚轮的旋转带动设置于摩擦滚轮外侧的摩擦布的布毛来实现，所述显示母板上被所述摩擦滚轮最先进行摩擦的一端为摩擦起始端，所述显示母板上被所述摩擦滚轮最后进行摩擦的一端为摩擦结束端。
[0025]在摩擦布对显示母板进行配向摩擦之前，摩擦布的布毛可能存在聚集性不均匀的问题，就是布毛排布方向和集中密度不一致的问题。图1a是本发明实施例一所针对的一种在进入梳毛图形区之前的摩擦布的布毛的分布示意图。如图1a所示，在区域A中的摩擦布的布毛11与剩余部分的布毛11相比，区域A中的部分布毛聚集在一起，分布很杂乱，使得摩擦布的布毛11聚集性不均匀。如果用带有区域A中布毛的摩擦布对显示母板进行配向摩擦，则会导致显示母板的表面的配向摩擦条纹不均匀。
[0026]基于此，本发明实施例一提供了如下解决方案，本发明实施例一提供一种显示母板，所述显示母板上至少设置有一个梳毛图形区，每个梳毛图形区包括至少一组梳毛图形。
[0027]如果在显示母板上至少设置一个梳毛图形区，其中，每个梳毛图形区包括至少一组梳毛图形，则通过梳毛图形的对布毛的梳理作用，在对显示母板进行配向摩擦之前和/或配向摩擦过程中，可以对摩擦布的布毛进行梳理，将摩擦布的布毛梳理整齐。图1b是本发明实施例一提供的一种梳毛图形对摩擦布布毛的梳理过程的示意图，摩擦布布毛11与梳毛图形12发生相对运动，并且当布毛11与梳毛图形12接触时，梳毛图形12如同梳子将布毛11均匀地梳开，聚集在一起的布毛11就可以分散开来。图1c是本发明实施例一提供的一种经过梳毛图形区之后的摩擦布的布毛的分布示意图。如图1c所示，经梳毛图形的梳理后，图1a的区域A中的摩擦布的布毛11变得整齐，消除了布毛聚集在一起的问题，使得布毛分布状态更加均匀，从而可以改善显示母板的表面的配向摩擦条纹不均匀的问题。
[0028]本实施例提供的显示母板，通过在其上设置至少一个梳毛图形区，其中，每个梳毛图形区包括至少一组梳毛图形，在摩擦布对显示母板进行配向摩擦之前和/或配向摩擦过程中，梳毛图形可以对摩擦布的布毛进行梳理，使得梳理后的布毛的分布更加均匀，从而可以改善显示母板的表面的配向摩擦条纹不均匀的问题。
[0029]在上述实施例一中，优选地，所述梳毛图形可以由绝缘材料、透明导电材料或者金属材料之一或者其组合构成。
[0030]基于上述原理，显示母板上的梳毛图形具有多种具体的实现方式，例如梳毛图形区的位置、梳毛图形的形状和布局结构等，只要能实现将摩擦布的布毛梳理整齐即可，下面将就优选实施例进行详细说明。
[0031]图2是本发明实施例二提供的一种显示母板的俯视结构示意图。如图2所示，所述显示母板20包括基板设置区域21和包围所述基板设置区域21的外围区域22，所述显示母板20的基板设置区域21包括至少一个基板区域211。
[0032]基板区域211即显示基板所在位置，基板设置区域21通常是阵列排布多个显示基板的区域。
[0033]参见图2，进一步地，所述梳毛图形区23设置在所述基板设置区域21的外围区域22。在图2中，显示母板20中除去基板设置区域21的剩余部分，均可以称为外围区域22。
[0034]在本实施例中，所述梳毛图形区23可以设置在所述外围区域22靠近所述摩擦起始端A1A2的一侧。
[0035]本实施例通过梳毛图形区23设置在基板设置区域21的外围区域22，进一步地，设置在外围区域22靠近摩擦起始端A1A2的一侧，在对显示母板20进行摩擦配向时，可以在摩擦布进入基板设置区域21之前，将布毛梳理整齐，从而可以改善基板设置区域21的表面的配向摩擦条纹不均匀的问题。
[0036]在本实施例中，所述梳毛图形区23也可以设置在所述外围区域22靠近所述摩擦结束端的一侧。
[0037]本实施例通过梳毛图形区23设置在基板设置区域21的外围区域22，进一步地，设置在外围区域22靠近摩擦结束端的一侧，在对一张显示母板20进行摩擦配向后，将布毛梳理整齐，为摩擦布进入下一张显示母板20进行摩擦做好准备，从而可以改善基板设置区域21的表面的配向摩擦条纹不均匀的问题。
[0038]图3是本发明实施例三提供的一种显示母板的俯视结构示意图。如图3所示，与图2的差别在于，所述梳毛图形区33可以设置在所述基板区域311的外围。其中，所述基板区域311的外围包括基板设置区域31的外围区域32和在基板设置区域31中除去基板区域311的剩余部分。如果梳毛图形区33设置在所述基板区域311的外围，也就是说，梳毛图形区33可以设置在基板设置区域31的外围区域32、在基板设置区域31中除去基板区域311的剩余部分或者在这两种区域的组合中，在此不作限定。
[0039]此外，所述梳毛图形区33也可以设置在基板区域311。需要说明的是，由于基板区域311可以包括显示区域和非显示区域，因此，梳毛图形区33可以设置在基板区域311的非显示区域，以避免影响显示区域的显示效果。
[0040]在本实施例中，所述梳毛图形区33可以设置在每个基板区域311的外围靠近摩擦起始端B1B2的一侧。
[0041]本实施例通过梳毛图形区33设置在基板区域311的外围，进一步地，设置在基板区域311的外围靠近摩擦起始端B1B2的一侧，在对显示母板30进行摩擦配向时，可以在摩擦布进入基板区域311之前，将布毛梳理整齐，从而可以改善基板区域311的表面的配向摩擦条纹不均匀的问题。
[0042]在本实施例中，所述梳毛图形区33也可以设置在每个基板区域311的外围靠近摩擦结束端的一侧。
[0043]本实施例通过梳毛图形区33设置在基板区域311的外围，进一步地，设置在基板区域311的外围靠近摩擦结束端的一侧，在对显示母板30进行摩擦配向时，可以在摩擦布对一个基板区域311进行摩擦之后，将布毛梳理整齐，为摩擦布进入下一个基板区域311进行摩擦做好准备，从而可以改善基板区域311的表面的配向摩擦条纹不均匀的问题。
[0044]在上述实施例中，所述每个梳毛图形区可以包括至少两组梳毛图形，其中，所述至少两组梳毛图形之间排列的疏密程度不同。例如，梳毛图形之间排列的疏密程度可以为由疏到密、由密到疏或者疏密相间等，以实现将摩擦布的布毛梳理整齐。优选地，梳毛图形区内靠近摩擦起始端一侧的梳毛图形较稀疏，而远离摩擦起始端的梳毛图形相对更加密集，这样，当摩擦布进入梳毛图形区时，可以由较稀疏的梳毛图形对布毛进行初步的梳理，然后由较密集的梳毛图形对布毛进一步进行细致的梳理，可以达到更好的梳理效果，使摩擦布的布毛分布更加均匀。
[0045]上述实施例给出了梳毛图形区设置在显示母板中的位置，即给出梳毛图形的位置，关于梳毛图形的形状和结构布局，接下来继续以优选实施例进行详细说明。
[0046]图4a是本发明实施例四提供的一种梳毛图形区中的梳毛图形的不意图。如图4a所示，所述梳毛图形为凸起长条41或者下凹长槽42。
[0047]图4b是本发明实施例四提供的一种梳毛图形中的凸起长条沿图4a中C1-C2方向的剖面结构示意图。参见图4b，进一步地，所述凸起长条41内可以包括多个凹槽411。其中，图4a和图4b中的凸起长条41直接形成在显示母板40的基板401上。如果在凸起长条41内设置多个凹槽411，在不改变梳毛图形的尺寸的情况下，与不设置凹槽411的情况相t匕，相当于增加了梳毛图形的数量，这样可以使摩擦布的布毛经梳理后的整齐效果更好。
[0048]在本实施例中，参见图4a,优选地,所述一组梳毛图形包括至少5条凸起长条41、或者至少5条下凹长槽42、或者至少5条凸起长条41和下凹长槽42的组合。如果梳毛图形中的凸起长条41或者下凹长槽42的条数较少，则可能会使摩擦布的布毛梳理后的整齐效果较差，因此，为了使摩擦布的布毛梳理后的整齐效果较好，在空间允许的情况下，可以在一组梳毛图形中尽可能多的设置凸起长条41或者下凹长槽42。
[0049]在本实施例中，优选地，所述梳毛图形的凸起长条41的高度或者下凹长槽42的深度为0.02 μ m到100 μ m ;所述凸起长条41或者下凹长槽42的宽度为I μ m到1000 μ m,长度为3 μ m到120000 μ m ;所述凸起长条41或者下凹长槽42顺着其长轴方向并排排列，相邻的凸起长条41或者下凹长槽42之间的间距为3 μ m到1500 μ m。
[0050]在本实施例中，参见图4a，优选地，所述显示母板具有配向方向(在图中沿Yl方向)，所述凸起长条41或者下凹长槽42的长边方向(在图中沿Xl方向)与所述配向方向之间的夹角α为大于等于0°且小于等于15°。在使用摩擦布进行配向摩擦的过程中，摩擦布的布毛的毛流方向与配向方向相同，梳毛图形的长边方向与毛流方向之间的夹角较小的情况下，对布毛的梳理可以达到更好的效果。在形成梳毛图形的过程中，在保证凸起长条41或者凹下长槽42的长边方向与显示母板40的配向方向之间的夹角α为大于等于0°且小于等于15°的情况下，可以使夹角α的角度更小一些，这样会使经梳毛图形梳理后的摩擦布的布毛的整齐效果更好一些。
[0051]图5是本发明实施例五提供的一种显示母板的基板区域的局部剖面示意图。如图5所示，显示母板的基板区域可以包括:基底51、栅电极521、源电极522、漏电极523、有源层524、绝缘层53、公共电极54、像素电极55和配向膜56等，其中，所述源电极522和漏电极523也可以统称为源漏电极，所述公共电极54和像素电极55可以为透明电极，所述配向膜56可以为有机膜。
[0052]本实施例中的基板区域可以用来制作TFT阵列基板或者包括栅电极、源漏电极、透明电极、有源层、绝缘层、有机膜和配向膜等结构的其他基板。
[0053]在本实施例中，优选地，位于显示母板上的梳毛图形为凸起长条或者下凹长槽，所述梳毛图形可以由栅电极、源漏电极、透明电极、有源层、绝缘层、有机膜和配向膜的膜层中至少一层形成。图5b是本发明实施例五提供的一种梳毛图形的局部剖面示意图。如图5b所示，梳毛图形由栅电极521、有源层524和绝缘层53三个膜层来形成。在制作梳毛图形的过程中，将有源层524、绝缘层53和栅电极521三个膜层刻透来形成梳毛图形的下凹长槽572，未被刻蚀掉的有源层524、绝缘层53和栅电极521的膜层部分形成梳毛图形的凸起长条571。也可以刻蚀掉部分的膜层或者不将膜层刻透来形成凸起长条和凹下长槽。因此，梳毛图形可以与基板区域所具有的膜层结构同时形成，这样可以简化工艺流程，降低成本。
[0054]此外，由于梳毛图形设置在非显示区域，因此，梳毛图形在由上述显示母板的基板区域所具有的膜层结构形成时，为了得到凸起长条或者下凹长槽，可以刻透至少一层相应的膜层结构。
[0055]在本实施例中，优选地，所述显示母板用于面内场显示模式，所述显示母板具有配向方向，所述透明电极包括像素电极，所述像素电极具有条状部分，所述条状部分的长边方向与所述配向方向形成的角度为大于0°且小于15°。需要说明的是，所述面内场显示模式可以包括FFS型显示模式和IPS型显示模式。其中，在FFS型显示模式中，公共电极和像素电极在同一基板内沿竖直方向设置；在IPS型显示模式中，公共电极和像素电极在同一基板内平行设置。
[0056]在本实施例中，优选地，所述显示母板用于面内场显示模式，所述透明电极包括像素电极，所述像素电极具有条状部分，所述凸起长条或者下凹长槽的长边方向与所述条状部分的长边方向形成的角度为大于等于0°且小于等于15°。在对用于面内场显示模式的显示母板进行配向摩擦时，配向方向与像素电极的条状部分的长边方向的夹角为大于0°且小于15°，因此，当凸起长条或者下凹长槽的长边方向与所述条状部分的长边方向形成的角度为大于等于0°且小于等于15°时，可以保证梳毛图形的长边方向接近配向方向，这样梳毛图形对摩擦布的布毛的梳理可以达到更好的效果。
[0057]在本实施例中，优选地，所述显示母板用于面内场显示模式，所述透明电极包括像素电极，所述像素电极具有V形部分，所述凸起长条或者下凹长槽的长边方向与所述V形部分的两边形成的角度大于等于0°且小于等于22°。通常，显示母板的配向方向与像素电极V形部分的弯折处的尖角的延伸方向垂直，当所述凸起长条或者下凹长槽的长边方向与所述V形部分的两边形成的角度大于等于0°且小于等于22°，可以保证梳毛图形的长边方向接近配向方向，这样梳毛图形对摩擦布的布毛的梳理可以达到更好的效果。
[0058]图6a是本发明实施例六提供的一种显示母板的基板区域的局部剖面示意图。如图6a所示，所述显示母板的基板区域可以包括:基底61、黑矩阵62、色阻63、平坦化层64和配向膜65，此外，还可以包括光学间隔层、透明电极、金属膜和有机膜等。
[0059]本实施例中的基板区域可以用来制作彩膜基板或者包括黑矩阵、色阻、平坦化层、光学间隔层、透明电极、金属膜、有机膜和配向膜等结构的其他基板。
[0060]在本实施例中，优选地，所述梳毛图形可以由黑矩阵、色阻、平坦化层、钝化层、透明电极、金属膜、有机膜和配向膜的膜层中至少一层形成。下面以梳毛图形为凸起长条或者下凹长槽为例进行说明。图6b是本发明实施例六提供的一种梳毛图形的局部剖面示意图。如图6b所示，梳毛图形由黑矩阵62、色阻63和平坦化层64三个膜层来形成。在制作梳毛图形的过程中，将色阻63和平坦化层64和黑矩阵62三个膜层刻透来形成梳毛图形的下凹长槽662，未被刻蚀掉的色阻63、平坦化层64和黑矩阵62的膜层部分形成梳毛图形的凸起长条661。也可以刻蚀掉部分的膜层或者不将膜层刻透来形成凸起长条和凹下长槽。因此，梳毛图形可以与基板区域的膜层结构同时形成，这样可以简化工艺流程，降低成本。
[0061]本发明实施例七提供一种显示面板。图7是本发明实施例七提供的一种显示面板的结构剖面示意图。如图7所示，所述显示面板包括TFT阵列基板71、与TFT阵列基板71相对设置的彩膜基板72和位于TFT阵列基板71和彩膜基板72之间的液晶层73，其中，液晶层73由液晶分子731构成。本实施例中的TFT阵列基板71或者彩膜基板72可以由上述各实施例中的显示母板经切割而得到。因此，TFT阵列基板71或者彩膜基板72中的配向摩擦条纹可以比较均匀，从而可以改善相应的显示面板的显示效果。
[0062]注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
【权利要求】
1.一种显示母板，其特征在于，所述显示母板上至少设置有一个梳毛图形区，每个梳毛图形区包括至少一组梳毛图形。
2.根据权利要求1所述的显示母板，其特征在于，对所述显示母板的配向摩擦通过摩擦滚轮的旋转带动设置于摩擦滚轮外侧的摩擦布的布毛来实现，所述显示母板上被所述摩擦滚轮最先进行摩擦的一端为摩擦起始端，所述显示母板上被所述摩擦滚轮最后进行摩擦的一端为摩擦结束端。
3.根据权利要求2所述的显示母板，其特征在于，所述显示母板包括基板设置区域和包围所述基板设置区域的外围区域，所述显示母板的基板设置区域包括至少一个基板区域； 所述梳毛图形区设置在所述基板设置区域的外围区域；或者 所述梳毛图形区设置在所述基板区域的外围；或者 所述梳毛图形区设置在基板区域。
4.根据权利要求3所述的显示母板，其特征在于，所述梳毛图形区设置在所述外围区域靠近所述摩擦起始端或结束端的一侧；或者 所述梳毛图形区设置在每个基板区域的外围靠近摩擦起始端或结束端的一侧。
5.根据权利要求1所述的显示母板，其特征在于，所述梳毛图形为凸起长条或者下凹长槽。
6.根据权利要求5所述的显示母板，其特征在于，所述凸起长条内包括多个凹槽。
7.根据权利要求5所述的显示母板，其特征在于，所述梳毛图形的凸起长条的高度或者下凹长槽的深度为0.02 μ m到100 μ m ; 所述凸起长条或者下凹长槽的宽度为I μ m到1000 μ m,间距为3 μ m到1500 μ m,长度为 3 μ m 至Ij 120000 μ m。
8.根据权利要求5所述的显示母板，其特征在于，所述显示母板具有配向方向，所述凸起长条或者下凹长槽的长边方向与所述配向方向之间的夹角为大于等于0°且小于等于15。。
9.根据权利要求1所述的显示母板，其特征在于，所述每个梳毛图形区包括至少两组梳毛图形，其中，所述至少两组梳毛图形之间排列的疏密程度不同。
10.根据权利要求3所述的显示母板，其特征在于，所述显示母板的基板区域包括:栅电极、源漏电极、透明电极、有源层、绝缘层、有机膜和配向膜； 所述梳毛图形为凸起长条或者下凹长槽，所述梳毛图形由栅电极、源漏电极、透明电极、有源层、绝缘层、有机膜和配向膜的膜层中至少一层形成。
11.根据权利要求10所述的显示母板，其特征在于，所述显示母板用于面内场显示模式，所述显示母板具有配向方向，所述透明电极包括像素电极，所述像素电极具有条状部分，所述条状部分的长边方向与所述配向方向形成的角度为大于0°且小于15°。
12.根据权利要求10所述的显示母板，其特征在于，所述显示母板用于面内场显示模式，所述透明电极包括像素电极，所述像素电极具有条状部分，所述凸起长条或者下凹长槽的长边方向与所述条状部分的长边方向形成的角度为大于等于0°且小于等于15°。
13.根据权利要求10所述的显示母板，其特征在于，所述显示母板用于面内场显示模式，所述透明电极包括像素电极，所述像素电极具有V形部分，所述凸起长条或者下凹长槽的长边方向与所述V形部分的两边形成的角度大于等于0°且小于等于22°。
14.根据权利要求3所述的显示母板，其特征在于，所述显示母板的基板区域包括:黑矩阵、色阻、平坦化层、光学间隔层、透明电极、金属膜、有机膜和配向膜； 所述梳毛图形由黑矩阵、色阻、平坦化层、钝化层、透明电极、金属膜、有机膜和配向膜的膜层中至少一层形成。
15.一种显示面板，其特征在于，采用权利要求1-14中任一项所述的显示母板切割形成的TFT阵列基板或 者彩膜基板对盒设置。
【文档编号】G02F1/1337GK104020611SQ201410267045
【公开日】2014年9月3日 申请日期:2014年6月16日 优先权日:2014年6月16日
【发明者】曾国波, 沈岭 申请人:上海中航光电子有限公司, 天马微电子股份有限公司