曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法与流程

文档序号:15641861发布日期:2018-10-12 22:09阅读:来源:国知局
技术总结
本发明是根据在载台(WST1)上搭载的四个读头(601~604)中、包含互异的一个读头的三个读头所属的第1读头群与第2读头群中所含的读头面对标尺板上对应区域的区域(A0)内,使用第1读头群所得的位置信息驱动载台(WST1),并使用以第1及第2读头群所得的位置信息求出对应的第1及第2基准坐标系(C1、C2)间的偏差(位置、旋转、定标的偏差)。使用该结果修正使用第2读头群所得的测量结果,据以修正第1及第2基准坐标系(C1、C2)间的偏差、以及四个读头(601~604)的分别面对的标尺板上的区域彼此间的偏差伴随的测量误差。

技术研发人员:柴崎祐一
受保护的技术使用者:株式会社尼康
技术研发日:2010.08.24
技术公布日:2018.10.12

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