1.一种抗辐射光纤，包括从外到内设置的外层涂层、外包层、内包层和纤芯，其特征在于，所述的外层涂层中包含200～1000ppm的可变价金属元素的氧化物，所述的外包层内形成包含200～500ppm的可变价金属元素的氧化物及用于将外包层的折射率与SiO2持平的氟的抗辐射层，所述的纤芯中包含与主掺杂剂同时沉积的300～800ppm的可变价金属元素的氧化物。
2.根据权利要求1所述的一种抗辐射光纤，其特征在于，所述的，
外层涂层中包含的可变价金属元素的氧化物包括CeO2、Ce2O3、EuO、Eu2O3、TiO2、Ti2O3、PbO或PbO2，
外包层中包含的可变价金属元素的氧化物包括CeO2、Ce2O3、EuO、Eu2O3、TiO2、Ti2O3、PbO或PbO2，
纤芯中包含的可变价金属元素的氧化物包括CeO2、Ce2O3、EuO、Eu2O3、TiO2、Ti2O3、PbO或PbO2。
3.根据权利要求1所述的一种抗辐射光纤，其特征在于，所述的外层涂层包括由内向外依次设置的光纤内涂层和光纤外涂层，包裹在光纤的外包层的外部，外层涂层的材料为高分子有机涂料。
4.根据权利要求1所述的一种抗辐射光纤，其特征在于，所述的光纤的抗辐射层中还包含中间体Al2O3，其质量含量为可变价金属元素的氧化物的质量含量的20～30倍。
5.根据权利要求1所述的一种抗辐射光纤，其特征在于，所述的主掺杂剂为稀土金属的氧化物，包括铒的氧化物、镱的氧化物或钕的氧化物。
6.如权利要求1所述的一种抗辐射光纤的制备工艺，包括采用MCVD工艺制备抗辐射光纤预制棒、将预制棒拉制成光纤和光纤包覆外部涂层的步骤，其特征在于，其中，
外包层的沉积过程中，将汽化的硅盐、氟化物、三氯氧磷及可变价金属元素的盐、铝盐及氧气和氦气在石英管中化学反应沉积，形成包括可变价金属元素的氧化物和氟的外包层内的抗辐射层；
纤芯的沉积过程中，将汽化的硅盐、可变价金属元素的盐及铝盐沉积形成包含 可变价金属元素的氧化物和主掺杂剂的纤芯；
外层涂层为含有可变价金属元素的氧化物的高分子有机物涂料，依次涂覆在光纤的表面。
7.根据权利要求6所述的一种抗辐射光纤的制备工艺，其特征在于，所述的硅盐为SiCl4，所述的氟化物为CCl2F2，所述的铝盐为AlCl3，所述的稀土金属的盐为稀土金属的氯化物。