技术特征：
技术总结
本发明公开了一种调焦调平装置及方法，该装置包括：包括第一照明单元、投影光路、成像光路、探测器及控制端，所述第一照明单元提供测量光束，经所述投影光路后入射至被测工件表面，经所述被测工件表面反射后出射至所述成像光路，之后进入所述探测器成像，所述控制端根据成像信息得到所述被测工件表面的离焦量后，并控制工件台运动，将所述被测工件表面调节到误差允许范围内的最佳曝光面；所述第一照明单元与投影光路之间设有第一空间光调制器，所述第一空间光调制器上设有多个通光狭缝，所述测量光束经所述第一空间光调制器后形成多个测量光斑。本发明可以有效提高调焦调平装置的工艺适应性与测量精度，提高成品良率。
技术研发人员：唐平玉
受保护的技术使用者：上海微电子装备有限公司
技术研发日：2015.12.30
技术公布日：2017.07.07