制造光刻结构的光学系统的制作方法

文档序号:12512277阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种制造光刻结构的光学系统(1),所述光学系统(1)包括:

--投射光学单元(8),用于将制造结构的写入光束引导到基板平面(12)中的基板表面(10)的区域中的写入焦点(9),

--偏转装置(5),用于在所述基板表面(10)的所述区域中的写入场(13)内偏转所述写入光束的写入焦点(9),

--预览光学单元(14),用于将预览场(15)成像在所述基板表面(10)的所述区域中,其中所述预览场(15)的面积是所述写入场(13)的面积的至少10倍,

--其中所述投射光学单元(8)和所述预览光学单元(14)由共同框架(16)承载,

--基板固定器(18),所述基板固定器(18)在平行于所述基板表面(10)的平面(xy)中是以两个平移自由度(x,y)可位移的,

--控制单元(27),所述控制单元(27)包括存储器(28),所述存储器(28)中存储所述写入场(13)的位置相对于所述预览场(15)的位置的相对坐标(RKx,RKy)。

2.根据权利要求1所述的光学系统,其特征在于工艺照相机(23),所述工艺照相机(23)用于使用所述投射光学单元(8)中的所述写入光束的束路径捕获所述写入场(13)。

3.根据权利要求1或2所述的光学系统,其特征在于,所述投射光学单元(8)相对于所述预览光学单元(14)在垂直于所述基板平面(12)的方向(z)上是可位移的。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的光学系统,其特征在于自动聚焦装置(25),所述自动聚焦装置(25)用于确定所述投射光学单元(8)和/或所述预览光学单元(14)的焦平面。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的光学系统,其特征在于,所述投射光学单元(8)具有大于1.0的像侧数值孔径。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的光学系统,其特征在于,所述预览光学单元(14)具有小于0.1的像侧数值孔径。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的光学系统,其特征在于光源(3),所述光源(3)用于产生写入光(4)。

8.一种在根据权利要求1-7中任一项所述的光学系统(1)中确定写入场(13)的位置相对于预览场(15)的位置的相对坐标(RKx,RKy)的方法,所述方法包括以下步骤:

--使用两个光学单元(8,14)中的一个,在初始场(13,15)中记录测试物体,所述两个光学单元(8,14)来自以下光学组:预览光学单元(14)和投射光学单元(8),并且初始场(13,15)即为两个场中的一个,所述两个场来自以下场组:预览场(15)和写入场(13),

--在所述初始场(13,15)中定位所述测试物体,使得所述测试物体具有所述初始场(13,15)中的限定位置,

--通过所述基板固定器(18)执行所述测试物体在所述初始场(13,15)与目标场(15,13)之间的粗位移,所述目标场即为来自所述场组的所述两个场中的另一个,

--登记此粗位移的粗相对坐标(RKx,粗;RKy,粗),

--使用来自所述光学组的所述两个光学单元(14,8)中的另一个记录所述测试物体,

--在所述目标场(15,13)中精细定位所述测试物体,使得所述测试物体具有所述目标场(15,13)中的限定位置,

--登记在所述精细定位期间所述粗相对坐标(RKx,粗;RKy,粗)的改变,并且从所述粗相对坐标(RKx,粗;RKy,粗)和所述登记的结果产生所述相对坐标(RKx,RKy)。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,在所述精细定位期间,将一方面所述测试物体在所述初始场(13,15)中的位置和另一方面所述测试物体在所述目标场(15,13)中的位置的关联最大化。

10.根据权利要求8或9所述的方法,其特征在于,使用所述记录光学单元(8,14),在所述记录光学单元(14,8)在垂直于所述基板平面(12)的位移方向(z)上相对于所述测试物体的各位移位置,记录所述测试物体的各图像,从而记录所述测试物体,在所述记录所述测试物体期间,产生图像叠层。

11.根据权利要求8-10中任一项所述的方法,其特征在于,在所述确定期间,所述测试物体在所述场组的各场(13,15)之间的粗位移发生多次。

12.一种使用根据权利要求1-7中任一项所述的光学系统(1)制造光刻结构的方法,所述方法包括以下步骤:

--使用根据权利要求8-11中任一项所述的方法,确定所述写入场(13)的位置相对于所述预览场(15)的位置的相对坐标(RKx;RKy),

--在所述基板固定器(18)上提供所述基板(11),

--确定所述预览场(15)中的所述基板(11)上的写入目标位置,

--使用确定的相对坐标(RKx,RKy),将所述写入目标位置从所述预览场(15)移动到所述写入场(13)中,

--使用所述写入光束,将预定结构写入到所述写入场(13)中。

13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,在所述写入目标位置从所述预览场(15)移动到所述写入场(13)中之前,在所述预览场(15)中对准所述写入目标位置。

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