技术总结
本发明公开了一种膜系多角度光谱敏感性分析方法及其应用，其中分析方法包括以下步骤：在明确膜层顺序和膜层光学常数的条件下，根据产品性能约束条件进行膜层厚度初始设置；建立膜系导纳矩阵模型，将基片和各薄膜的膜层顺序、膜层光学常数和膜层厚度初始设置转化为特征矩阵；通过基片和各薄膜的组合特征矩阵计算膜系的透过率和反射率光谱数据。本发明根据产品各性能综合要求及生产条件建立膜系厚度合理设计范围，建立合理、准确的膜系结构导纳矩阵光学模型；并利用遗传算法能够快速分析膜系在不同入射角条件下产品光谱及光学性能，获得角度变化时光学性能变化最小的膜系结构。
技术研发人员：余刚;汪洪
受保护的技术使用者：中国建筑材料科学研究总院
文档号码：201610799192
技术研发日：2016.08.31
技术公布日：2016.11.23