1.一种光控制装置，包括：
第一基膜和第二基膜；
第一辅助电极，所述第一辅助电极布置在所述第一基膜的面对所述第二基膜的一个表面上并且以预定间隔图案化；
第二辅助电极，所述第二辅助电极布置在所述第二基膜的面对所述第一基膜的一个表面上并且以预定间隔图案化；
第一透明电极，所述第一透明电极布置在所述第一辅助电极上；
第二透明电极，所述第二透明电极布置在所述第二辅助电极上；以及
电致变色层，所述电致变色层布置在所述第一透明电极与所述第二透明电极之间。
2.根据权利要求1所述的光控制装置，其中所述第一辅助电极中的每一个的厚度比所述第一透明电极的厚度厚，以及所述第二辅助电极中的每一个的厚度比所述第二透明电极的厚度厚。
3.根据权利要求2所述的光控制装置，还包括：
在所述第一辅助电极之间的第一绝缘膜；以及
在所述第二辅助电极之间的第二绝缘膜。
4.根据权利要求3所述的光控制装置，其中所述第一绝缘膜中的每一个的厚度比所述第一辅助电极中的每一个的厚度薄，以及所述第二绝缘膜中的每一个的厚度比所述第二辅助电极中的每一个的厚度薄。
5.根据权利要求1所述的光控制装置，其中所述第一辅助电极接触所述第一透明电极，以及所述第二辅助电极接触所述第二透明电极。
6.根据权利要求1所述的光控制装置，其中所述第一基膜包括雕刻并且形成在所述一个表面上的第一插入孔，所述第二基膜包括雕刻并且形成在所述一个表面上的第二插入孔，所述第一辅助电极中的每一个插入在所述第一插入孔中的每一个中，以及所述第二辅助电极中的每一个插入在所述第二插入孔中的每一个中。
7.根据权利要求6所述的光控制装置，其中所述第一透明电极接触所述第一基膜的所述一个表面和所述第一辅助电极，以及所述第二透明电极接触所述第二基膜的所述一个表面和所述第二辅助电极。
8.根据权利要求1所述的光控制装置，其中所述第一透明电极的厚度比所述第一辅助电极中的每一个的厚度厚，以及所述第二透明电极的厚度比所述第二辅助电极中的每一个的厚度厚。
9.根据权利要求1所述的光控制装置，其中所述第一辅助电极中的每一个包括沿第一方向布置的第一辅助线、以及沿与第一方向交叉的第二方向布置的第二辅助线，以及所述第二辅助线中的每一个的宽度比所述第一辅助线中的每一个的宽度窄。
10.一种透明显示装置，包括：透明显示面板，所述透明显示面板包括透射区和发光区；以及光控制装置，所述光控制装置布置在所述透明显示面板的至少一个表面上，所述光控制装置包括：
第一基膜和第二基膜；
第一辅助电极，所述第一辅助电极布置在所述第一基膜的面对所述第二基膜的一个表面上并且以预定间隔图案化；
第二辅助电极，所述第二辅助电极布置在所述第二基膜的面对所述第一基膜的一个表面上并且以预定间隔图案化；
布置在所述第一辅助电极上的第一透明电极；
布置在所述第二辅助电极上的第二透明电极；以及
电致变色层，所述电致变色层布置在所述第一透明电极与所述第二透明电极之间。
11.根据权利要求10所述的透明显示装置，其中所述第一辅助电极中的每一个包括沿第一方向布置的第一辅助线、以及沿与所述第一方向交叉的第二方向布置的第二辅助线，以及所述第二辅助线中的每一个的宽度比所述第一辅助线中的每一个的宽度窄。
12.根据权利要求10所述的透明显示装置，其中所述第二辅助电极中的每一个包括沿第一方向布置的第三辅助线、以及沿与所述第一方向交叉的第二方向布置的第四辅助线，以及所述第四辅助线中的每一个的宽度比所述第三辅助线中的每一个的宽度窄。
13.根据权利要求10所述的透明显示装置，其中所述第一辅助电极和所述第二辅助电极的宽度比所述发光区的宽度窄。
14.根据权利要求11所述的透明显示装置，其中所述第一辅助线的宽度比所述发光区的宽度窄。
15.一种用于制造光控制装置的方法，所述方法包括以下步骤：
以预定间隔图案化在第一基膜上的第一辅助电极，并且以预定间隔图案化在第二基膜上的第二辅助电极；
在所述第一辅助电极上形成第一透明电极并且在所述第二辅助电极上形成第二透明电极；
在所述第一透明电极上形成对置层并且在所述第二透明电极上形成电致变色层；以及
在所述对置层上沉积液体电解质并且在所述液体电解质上布置所述电致变色层，并且随后通过使所述液体电解质硬化来将所述第一基膜与所述第二基膜彼此接合。
16.根据权利要求15所述的方法，还包括：在以预定间隔图案化在第一基膜上的第一辅助电极并且以预定间隔图案化在第二基膜上的第二辅助电极的步骤与在所述第一辅助电极上形成第一透明电极并且在所述第二辅助电极上形成第二透明电极的步骤之间的以下步骤：通过在所述第一辅助电极上沉积第一绝缘材料、对所述第一绝缘材料进行灰化、以及对所述第一绝缘材料进行UV硬化来形成第一绝缘膜，以及通过在所述第二辅助电极上沉积第二绝缘材料、对所述第二绝缘材料进行灰化、以及对所述第二绝缘材料进行UV硬化来形成第二绝缘膜。
17.根据权利要求15所述的方法，其中以预定间隔图案化在第一基膜上的第一辅助电极并且以预定间隔图案化在第二基膜上的第二辅助电极的步骤包括：
在所述第一基膜的一个表面上形成雕刻的第一插入孔，以及在所述第二基膜的一个表面上形成雕刻的第二插入孔；以及
通过在所述第一基膜的形成有所述第一插入孔的所述一个表面上沉积第一辅助电极材料并且图案化所述第一辅助电极材料来形成插入到所述第一插入孔的每一个中的所述第一辅助电极中的每一个，以及通过在所述第二基膜的形成有所述第二插入孔的所述一个表面上沉积第二辅助电极材料并且图案化所述第二辅助电极材料来形成插入到所述第二插入孔的每一个中的所述第二辅助电极中的每一个。