本实用新型涉及一种镀膜玻璃，具体涉及一种高红外反射全固态电致变色玻璃及其制备方法。
背景技术：
镀膜玻璃具有节能减排及装饰幕墙的双重功效，推出市场后，深受人们喜爱，Low-E玻璃也叫做低辐射镀膜玻璃，传统的LOW-E玻璃，装上墙后可见光及红外的透过率及反射率均固定，无法再改变，被称之为被动节能；而目前电致变色玻璃，虽然能主动节能，但其对红外的反射不论是着色成还是褪色态都不明显。
技术实现要素：
本实用新型的一种高红外反射全固态电致变色玻璃，采用主动节能与被动节能相复合，产品全波段透过率可调，具有高红外反射效果。
本实用新型另一目的是提供一种高红外反射全固态电致变色玻璃的制备方法。
本实用新型是通过以下技术方案实现的：
一种高红外反射全固态电致变色玻璃，包括第一玻璃基板和第二玻璃基板，所述第一玻璃基板和第二玻璃基板间设有中空腔，所述第一玻璃基板包括第一基板和依次设于所述第一基板和中空腔间的第一ITO层、WO3层、LiTaO3层、NiO层、Ag层、AZO层和第二ITO层。
优选的，所述中空腔厚度为12mm，内充氩气或空气。
优选的，所述第一ITO层膜厚120～135nm，方阻<15欧。
优选的，所述WO3层膜厚500～600nm。
优选的，所述LiTaO3层膜厚500～600nm。
优选的，所述NiO层膜厚50～100nm。
优选的，所述Ag层膜厚8～12nm。
优选的，所述AZO层膜厚300～400nm。
优选的，所述第一基板和第二玻璃基板均为厚度4～8mm的浮法玻璃。
一种制备高红外反射全固态电致变色玻璃的方法，包括以下步骤：
1)、磁控溅射第一ITO层，用交流电源、Ar气作为保护气体，磁控溅射氧化铟锡靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar气流量800SCCM；
2)、磁控溅射WO3层，用交流电源、Ar气、O2气作为保护气体，磁控溅射钨靶，氩氧流量比为400～425SCCM:600～630SCCM；
3)、磁控溅射LiTaO3层，用交流电源、Ar气、O2气作为保护气体，磁控溅射钽酸锂靶，氩氧流量比为400～425SCCM:20～30SCCM；
4)、磁控溅射NiO层，用交流电源、Ar气、O2气作为保护气体，磁控溅射钨镍靶W：Ni＝8：92(wt％)，氩氧流量比为380～400SCCM:600～625SCCM；
5)、磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用Ar气作为保护气体，气体流量500～550SCCM；
6)、制备AZO层，铝掺杂的氧化锌层；
7)、磁控溅射第二ITO层，用交流电源、Ar气作为保护气体，磁控溅射氧化铟锡靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar气流量800SCCM；
8)、合片，由第一基板、第一ITO层、WO3层、LiTaO3层、NiO层、Ag层、AZO层和第二ITO层组成第一玻璃基板，再由第一玻璃基板和第二玻璃基板隔出出中空腔进行合片，制备得高红外反射全固态电致变色玻璃。
与现有技术相比，本实用新型具有如下优点：
1、本实用新型的高红外反射全固态电致变色玻璃，氧化铟锡膜层具有透明导电功能，且抗化学性能稳定，可有效对红外进行反射同时，可起到保护功能膜层的作用，具有LOW-E玻璃高红外反射的被动节能效果；
2、本实用新型的高红外反射全固态电致变色玻璃，具有电致变色的主动节能效果，对红外线反射率达到80％以上，同时设计中空腔结构，有效降低产品的传热导系数，同时还可防止Ag层被氧化；
3、本实用新型的高红外反射全固态电致变色玻璃，可与智能家居互联，通过控制电路实现智能控制；
4、本实用新型的高红外反射全固态电致变色玻璃制备方法，功能膜层依次沉积在玻璃基片上，膜层具有耐候性和耐腐蚀性能优秀、辐射率低、表面电阻小、均匀性好、结合力强的优点。
【附图说明】
图1是本实用新型结构示意图。
【具体实施方式】
如附图1所示的一种高红外反射全固态电致变色玻璃，包括第一玻璃基板1和第二玻璃基板2，所述第一玻璃基板1和第二玻璃基板2间设有中空腔3，所述第一玻璃基板1包括第一基板11和依次设于所述第一基板11和中空腔3间的第一ITO层12、WO3层13、LiTaO3层14、NiO层15、Ag层16、AZO层17和第二ITO层18。本实用新型的玻璃单元由两块不同的玻璃基板及电解质层复合而成，每边的玻璃基板均由多个膜层构成，其中第一玻璃基板上复合有第一ITO层、WO3层、LiTaO3层、NiO层、Ag层、AZO层和第二ITO层等功能膜层，第一玻璃基板和第二玻璃基板间设置中空腔，实现被动节能的效果同时，可有效降低产品的传热导系数，同时还可防止Ag层被氧化。
所述中空腔3厚度为12mm，内充氩气或空气。在合片加工时，中空腔厚度优选为12mm，且内充氩气或空气，封闭的中空腔为负压状态，可进一步降低产品的传热导系数，防止Ag层被氧化。
所述第一ITO层膜厚120～135nm，方阻<15欧。交流电源磁控溅射氧化铟锡靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，制备第一ITO层膜，用Ar气作为溅射气体，气体流量800SCCM，膜厚120～135nm，优选为125nm，1m＝109nm。
所述WO3层膜厚500～600nm。交流电源磁控溅射钨靶，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量控制在400～425SCCM:600～630SCCM，膜厚500-600nm，优选为550nm。
所述LiTaO3层14膜厚500～600nm。采用交流电源磁控溅射钽酸锂靶，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量控制在400～425SCCM:20～30SCCM，膜厚500-600nm，优选为550nm。
所述NiO层膜厚50～100nm。采用交流电源磁控溅射钨镍靶W：Ni＝8:92，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量控制在380～400SCCM:600～625SCCM，膜厚50-100nm，优选为60nm。
所述Ag层膜厚8～12nm。直流电源溅射，用Ar作为溅射气体气体流量500～550SCCM，膜厚8～12nm，优选为12nm。
所述AZO层膜厚300～400nm。采用铝掺杂的氧化锌层，作为保护层，可进一步降低辐射率，优选为300nm。
所述第一基板11和第二基板12均为厚度4～8mm的浮法玻璃。优选的第一基板和第二基板均选择6mm的浮法玻璃。
一种制备高红外反射全固态电致变色玻璃的方法，包括以下步骤：
1、磁控溅射第一ITO层12，用交流电源、Ar气作为保护气体，磁控溅射氧化铟锡靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar气流量800SCCM；
2、磁控溅射WO3层13，用交流电源、Ar气、O2气作为保护气体，磁控溅射钨靶，氩氧流量比为400～425SCCM:600～630SCCM；
3、磁控溅射LiTaO3层14，用交流电源、Ar气、O2气作为保护气体，磁控溅射钽酸锂靶，氩氧流量比为400～425SCCM:20～30SCCM；
4、磁控溅射NiO层15，用交流电源、Ar气、O2气作为保护气体，磁控溅射钨镍靶W：Ni＝8：92(wt％)，氩氧流量比为380～400SCCM:600～625SCCM；
5、磁控溅射Ag层16，直流电源溅射，用Ar气作为保护气体，气体流量500～550SCCM；
6、制备AZO层17，铝掺杂的氧化锌层；
7、磁控溅射第二ITO层18，用交流电源、Ar气作为保护气体，磁控溅射氧化铟锡靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar气流量800SCCM；
8、合片，由第一基板11、第一ITO层12、WO3层13、LiTaO3层14、NiO层15、Ag层16、AZO层17和第二ITO层18组成第一玻璃基板1，再由第一玻璃基板1和第二玻璃基板2隔出出中空腔3进行合片，制备得高红外反射全固态电致变色玻璃。功能膜层依次沉积在第一玻璃基板上，膜层具有耐候性和耐腐蚀性能优秀、辐射率低、表面电阻小、均匀性好、结合力强的优点，增加中空腔有效降低产品的传热导系数，同时还可防止Ag层被氧化。