1.一种显示面板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：
在第一基板上制备多个间隔排列的线栅结构，其中，所述多个线栅结构之间定义所述第一基板的多个透明区域；
以所述线栅结构为掩膜版在所述透明区域形成黑色矩阵；
提供第二基板和液晶层；
将所述第一基板、所述第二基板、所述液晶层进行对组形成所述显示面板。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述在第一基板上制备多个间隔排列的线栅结构包括：
在第一基板上形成线栅材料层；
在所述线栅材料层上涂布光阻材料以形成光阻层；
对所述光阻层进行压印以使所述线栅材料层部分外露；
将所述线栅材料层外露的部分蚀刻；
将所述光阻层去除。
3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述对所述光阻层进行压印以使所述线栅材料层部分外露包括：
对所述光阻层采用纳米压印工艺进行压印。
4.根据权利要求3所述的制造方法，其特征在于，对所述光阻层采用纳米压印工艺进行压印包括：
对所述光阻层进行烘烤；
利用纳米压印模具对所述光阻层进行压印；
将所述纳米压印模具从所述光阻层脱离；
将经过压印后的所述光阻层的凹处的光阻材料蚀刻去除以使所述线栅材料层部分外露。
5.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述线栅结构包括多个间隔排列的线栅，所述线栅结构之间的间距为50～1000μm，所述线栅之间的间距为50～1000nm。
6.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述线栅的宽度为50～200nm，所述线栅的高度为50～500nm，所述线栅的周期100～300nm。
7.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述以所述线栅结构为掩膜版在所述透明区域形成黑色矩阵包括：
在所述线栅结构和所述透明区域上形成黑色矩阵材料层；
从所述第一基板远离所述线栅结构的一侧进行光照以使所述透明区域上的黑色矩阵材料固化；
将光线被所述线栅结构遮挡的所述线栅结构所在区域的黑色矩阵材料清洗。
8.一种线栅偏光片的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：
在第一基板上制备多个间隔排列的线栅结构，其中，所述多个线栅结构之间定义所述第一基板的多个透明区域；
以所述线栅结构为掩膜版在所述透明区域形成黑色矩阵。
9.一种线栅偏光片，其特征在于，所述线栅偏光片包括多个间隔排列的线栅结构和位于所述多个线栅结构之间的黑色矩阵。
10.根据权利要求9所述的线栅偏光片，其特征在于，所述线栅结构包括多个间隔排列的线栅，所述线栅结构之间的间距为50～1000μm，所述线栅之间的间距为50～1000nm。