阵列基板及其制作方法与InCell触控显示面板与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法与In Cell触控显示面板。

背景技术：

随着显示技术的飞速发展，触控显示面板已经广泛地被人们所接受及使用，如智能手机、平板电脑等均使用了触控显示面板。触控显示面板采用嵌入式触控技术将触控面板和液晶显示面板结合为一体，并将触控面板功能嵌入到液晶显示面板内，使得液晶显示面板同时具备显示和感知触控输入的功能。触控显示面板根据结构不同可划分为触控电极覆盖于液晶盒上式(On Cell)、触控电极内嵌在液晶盒内式(In Cell)、以及外挂式。其中，In Cell触控显示面板具有成本低、超薄、和窄边框的优点，主要应用在高端触控产品中，已演化为未来触控技术的主要发展方向。

请参阅图1与图2，为一种现有的In Cell触控显示面板的剖视示意图，所述In Cell触控显示面板包括阵列基板100、与所述阵列基板100相对设置的彩膜基板200、及位于所述阵列基板100与彩膜基板200之间的液晶层300；

所述阵列基板100包括第一基板110、设于所述第一基板110上的遮光层120、设于所述第一基板110与遮光层120上的第一绝缘层130、设于所述第一绝缘层130上的多晶硅层140、设于所述第一绝缘层130与多晶硅层140上的第二绝缘层150、设于所述第二绝缘层150上的栅极160、设于所述栅极160与第二绝缘层150上的第三绝缘层170、设于所述第三绝缘层170上的源/漏极410与数据线420、设于所述源/漏极410、数据线420与第三绝缘层170上的平坦层500、设于所述平坦层500上的第一钝化层810、设于所述第一钝化层810上的触控信号层600、设于所述触控信号层600与第一钝化层810上的第二钝化层820、设于所述第二钝化层820上的公共电极700、设于所述公共电极700与第二钝化层820上的第三钝化层830、及设于所述第三钝化层830上的像素电极900；

如图1所示，所述第三钝化层830、第二钝化层820、第一钝化层810及平坦层500上设有第一过孔910，所述像素电极900通过所述第一过孔910与源/漏极410相接触；如图2所示，所述第二钝化层820上设有第二过孔920，所述公共电极700通过所述第二过孔920与触控信号层600相接触；

所述彩膜基板200上设有隔垫物250，所述隔垫物250与所述阵列基板100的表面相接触。

所述阵列基板100的制作方法为：

步骤1’、提供第一基板110，在所述第一基板110上从下到上依次形成遮光层120、第一绝缘层130、多晶硅层140、第二绝缘层150、栅极160、第三绝缘层170、及源/漏极410与数据线420；

步骤2’、在所述源/漏极410、数据线420与第三绝缘层170上形成平坦层500，在所述平坦层500上形成第一钝化层810，在所述第一钝化层810上形成触控信号层600，在所述触控信号层600与第一钝化层810上形成第二钝化层820；

采用一道光刻制程对所述平坦层500、第一钝化层810及第二钝化层820进行蚀刻，在所述平坦层500、第一钝化层810及第二钝化层820形成对应于所述源/漏极410上方的第一通孔913，同时在所述第二钝化层820上形成对应于所述触控信号层600上方的第二过孔920；

步骤3’、在所述第二钝化层820上形成公共电极700，所述公共电极700通过所述第二过孔920与触控信号层600相接触；

步骤4’、在所述公共电极700与第二钝化层820上形成第三钝化层830，采用一道光刻制程对第三钝化层830进行蚀刻，形成与所述第一通孔913相贯通的第二通孔914，所述第二通孔914与第一通孔913共同构成第一过孔910；

步骤5’、在所述第三钝化层830上形成像素电极900，所述像素电极900通过所述第一过孔910与源/漏极410相接触。

从所述阵列基板100的结构及其制作方法可以看出，由于所述阵列基板100共含有第一钝化层810、第二钝化层820、及第三钝化层830共三道钝化层，使得其制程复杂，制程成本较高；

另外，由于触控信号层600较厚，且又位于平坦层500之上，因此所述阵列基板100表面对应于所述触控信号层600的区域会出现凸起101，而受空间的限制，该区域一般为隔垫物250与阵列基板100的接触区域，那么当阵列基板100与彩膜基板200之间发生偏移或者发生滑动时，隔垫物250很容易滑落到所述凸起101下方，容易造成液晶盒厚(Cell Gap)发生变化，引起显示不良；并且当隔垫物250发生滑动时，容易造成该区域的配向膜(未图示)刮伤，造成细小碎亮点，影响面板(Panel)的显示品质。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种阵列基板，表面比较平坦，能够避免因隔垫物滑动造成液晶盒塌陷或者配向膜刮伤的情况，提升显示品质，同时制程成本低。

本发明的目的还在于提供一种阵列基板的制作方法，制得的阵列基板表面比较平坦，显示品质好，且制程简单，制程成本低。

本发明的目的还在于提供一种In Cell触控显示面板，显示品质好，同时生产成本低。

为实现上述目的，本发明提供一种阵列基板，包括第一基板、设于所述第一基板上的遮光层、设于所述第一基板与遮光层上的第一绝缘层、设于所述第一绝缘层上的有源层、设于所述第一绝缘层与有源层上的第二绝缘层、设于所述第二绝缘层上的栅极、设于所述栅极与第二绝缘层上的第三绝缘层、设于所述第三绝缘层上的源/漏极与数据线、设于所述源/漏极、数据线与第三绝缘层上的第一平坦层、设于所述第一平坦层上的触控信号层、设于所述触控信号层与第一平坦层上的第二平坦层、设于所述第二平坦层上的公共电极、设于所述公共电极与第二平坦层上的钝化层、及设于所述钝化层上的像素电极；

所述钝化层、第一平坦层与第二平坦层上设有第一过孔，所述像素电极通过所述第一过孔与源/漏极相接触；所述第二平坦层上设有第二过孔，所述公共电极通过所述第二过孔与触控信号层相接触。

所述有源层为多晶硅层。

所述遮光层在水平方向上完全遮盖所述有源层。

所述第二过孔对应于所述数据线上方设置。

所述遮光层的材料为金属；所述触控信号层的材料为金属。

本发明还提供一种上述阵列基板的制作方法，包括如下步骤：

步骤1、提供第一基板，在所述第一基板上从下到上依次形成遮光层、第一绝缘层、有源层、第二绝缘层、栅极、第三绝缘层、及源/漏极与数据线；

步骤2、在所述源/漏极、数据线与第三绝缘层上形成第一平坦层，在所述第一平坦层上形成触控信号层，在所述触控信号层与第一平坦层上形成第二平坦层；

采用一道光刻制程对第二平坦层与第一平坦层进行蚀刻，在所述第二平坦层与第一平坦层上形成对应于所述源/漏极上方的第一通孔，同时在所述第二平坦层上形成对应于所述触控信号层上方的第二过孔；

步骤3、在所述第二平坦层上形成公共电极，所述公共电极通过所述第二过孔与触控信号层相接触；

步骤4、在所述公共电极与第二平坦层上形成钝化层，采用一道光刻制程对钝化层进行蚀刻，形成与所述第一通孔相贯通的第二通孔，所述第二通孔与第一通孔共同构成第一过孔；

步骤5、在所述钝化层上形成像素电极，所述像素电极通过所述第一过孔与源/漏极相接触。

本发明还提供一种In Cell触控显示面板，包括阵列基板、与所述阵列基板相对设置的彩膜基板、及位于所述阵列基板与彩膜基板之间的液晶层；

所述阵列基板为上述阵列基板。

所述彩膜基板包括第二基板、设于所述第二基板上的黑色矩阵、设于所述黑色矩阵与第二基板上的色阻层、设于所述色阻层上的第三平坦层、及设于所述第三平坦层上的主隔垫物，所述主隔垫物与所述阵列基板表面的钝化层相接触。

所述彩膜基板还包括与所述主隔垫物位于同一层的次隔垫物，所述次隔垫物的高度低于主隔垫物的高度。

所述第二基板为玻璃基板；所述色阻层包括红色色阻、绿色色阻、及蓝色色阻。

本发明的有益效果：本发明提供的一种阵列基板，通过在源/漏极、数据线与第三绝缘层上依次形成第一平坦层、触控信号层、第二平坦层、公共电极、钝化层、及像素电极，这种架构使得触控信号层位于第二平坦层下方，

不会出现阵列基板表面对应于触控信号层的区域形成凸起的情况，所述阵列基板的表面比较平坦，能够避免因隔垫物滑动造成液晶盒塌陷或者配向膜刮伤的情况，提升显示品质；同时将现有的阵列基板中的三道钝化层减少为一道钝化层，从而简化制程，降低制程成本。本发明提供的一种阵列基板的制作方法，制得的阵列基板表面比较平坦，显示品质好，且制程简单，制程成本低。本发明提供的一种In Cell触控显示面板，显示品质好，同时生产成本低。

附图说明

为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。

附图中，

图1为一种现有的In Cell触控显示面板在第一过孔处的剖视示意图；

图2为图1的In Cell触控显示面板在第二过孔处的剖视示意图；

图3为本发明的阵列基板在第一过孔处的剖视示意图；

图4为本发明的阵列基板在第二过孔处的剖视示意图；

图5为本发明的阵列基板的制作方法的流程图；

图6为本发明的In Cell触控显示面板在阵列基板的第一过孔处的剖视示意图；

图7为本发明的In Cell触控显示面板在阵列基板的第二过孔处的剖视示意图。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。

请参阅图3与图4，本发明首先提供一种阵列基板10，包括第一基板11、设于所述第一基板11上的遮光层12、设于所述第一基板11与遮光层12上的第一绝缘层13、设于所述第一绝缘层13上的有源层14、设于所述第一绝缘层13与有源层14上的第二绝缘层15、设于所述第二绝缘层15上的栅极16、设于所述栅极16与第二绝缘层15上的第三绝缘层17、设于所述第三绝缘层17上的源/漏极41与数据线42、设于所述源/漏极41、数据线42与第三绝缘层17上的第一平坦层51、设于所述第一平坦层51上的触控信号层60、设于所述触控信号层60与第一平坦层51上的第二平坦层52、设于所述第二平坦层52上的公共电极70、设于所述公共电极70与第二平坦层52上的钝化层81、及设于所述钝化层81上的像素电极90；

如图3所示，所述钝化层81、第一平坦层51与第二平坦层52上设有第一过孔91，所述像素电极90通过所述第一过孔91与源/漏极41相接触；如图4所示，所述第二平坦层52上设有第二过孔92，所述公共电极70通过所述第二过孔92与触控信号层60相接触。

具体的，所述第三绝缘层17与第二绝缘层15上设有对应于所述有源层14两端上方的接触孔171，所述源/漏极41经由所述接触孔171与所述有源层14相接触。

具体的，所述第一基板11为玻璃基板。

具体的，所述有源层14为多晶硅层。

具体的，所述遮光层12在水平方向上完全遮盖所述有源层14。

具体的，所述第二过孔92对应于所述数据线42上方设置。

具体的，所述遮光层12的材料为金属。

具体的，所述触控信号层60的材料为金属。

具体的，所述第一绝缘层13、第二绝缘层15、第三绝缘层17及钝化层81分别为氮化硅(SiN_x)层、氧化硅(SiO_x)层、或二者的复合层。

具体的，所述公共电极70与像素电极90的材料均为透明导电金属氧化物，优选为氧化铟锡(ITO)。

本发明的阵列基板10，通过在源/漏极41、数据线42与第三绝缘层17上依次形成第一平坦层51、触控信号层60、第二平坦层52、公共电极70、钝化层81、及像素电极90，这种架构使得触控信号层60位于第二平坦层52下方，不会出现阵列基板10表面对应于触控信号层60的区域形成凸起的情况，所述阵列基板10的表面比较平坦，能够避免阵列基板10在与彩膜基板对组形成液晶盒后因彩膜基板上的隔垫物滑动造成液晶盒塌陷或者配向膜刮伤的情况，提升显示品质；同时将现有的阵列基板中的三道钝化层减少为一道钝化层，从而简化制程，降低制程成本。

请参阅图5，同时参阅图3与图4，基于上述阵列基板10的结构，本发明还提供一种上述阵列基板10的制作方法，包括如下步骤：

步骤1、提供第一基板11，在所述第一基板11上从下到上依次形成遮光层12、第一绝缘层13、有源层14、第二绝缘层15、栅极16、第三绝缘层17、及源/漏极41与数据线42。

具体的，所述步骤1中在形成源/漏极41与数据线42之前还具有一蚀刻第二绝缘层15与第三绝缘层17的步骤，在第二绝缘层15与第三绝缘层17上对应于所述有源层14两端上方形成接触孔171，所述源/漏极41通过接触孔171与有源层14相接触。

步骤2、在所述源/漏极41、数据线42与第三绝缘层17上形成第一平坦层51，在所述第一平坦层51上形成触控信号层60，在所述触控信号层60与第一平坦层51上形成第二平坦层52。

采用一道光刻制程对第二平坦层52与第一平坦层51进行蚀刻，在所述第二平坦层52与第一平坦层51上形成对应于所述源/漏极41上方的第一通孔911，同时在所述第二平坦层52上形成对应于所述触控信号层60上方的第二过孔92。

步骤3、在所述第二平坦层52上形成公共电极70，所述公共电极70通过所述第二过孔92与触控信号层60相接触。

步骤4、在所述公共电极70与第二平坦层52上形成钝化层81，采用一道光刻制程对钝化层81进行蚀刻，形成与所述第一通孔911相贯通的第二通孔912，所述第二通孔912与第一通孔911共同构成第一过孔91。

步骤5、在所述钝化层81上形成像素电极90，所述像素电极90通过所述第一过孔91与源/漏极41相接触。

本发明的阵列基板10的制作方法，通过在源/漏极41、数据线42与第三绝缘层17上依次形成第一平坦层51、触控信号层60、第二平坦层52、公共电极70、钝化层81、及像素电极90，这种架构使得触控信号层60位于第二平坦层52下方，不会出现阵列基板10表面对应于所述触控信号层60的区域形成凸起的情况，所述阵列基板10的表面比较平坦，能够避免阵列基板10在与彩膜基板对组形成液晶盒后因彩膜基板上的隔垫物滑动造成液晶盒塌陷或者配向膜刮伤的情况，提升显示品质；同时将现有的阵列基板制程中的三道钝化层制程减少为一道钝化层制程，从而简化制程，降低制程成本。

请参阅图6与图7，基于上述阵列基板10，本发明还提供一种含有上述阵列基板10的In Cell触控显示面板，包括阵列基板10、与所述阵列基板10相对设置的彩膜基板20、及位于所述阵列基板10与彩膜基板20之间的液晶层30；

所述阵列基板10的结构如上文所述，此处不再赘述。

具体的，所述彩膜基板20包括第二基板21、设于所述第二基板21上的黑色矩阵22、设于所述黑色矩阵22与第二基板21上的色阻层23、设于所述色阻层23上的第三平坦层24、及设于所述第三平坦层24上的主隔垫物251，所述主隔垫物251与所述阵列基板10表面的钝化层81相接触。

优选的，所述彩膜基板20还包括与所述主隔垫物251位于同一层的次隔垫物252，所述次隔垫物252的高度低于所述主隔垫物251的高度，使所述次隔垫物252与所述阵列基板10的表面之间形成有间隙。

具体的，所述第二基板21为玻璃基板。

具体的，所述色阻层23包括红色色阻231、绿色色阻232、及蓝色色阻233。

本发明的In Cell触控显示面板，含有上述阵列基板10，所述阵列基板10的表面比较平坦，能够避免因彩膜基板20上的隔垫物滑动造成液晶盒塌陷或者配向膜刮伤的情况，提升显示品质，同时生产成本低。

综上所述，本发明提供一种阵列基板及其制作方法与In Cell触控显示面板。本发明的阵列基板，通过在源/漏极、数据线与第三绝缘层上依次形成第一平坦层、触控信号层、第二平坦层、公共电极、钝化层、及像素电极，这种架构使得触控信号层位于第二平坦层下方，不会出现阵列基板表面对应于触控信号层的区域形成凸起的情况，所述阵列基板的表面比较平坦，能够避免因隔垫物滑动造成液晶盒塌陷或者配向膜刮伤的情况，提升显示品质；同时将现有的阵列基板中的三道钝化层减少为一道钝化层，从而简化制程，降低制程成本。本发明的阵列基板的制作方法，制得的阵列基板表面比较平坦，显示品质好，且制程简单，制程成本低。本发明的In Cell触控显示面板，显示品质好，同时生产成本低。

以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。