一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示器及显示装置与流程

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示器及显示装置。

背景技术：

液晶显示器一般包括相对设置的彩膜基板和阵列基板，以及位于彩膜基板和阵列基板之间的液晶层。目前彩膜基板在制备时，如图1所示，一般先在衬底基板01上形成黑矩阵02的图形；接着在形成有黑矩阵02的图形的衬底基板01上形成包括蓝色B、绿色G和红色R的光阻层03；然后在形成有黑矩阵02和光阻层03的衬底基板01上形成平坦化层05。

但是，由于目前平坦化层是通过狭缝式涂布的方法形成的，制备时平坦化层的粘度较高，因此在黑矩阵层和光阻层的交叠处会出现凹凸不平的现象，从而导致平坦化层的表面凹凸不平，不利于后续PI定向夜的扩散及液晶取向，进而影响液晶显示器的品质。

技术实现要素：

本发明实施例提供一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示器及显示装置，用以提高显示区域的平坦化层的表面的平坦性。

因此，本发明实施例提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：

在衬底基板上形成黑矩阵的图形；

在形成有所述黑矩阵图形的所述衬底基板上形成多种颜色的光阻层的图形，以及在位于所述衬底基板边缘区域的所述黑矩阵的上方形成阻挡墙的图形；其中，所述阻挡墙的上表面距离所述衬底基板的上表面的距离大于所述光阻层的上表面距离所述衬底基板的上表面的距离；

采用滴注法在所述阻挡墙限定的区域内形成覆盖所述黑矩阵层和所述光阻层的平坦化层。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，采用滴注法在所述阻挡墙限定的区域内形成覆盖所述黑矩阵层和所述光阻层的平坦化层，具体包括：

采用滴注法将粘度为1.9－2.9毫帕·秒的平坦化层材料滴在所述阻挡墙限定的区域内。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，所述阻挡墙的材料与多种颜色的所述光阻层中的其中一种所述光阻层的材料相同。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，所述阻挡墙的材料与靠近所述阻挡墙的所述光阻层的材料相同。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，通过一次构图工艺形成所述阻挡墙的图形与其中一种所述光阻层的图形。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，在形成覆盖所述黑矩阵层和所述光阻层的平坦化层之后，还包括：对所述衬底基板进行高频低幅振动处理。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，对所述衬底基板进行高频低幅振动处理之后，还包括：对所述平坦化层进行高温固化处理。

相应地，本发明实施例还提供了一种彩膜基板，包括衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵和多种颜色的光阻层，还包括：位于所述衬底基板的边缘区域且位于所述黑矩阵上方的阻挡墙，以及位于所述阻挡墙限定的区域内、且覆盖所述黑矩阵和所述光阻层、且采用滴注法形成的平坦化层；其中，所述阻挡墙的上表面距离所述衬底基板的上表面的距离大于所述光阻层的上表面距离所述衬底基板的上表面的距离。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述阻挡墙的材料与多种颜色的所述光阻层中的其中一种所述光阻层的材料相同。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述阻挡墙的材料与靠近所述阻挡墙的所述光阻层的材料相同。

相应地，本发明实施例还提供了一种液晶显示器，包括本发明实施例提供的上述任一种彩膜基板。

相应地，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述液晶显示器。

本发明实施例提供的彩膜基板、其制作方法、液晶显示器及显示装置，通过在位于衬底基板边缘区域的黑矩阵的上方形成上表面距离衬底基板的上表面的距离大于光阻层的上表面距离衬底基板的上表面的距离的阻挡墙的图形，并且采用滴注法在阻挡墙限定的区域内形成覆盖黑矩阵层和光阻层的平坦化层，由于采用滴注法形成平坦化层时材料的粘度较低，因此可以保证该材料在阻挡墙限定的区域内充分流动，从而可以使显示区域中的平坦化层的表面分布均匀，进而可以提高彩膜基板的显示区域中的平坦化层表面的平坦性。因此将该彩膜基板应用于液晶显示器时，可以提高液晶显示器的显示均一性，进而提高液晶显示器的品质。

附图说明

图1为现有的彩膜基板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法的流程图；

图3a至图3e分别为本发明实施例提供的制作方法在执行各步骤后的剖面结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的，技术方案和优点更加清楚，下面结合附图，对本发明实施例提供的彩膜基板、其制作方法、液晶显示器及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。

附图中各层薄膜厚度和形状不反映彩膜基板的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

本发明实施例提供了一种彩膜基板的制作方法，如图2所示，包括：

S201、在衬底基板上形成黑矩阵的图形；

S202、在形成有黑矩阵图形的衬底基板上形成多种颜色的光阻层的图形，以及在位于衬底基板边缘区域的黑矩阵的上方形成阻挡墙的图形；其中，阻挡墙的上表面距离衬底基板的上表面的距离大于光阻层的上表面距离衬底基板的上表面的距离；

S203、采用滴注法在阻挡墙限定的区域内形成覆盖黑矩阵层和光阻层的平坦化层。

本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法，通过在位于衬底基板边缘区域的黑矩阵的上方形成上表面距离衬底基板的上表面的距离大于光阻层的上表面距离衬底基板的上表面的距离的阻挡墙的图形，并且采用滴注法在阻挡墙限定的区域内形成覆盖黑矩阵层和光阻层的平坦化层，由于采用滴注法形成平坦化层时材料的粘度较低，因此可以保证该材料在阻挡墙限定的区域内充分流动，从而可以使显示区域中的平坦化层的表面分布均匀，进而可以提高彩膜基板的显示区域中的平坦化层表面的平坦性。因此将该彩膜基板应用于液晶显示器时，可以提高液晶显示器的显示均一性，进而提高液晶显示器的品质。

在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，采用滴注法在阻挡墙限定的区域内形成覆盖黑矩阵层和光阻层的平坦化层，具体包括：

采用滴注法将粘度为1.9－2.9毫帕·秒的平坦化层材料滴在所述阻挡墙限定的区域内。

在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，多种颜色的光阻层一般至少包括：蓝色光阻层、绿色光阻层和红色光阻层，在此不作限定。

在具体实施时，为了降低制作成本，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，阻挡墙的材料与多种颜色的光阻层中的其中一种光阻层的材料相同。这样不需要增加一种新的制备阻挡墙的材料，并且可以通过一次构图工艺形成阻挡墙与光阻层的图形，即只需在形成其中一种光阻层的图形时改变原有的构图图形，通过一次构图工艺同时形成阻挡墙的图形和其中一种光阻层的图形，不用增加单独制备阻挡墙的图形的工艺，可以简化制备工艺流程，节省生产成本，提供生产效率。

较佳地，在具体实施时，为了降低制作成本，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，阻挡墙的材料与靠近阻挡墙的光阻层的材料相同。

需要说明的是，在本发明实施例提供的上述制作方法中，构图工艺可只包括光刻工艺，或可以包括光刻工艺以及刻蚀步骤，同时还可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图形的工艺；光刻工艺是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程的利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形的工艺。在具体实施时，可根据本发明中所形成的结构选择相应的构图工艺。

在具体实施时，为了保证平坦化层的平坦性，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，在形成覆盖黑矩阵层和光阻层的平坦化层之后，还包括：对衬底基板进行高频低幅振动处理。这样可以保证平坦化层材料的充分流动，从而达到在平坦化层制作完成后提高彩膜基板表面的平坦性的目的。

在具体实施时，为了进一步保证平坦化层的平坦性，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，对衬底基板进行高频低幅振动处理之后，还包括：对平坦化层进行高温固化处理。这样可以加快平坦化层的固化速度。

进一步地，当该彩膜基板作为液晶显示器的一部分时，一般是与液晶层接触，为了保证液晶层的厚度的均一性，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述制作方法中，在显示区域依次形成黑矩阵层的图形、多种颜色的光阻层的图形、阻挡墙的图形以及平坦化层的图形，还包括：在平坦化层的图形的表面设置若干隔垫物层，隔垫物层在衬底基板的正投影位于显示区域中的黑矩阵在衬底基板的正投影内。

下面通过具体的实施例对上述彩膜基板的制作方法进行详细的阐述。

该彩膜基板的制作方法包括以下步骤：

(1)通过一次构图工艺在衬底基板01上形成黑矩阵02的图形，如图3a所示。

(2)通过一次构图工艺在形成有黑矩阵02的衬底基板01上的显示区域形成蓝色光阻层03_1的图形，同时在位于衬底基板01边缘区域的黑矩阵02的上方形成阻挡墙04的图形，如图3b所示。

(3)通过一次构图工艺在衬底基板01上的显示区域形成红色光阻层03_2的图形，如图3c所示。

(4)通过一次构图工艺在衬底基板01上的显示区域形成绿色光阻层03_3的图形，如图3d所示。

(5)采用滴注法将粘度为1.9－2.9毫帕·秒的平坦化层材料滴在阻挡墙04限定的区域内，形成覆盖黑矩阵层02和光阻层03的平坦化层05，如图3e所示。

在具体实施时，步骤(2)至步骤(4)的顺序可以根据实际制作工艺流程进行互换，在此不作限定。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种彩膜基板，如图3e所示，包括衬底基板01，位于衬底基板01上的黑矩阵02和多种颜色的光阻层03，还包括：位于衬底基板01的边缘区域且位于黑矩阵02上方的阻挡墙04，以及位于阻挡墙04限定的区域内、且覆盖黑矩阵02和光阻层03、且采用滴注法形成的平坦化层05；其中，阻挡墙04的上表面距离衬底基板01的上表面的距离大于光阻层03的上表面距离衬底基板01的上表面的距离。

本发明实施例提供的彩膜基板，通过在位于衬底基板边缘区域的黑矩阵的上方形成上表面距离衬底基板的上表面的距离大于光阻层的上表面距离衬底基板的上表面的距离的阻挡墙的图形，并且采用滴注法在阻挡墙限定的区域内形成覆盖黑矩阵层和光阻层的平坦化层，由于采用滴注法形成平坦化层时材料的粘度较低，因此可以保证该材料在阻挡墙限定的区域内充分流动，从而可以使显示区域中的平坦化层的表面分布均匀，进而可以提高彩膜基板的显示区域中的平坦化层表面的平坦性。因此将该彩膜基板应用于液晶显示器时，可以提高液晶显示器的显示均一性，进而提高液晶显示器的品质。

在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，衬底基板可以为玻璃基板，也可以为设置有薄膜晶体管的阵列基板，在此不作限定。

在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，阻挡墙的材料与多种颜色的光阻层中的其中一种光阻层的材料相同。

较佳地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，阻挡墙的材料与靠近阻挡墙的光阻层的材料相同。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种液晶显示器，包括本发明实施例提供的上述任一种彩膜基板。该液晶显示器解决问题的原理与前述彩膜基板相似，因此该液晶显示器的实施可以参见前述彩膜基板的实施，重复之处在此不再赘述。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述液晶显示器。该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。该显示装置的实施可以参见上述彩膜基板的实施例，重复之处不再赘述。

本发明实施例提供的上述彩膜基板、其制作方法、液晶显示器及显示装置，通过在位于衬底基板边缘区域的黑矩阵的上方形成上表面距离衬底基板的上表面的距离大于光阻层的上表面距离衬底基板的上表面的距离的阻挡墙的图形，并且采用滴注法在阻挡墙限定的区域内形成覆盖黑矩阵层和光阻层的平坦化层，由于采用滴注法形成平坦化层时材料的粘度较低，因此可以保证该材料在阻挡墙限定的区域内充分流动，从而可以使显示区域中的平坦化层的表面分布均匀，进而可以提高彩膜基板的显示区域中的平坦化层表面的平坦性。因此将该彩膜基板应用于液晶显示器时，可以提高液晶显示器的显示均一性，进而提高液晶显示器的品质。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。