技术特征：
技术总结
公开了光学构件及其制造方法。该光学构件包括光透射基板，该光透射基板具有包括光学有效区域和光学无效区域的表面，光学有效区域和光学无效区域彼此相邻，光学有效区域和光学无效区域在其边界上形成不小于45度且不大于90度的角度。光学构件具有纹理化结构，该纹理化结构具有不大于使用波长的面内尺寸，该结构连续形成在沿着光学有效区域和光学无效区域的边界延伸的边界区域中，并且遮光膜形成在基板的表面上的光学无效区域的包括至少边界区域在内的区域中。
技术研发人员：寺本洋二
受保护的技术使用者：佳能株式会社
技术研发日：2017.03.21
技术公布日：2017.10.03