一种扫描粒子束显微镜系统及聚焦控制方法与流程

本发明涉及扫描粒子束显微镜技术，尤其涉及一种扫描粒子束显微镜系统及聚焦控制方法。

背景技术：

扫描电子显微镜(scanningelectronmicroscope，sem)、及聚焦离子束装置(focusedionbeamapparatus，fib)等扫描粒子束显微镜，在现代化生产和科学研究中使用越来越广泛。

扫描粒子束显微镜景深在nm～um量级，尤其在高分辨率条件下，景深较小；利用的扫描粒子束显微镜观察的样品时，若样品表面高度的变化超过扫描粒子束显微镜的景深，便不能清晰成像。通常通过调节扫描粒子束显微镜的电磁透镜聚焦，来保证扫描粒子束显微镜的工作距离不变。

但是，由于调节电磁透镜时存在磁滞效应，因此，受磁滞反馈时间的影响，在通过改变电磁透镜电流值调节电磁透镜聚焦时，带电粒子束不能立刻做出相应的改变。另外，由于样品高度变化量不确定，造成显微镜到样品表面的距离也不确定；因此，需要反复调节电磁透镜的电流值，以在聚焦电流附近寻找合适的电流值来确定聚焦电流，使带电粒子束重新聚焦到样品表面。不仅调节过程消耗的时间久，而且带电粒子束对样品长时间地照射，容易损伤样品；尤其对于非导电样品容易产生电荷积累效应，从而影响图像质量。

另外，在使用扫描粒子束显微镜对样品进行观察时，期望在整个观察范围内得到的所有图像的亮度、对比度保持一致；因此，必须保证在整个探测过程中带电粒子束工作条件保持不变，即保证带电粒子束的聚焦条件、带电粒子束能量不发生改变。而调整电磁透镜聚焦，通常会改变带电粒子束的聚焦条件，影响图像质量的一致性。并且，在电磁透镜调整到不同的电流值时，磁场的变化会影响初始电子束和样品上激发的返回信号电子的旋转，造成观察图像的旋转，增加图像分析的复杂度。

在样品探测过程中，调节样品台使其与电磁透镜之间始终保持一样的距离(即通常所说的带电粒子束显微镜的工作距离或样品高度)可以使图像保持一致性；但是，传统带电粒子束显微镜只能通过图像聚焦的清晰程度来判断工作距离是否发送变化，不仅需要花费很长的时间，而且判断的标准无法统一、判断标准复杂度大。

技术实现要素：

本发明实施例的技术方案是这样实现的：

本发明实施例提供一种扫描粒子束显微镜系统，包括：扫描粒子束显微镜及控制所述扫描粒子束显微镜工作距离的聚焦控制系统；其中，

所述聚焦控制系统包括：

两个照明成像装置，对称位于所述扫描粒子束显微镜的真空腔室上方、以及扫描粒子束显微镜的带电粒子光学镜筒侧面，用于产生照明光束、以及传输从样品表面反射的携带聚焦图像的光束；所述样品位于所述真空腔室内；

两个反射装置，对称位于所述真空腔室内部，用于将对应的照明成像装置产生的照明光束反射到所述样品表面、以及将所述样品表面反射的携带聚焦图像的光束反射到所述探测装置；

两个探测装置，对称位于所述两个照明成像装置的上方，用于接收从所述样品表面反射的携带聚焦图像的光束，并探测所述光束携带的聚焦图像；

聚焦控制装置，用于对所述聚焦图像进行处理，获得所述样品的距离属性，并根据所述距离属性调节所述样品的位置参数，用以控制所述扫描粒子束显微镜的工作距离。

上述方案中，所述扫描粒子束显微镜包括：用于产生带电粒子束的带电粒子源、用于聚焦、偏转所述带电粒子束的带电粒子光学镜筒、及与所述带电粒子光学镜筒连接的真空腔室。

上述方案中，所述照明成像装置包括：

光源，用于产生照明光束；

光栅，用于形成至少一种形状的光栅图案；

棱镜，用于引导所述照明光束将所述光栅图案投射至成像透镜；

所述成像透镜，用于引导所述照明光束经反射装置反射后，将所述光栅图案聚焦至所述样品表面。

上述方案中，所述成像透镜，还用于引导所述携带聚焦图像的光束投射至所述探测装置。

上述方案中，所述真空腔室顶部设置有与所述两个照明成像装置分别对应的两个真空窗，所述真空窗用于使所述照明光束进入所述真空腔室、以及使所述携带聚焦图像的光束透过所述真空腔室。

上述方案中，所述成像透镜至少包括一个远心透镜系统，用于引导所述照明光束将所述光栅图案缩倍聚焦至所述样品表面、以及引导所述携带聚焦图像的光束放大聚焦至所述探测装置。

上述方案中，所述聚焦控制装置包括：

处理器，用于对不同距离的样品聚焦图像进行处理，获得所述样品的距离变化量；所述距离为样品至所述扫描粒子束显微镜之间的距离；

位置调整组件，用于根据所述距离变化量调节所述样品的位置参数。

其中，所述位置调整组件包括至少3个压电陶瓷马达。

本发明实施例还提供一种聚焦控制方法，应用于扫描粒子束显微镜系统，所述系统产生具有对称位置关系的两束照明光束，包括：

携带有光栅图案的两束照明光束分别被缩倍聚焦到样品表面，经所述样品表面反射后，分别被放大聚焦成像；

分别探测所被聚焦的光栅图像；

基于所述聚焦图像获得所述样品的距离属性，并根据所述距离属性调节所述样品的位置参数。

上述方案中，所述照明光束经光栅入射至棱镜后，将所述光栅图案投射至成像透镜；

所述照明光束经所述成像透镜及反射装置后，将所述光栅图案缩倍聚焦至所述样品表面；

从所述样品表面反射的所述聚焦图像被反射装置反射经成像透镜后，被放大聚焦成像。

上述方案中，从照明成像系统出射所述携带聚焦图像的光束，投射至探测装置，以使所述探测装置探测所述光束携带的聚焦图像。

上述方案中，所述基于所述聚焦图像获得所述样品的距离属性，并根据所述距离属性调节所述样品的位置参数，包括：

对不同距离的样品聚焦图像进行处理，获得所述样品的距离变化量；所述距离为样品至所述扫描粒子束显微镜之间的距离；

根据所述距离变化量调节所述样品的位置参数。

本发明实施例中，通过在传统的扫描粒子束显微镜结构的外部，增加一独立的聚焦控制系统，所述聚焦控制系统对样品表面反射的聚焦图像进行处理，获得所述样品的距离属性，并根据所述距离属性调节所述样品的位置参数，用以控制所述扫描粒子束显微镜的工作距离，实现了扫描带电粒子束显微镜观察到的扫描图像的一致性；由于所述聚焦控制系统在计算机的控制下调节样品的位置参数，因此，提高了调节精度，缩短了观察时间。

附图说明

图1为本发明实施例一一种扫描粒子束显微镜系统的组成结构示意图；

图2为本发明实施例聚焦控制系统的工作原理示意图；

图3为本发明实施例样品倾斜时聚焦控制系统对样品的探测示意图；

图4为本发明实施例二一种扫描粒子束显微镜系统的组成结构示意图；

图5为本发明实施例位置调整组件的结构示意图；

图6为本发明实施例三一种聚焦控制方法的处理流程示意图；

图7为本发明实施例四一种扫描粒子束显微镜实现聚焦控制的流程示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

实施例一

本发明实施例一一种扫描粒子束显微镜系统，所述扫描粒子束显微镜系统的组成结构，如图1所示，所述扫描粒子束显微镜系统包括：扫描粒子束显微镜和聚焦控制系统，所述聚焦控制系统用于控制所述扫描粒子束显微镜的工作距离。

本发明实施例中，所述扫描粒子束显微镜包括：带电粒子源101、带电粒子光学镜筒103及真空腔室140。

其中，所述带电粒子源101产生的带电粒子束经所述带电粒子光学镜筒103聚焦、偏转后，进入真空腔室140。

本发明实施例中，所述聚焦控制系统包括：第一照明成像装置11、第二照明成像装置12、第一反射装置115、第二反射装置125、第二探测装置120和聚焦控制装置130。

其中，所述第一照明成像装置11位于所述扫描粒子束显微镜的真空腔室上方、及带电粒子光学镜筒103的侧面，用于产生照明光束。

所述第一照明成像装置11包括：第一光源110、第一光栅112、第一棱镜111及第一成像透镜113。

其中，所述第一光源110产生的照明光束投射到第一光栅112后形成光栅图案，再通过第一棱镜111改变照明光束的传输方向；所述第一棱镜111用于引导所述照明光束将所述第一光栅112图像投射至所述第一成像透镜113；所述第一成像透镜113引导所述照明光束经第一反射装置115反射后，将所述光栅图案缩倍聚焦至样品141表面；所述样品141置于所述真空腔室140内的样品台142上。

在一优选实施方式中，所述第一反射装置115装有可调转角系统，为保证高度的测量灵敏度，通过所述可调转角系统调节所述第一反射装置115使反射到样品141上的照明光束与样品141之间的角度小于15°；所述第一反射装置115实现的功能可由反射镜实现。

这里，在所述真空腔室140的顶部设置有第一真空窗114和第二真空窗124，所述照明光束经由所述第一真空窗114进入所述真空腔室140后，照射至所述第一反射装置115；所述携带聚焦图像的光束经由所述第二真空窗124后，照射至所述第二照明成像装置12；所述第一反射装置115将所述第一照明成像装置11产生的照明光束反射到所述样品141表面，所述照明光束在所述样品141表面反射形成携带聚焦图像的光束；所述携带聚焦图像的光束经所述第二反射装置125反射后，进入所述第二照明成像装置12。

所述第二照明成像装置12包括：第二成像透镜123；因此，所述携带聚焦图像的光束经由所述第二真空窗124后，照射至所述第二成像透镜123；所述第二成像透镜123引导所述携带聚焦图像的光束放大聚焦至所述第二探测装置120。

所述第二探测装置120，位于所述第二照明成像装置12的上方，用于探测所述光束携带的聚焦图像。所述聚焦控制装置130，对所述聚焦图像进行处理，获得所述样品的距离属性，并根据所述距离属性调节所述样品的位置参数，用以控制所述扫描粒子束显微镜的工作距离。具体地，可通过调节承载所述样品141的样品台142的移动来调节所述样品141的位置参数。

在一具体实施方式中，所述聚焦控制装置130，用于对不同距离的样品聚焦图像进行处理，获得所述样品141的距离变化量；所述距离为样141品至所述扫描粒子束显微镜之间的距离，并根据所述距离变化量调节所述样品141的位置参数。

在一具体实施方式中，所述第一照明成像装置11中的各光学元件可以固化为一个具有调整装置的模组，能够方便在所述真空腔室140外部调节光学参数，并通过调节所述模组的z向高度来适应所述扫描粒子束显微镜的不同的工作距离。

在一优选实施例中，所述第一光源110的功能可以由发光二极管(lightemittingdiode，led)实现。所述第一光栅112可以为包含多种形状的光栅结构。所述第一成像透镜113为远心透镜系统，能够适应不同的模组z向高度，以提高所述第一照明成像装置11的容差。

在一优选实施方式中，所述第二反射装置125装有可调转角系统，为保证高度的测量灵敏度，通过所述可调转角系统调节所述第二反射装置125倾斜角度，使所述第一反射装置115和所述第二反射装置125与样品141表面之间的角度一致。所述第二反射装置125实现的功能可由反射镜实现。

本发明实施例中，从样品141表面反射的聚焦图像经所述第二成像透镜聚焦至所述第二探测装置120上的成像位置与样品141的表面高度有关。具体地，所述聚焦控制系统的工作原理示意图，如图2所示，若样品141的表面存在凸起，在矢量200方向样品141的高度发生变化；根据光学成像原理，聚焦图案在所述第二探测装置120上形成图像的位置沿矢量210方向移动。

同时，从样品141表面反射的聚焦图像聚焦在所述第二探测装置120上的成像位置与样品141表面的倾斜度也有关系，如图3所示，当样品台142或样品141表面与水平面之间的倾斜角为α时，根据光学成像原理，所述第二探测装置120所探测到的从样品141表面反射的照明光束与样品141水平放置时所探测到的反射光束126之间的夹角为2α；因此，所述聚焦图像在所述第二探测装置120上的位置也会发生偏移。

需要说明的是，本发明实施例中，所述第一照明成像装置11位于所述光学镜筒103的左侧，所述第二照明成像装置12及所述第二探测装置120位于所述光学镜筒103的右侧。在另一具体实施方式中，所述第一照明成像装置11可位于所述光学镜筒103的右侧，所述第二照明成像装置12及所述第二探测装置120可位于所述光学镜筒103的左侧。

实施例二

由于本发明实施例一中样品或样品台的倾斜也会导致聚焦图像在探测器上的位置发生偏移，因此，本发明实施例二提供一种扫描粒子束显微镜系统，能够避免上述实施例一中由于样品或样品台的倾斜导致的探测结果不准确的问题；所述扫描粒子束显微镜系统的组成结构，如图4所示，包括：扫描粒子束显微镜和聚焦控制系统，所述聚焦控制系统用于控制所述扫描粒子束显微镜的工作距离。

本发明实施例中，所述扫描粒子束显微镜包括：带电粒子源101、带电粒子光学镜筒103及真空腔室140。

其中，所述带电粒子源101产生的带电粒子束经所述带电粒子光学镜筒103聚焦、偏转后，进入真空腔室140。

本发明实施例中，所述聚焦控制系统包括：第一照明成像装置11、第三照明成像装置13、第一反射装置115、第二反射装置125、第一探测装置121、第二探测装置120和聚焦控制装置130。

其中，所述第一照明成像装置11和第三照明成像装置13对称的位于所述扫描粒子束显微镜的真空腔室140的上方，以及所述光学镜筒103的两侧；所述第一照明成像装置11和第三照明成像装置13，均用于产生照明光束、以及传输从样品141表面反射的携带聚焦图像的光束；所述样品141位于所述真空腔室140内部。

所述第一照明成像装置11包括：第一光源110、第一光栅112、第一棱镜111及第一成像透镜113。

其中，所述第一光源110产生的照明光束投射到第一光栅112后形成光栅图案，再通过第一棱镜111改变照明光束的传输方向；所述第一棱镜111用于引导所述照明光束将所述光栅112图案投射至所述第一成像透镜113；所述第一成像透镜113引导所述照明光束经第一反射装置115反射后，将所述光栅图案缩倍聚焦至样品141表面；具体地，将所述光栅图案缩倍聚焦在样品141表面的位置，位于所述扫描粒子束显微镜的光轴102位置；所述样品141置于所述真空腔室140内的样品台142上。

在一优选实施方式中，所述第一反射装置115装有可调转角系统，为保证高度的测量灵敏度，通过所述可调转角系统调节所述第一反射装置115使反射到样品141上的照明光束与样品141之间的角度小于15°；所述第一反射装置115实现的功能可由反射镜实现。

这里，在所述真空腔室140的顶部设置有第一真空窗114，所述照明光束经由所述第一真空窗114进入所述真空腔室140后，照射至所述第一反射装置115；所述携带聚焦图像的光束经由所述第二真空窗124后，照射至所述第三照明成像装置13。

所述第一反射装置115将所述第一照明成像装置11产生的照明光束反射到所述样品141表面，所述照明光束在所述样品141表面反射形成携带聚焦图像的光束；所述携带聚焦图像的光束经所述第二反射装置125反射后，进入所述第三照明成像装置13。

所述第三照明成像装置13包括：第二成像透镜123、第二棱镜127、第二光栅122及第二光源126；因此，所述携带聚焦图像的光束经由所述第二真空窗124后，照射至所述第二成像透镜123；所述第二成像透镜123引导所述携带聚焦图像的光束经所述第二棱镜127后，投射至所述第二探测装置120。

所述第二探测装置120，位于所述第二照明成像装置12的上方，用于探测所述光束携带的聚焦图像。所述聚焦控制装置130，对所述聚焦图像进行处理，获得所述样品的距离属性，并根据所述距离属性调节所述样品的位置参数，用以控制所述扫描粒子束显微镜的工作距离。

具体地，所述聚焦控制装置130包括处理器131和位置调整组件132，所述处理器131可对不同工作距离的样品的聚焦图像进行处理，获得所述样品的距离变化量，所述位置调整组件132根据所述距离变化量调节所述样品的位置。在调节所述样品的位置时，可通过调节承载所述样品141的样品台142的移动来调节所述样品141的位置参数；如调节承载所述样品141的样品台142的水平x或y方向的移动、或调节压电陶瓷马达等z向调整装置来实现对所述样品的位置调整。

在一优选实施方式中，所述位置调整组件132的结构，如图5所示，包括xy平面调整装置401和至少一个z向调整装置402；在所述位置调整组件132包括一点z向调整装置时，仅能调节所述样品台142的高度；在所述位置调整组件132包括三点以上z向调整装置时，不仅能够调节所述样品台142的高度，还能够调节所述样品台142的倾斜角度；其中，所述z向调整装置的功能可由压电陶瓷马达实现。

基于对上述扫描粒子束显微镜系统的说明，可以看出，第一照明成像装置11中的第一光源110产生的照明光束经所述第一成像透镜113及所述第一反射装置115后，照明光束经所述第一光栅112产生的光栅图案缩倍聚焦在样品表面，产生聚焦图像；即所述照明光束在所述样品141表面反射形成携带聚焦图像的光束；所述携带聚焦图像的光束经所述第二反射装置125反射后，进入所述第三照明成像装置13。所述携带聚焦图像的光束经由所述第二真空窗124后，照射至所述第二成像透镜123；所述第二成像透镜123引导所述携带聚焦图像的光束经所述第二棱镜127后放大聚焦在所述第二探测装置120。

基于本发明实施例所述扫描粒子束显微镜系统，还同时存在另一种光束传输线路；具体地，第三照明成像装置13中的第二光源126产生的照明光束经投射到所述第二光栅122形成光栅图案，通过所述第二棱镜127改变照明光束传输方向，由所述第二成像透镜123及所述第二反射装置125引导照明光束将光栅图案缩倍聚焦在所述样品141表面上产生聚焦图像；所述携带聚焦图像的光束经所述第一反射装置115反射后，进入所述第一照明成像装置11。所述携带聚焦图像的光束经由所述第一真空窗114后，照射至所述第一成像透镜113；所述第一成像透镜113引导所述携带聚焦图像的光束经所述第一棱镜111后放大聚焦在所述第一探测装置121。

在一具体实施方式中，所述聚焦控制装置130，用于对不同距离的样品聚焦图像进行处理，获得所述样品141的距离变化量；所述距离为样141品至所述扫描粒子束显微镜之间的距离，并根据所述距离变化量调节所述样品141的位置参数。

在一具体实施方式中，所述第一照明成像装置11中的各光学元件可以固化为一个具有调整装置的模组，能够方便在所述真空腔室140外部调节光学参数，并通过调节所述模组的z向高度来适应所述扫描粒子束显微镜的不同的工作距离。

在一优选实施例中，所述光源110的功能可以由发光二极管(lightemittingdiode，led)实现。所述光栅112可以为包含多种形状的光栅结构。所述第一成像透镜113为远心透镜系统，能够适应不同的模组z向高度，以提高所述第一照明成像装置11的容差。

在一优选实施方式中，所述第二反射装置125装有可调转角系统，所述第二反射装置125实现的功能可由反射镜实现。同时，所述第一反射装置115和所述第二反射装置125关于扫描粒子束显微镜光轴102对称放置，且所述第一反射装置115和所述第二反射装置125的与样品141表面的角度一致。

本发明实施例中，两束照明成像光束沿对称路径传输，因此，以其中一条光束传输路径为例，从样品141表面反射的聚焦图像经所述第二成像透镜聚焦至所述第二探测装置120上的成像位置与样品141的表面高度有关。具体地，所述聚焦控制系统的原理图，如图2所示，若样品141的表面存在凸起，在矢量200方向样品141的高度发生变化；根据光学成像原理，聚焦图案在所述第二探测装置120上形成图像的位置沿矢量210方向移动。

同时，从样品141表面反射的聚焦图像聚焦在所述第二探测装置120上的成像位置与样品141表面的倾斜度也有关系，如图3所示，当样品台142或样品141表面与水平面之间的倾斜角为α时，根据光学成像原理，所述第二探测装置120所探测到的从样品141表面反射的照明光束与样品141水平放置时所探测到的反射光束126之间的夹角为2α；因此，所述聚焦图像在所述第二探测装置120上的位置也会发生偏移。

本发明实施例中，所述第一照明成像装置11与第三照明成像装置13以所述扫描粒子束显微镜的光轴为中心，对称的位于所述光学镜筒103的两侧及所述真空腔室140的顶部；所述第一探测装置121位于第一照明成像装置11的上方，第二探测装置120位于第三照明成像装置13的上方，由于所述第一照明成像装置11和第三照明成像装置13的位置关系具有对称性，因此，第一探测装置121和所述第二探测装置120的位置关系也具有对称性。综上，可以看出，本发明实施例二所述聚焦控制系统为对称性结构，其产生的两束照明光束的传输过程也具有对称性。因此，在样品表面或样品台与水平面之间的倾斜角为α时，所述第一探测装置121及所述第二探测装置120探测到的图像的偏移方向相反、偏移量相同；而当样品141高度发生变化时，所述第一探测装置121及所述第二探测装置120探测到的图像的偏移方向和偏移量都相同。因此，所述处理器131可以通过计算两侧偏移矢量平均值的方法，得到样品位置变化量，使计算结果不受样品或样品台倾斜的影响。所述对称指关于扫描粒子束显微镜光轴对称分布。

同时，由于本发明实施例中所述照明成像装置位于真空腔室的外部，因此，可以独立调节所述聚焦控制系统，以适应扫描粒子束显微镜的不同工作距离。

实施例三

基于上述扫描粒子束显微镜系统，本发明实施例三提供一种聚焦控制方法，所述方法的处理流程示意图，如图6所示，所述方法应用于上述实施例二所述扫描粒子束显微镜系统，所述系统产生具有对称位置关系的两束照明光束，包括以下步骤：

步骤s101，携带有光栅图像的两束照明光束分别被缩倍聚焦到样品表面，经所述样品反射后，分别被放大聚焦成像；

具体地，led等光源产生的照明光束经光栅入射至棱镜后，将所述光栅图像投射至成像透镜；所述照明光束经所述成像透镜及反射装置后，将所述光栅图案缩倍聚焦至所述样品表面，形成聚焦图像。

步骤s102，分别探测所述被聚焦的光栅图像；

具体地，所述携带聚焦图像的光束经反射装置反射及所述成像透镜放大聚焦后，被探测装置探测。

这里，所述探测装置可以是ccd相机等。

步骤s103，基于所述聚焦图像获得所述样品的距离属性，并根据所述距离属性调节所述样品的位置参数；

具体地，对不同距离的样品聚焦图像进行处理，获得所述样品的距离变化量；所述距离为样品至所述扫描粒子束显微镜之间的距离；根据所述距离变化量调节所述样品的位置参数。

在调节所述样品的位置参数时，可通过调节承载所述样品的样品台的移动来调节所述样品的位置参数；如调节承载所述样品的样品台的水平x或y方向的移动、或调节压电陶瓷马达等z向调整装置来实现对所述样品的位置调整。

实施例四

基于上述扫描粒子束显微镜系统，本发明实施例四提供一种扫描粒子束显微镜实现聚焦控制的方法，所述方法的处理流程示意图，如图7所示，所述方法应用于上述实施例二所述扫描粒子束显微镜系统，所述系统产生具有对称位置关系的两束照明光束，包括以下步骤：

步骤s201，初始化设置；

具体地，根据已知的扫描粒子束显微镜的工作距离设置照明成像装置的工作距离，并通过调整反射装置的角度，使得在样品表面形成的聚焦图像在所述扫描粒子束显微镜的光轴102位置。

步骤s202，判断聚焦图像是否清晰，在判断结果为是时，执行步骤s203；在判断结果为否时，执行步骤s204。

步骤s203，利用扫描粒子束显微镜观察样品。

步骤s204，调整照明成像装置的工作距离及探测装置的工作距离；

这里，通过调整照明成像装置的工作距离及探测装置的工作距离，使得能够观察到清晰的聚焦图像。

步骤s205，判断探测到的图像是否清晰、或是否无位移；在判断结果为是时，执行步骤s203；在判断结果为否时，执行步骤s206。

步骤s206，计算样品位置变化量，得到计算结果；

这里，具体地，在观察样品的过程中，当样品的表面高度发生变化，甚至超出扫描粒子束显微镜的景深时，探测装置探测得到的光栅图像的位置发生偏移或成像不清晰；此时，根据光栅图像位置变化量，通过计算机来计算样品位置的变化量。

步骤s207，基于所述计算结果调整样品的位置；

具体地，根据计算得到的样品位置变化值，可通过计算机控制、调节承载所述样品的样品台的移动来调节所述样品的位置参数；如调节压电陶瓷马达等z向调整装置来实现对所述样品高度、倾斜度的调整，恢复扫描粒子束显微镜至成像清晰的工作条件，从而继续执行步骤s203利用扫描粒子束显微镜观察样品。

整个扫描粒子束显微镜自动聚焦过程是一个调节——观察——反馈——调节的过程，在保证图像质量一致的同时，提高了对样品的调节精度、缩短了对样品的观察时间。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。