像素结构、像素驱动方法、阵列基板、显示装置与流程

技术特征：

1.一种像素结构，其特征在于，包括固定基板和可在与所述固定基板平行的平面内移动以改变入射光有效反光面积的可移动导电层，所述固定基板包括透明衬底和设于所述透明衬底上的导电隔膜，所述导电隔膜上包覆介电层；所述可移动导电层设于远离所述透明衬底的一侧；

所述可移动导电层与所述介电层之间能够形成干涉气隙，所述干涉气隙的高度为其中，为该像素的颜色对应的光波波长，n为自然数。

2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述可移动导电层包括柔性反射薄膜，所述柔性反射薄膜与所述介电层之间能够形成所述干涉气隙；所述可移动导电层还包括用于限定所述干涉气隙高度的刚性层。

3.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述导电隔膜靠近透明衬底的一面包括抗反射涂层，远离透明衬底的一面包括吸收层。

4.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述可移动导电层与所述介电层之间能够形成三个并列的干涉气隙，每个干涉气隙的高度不同，以使像素结构可显示出三种不同颜色。

5.一种像素驱动方法，其特征在于，采用权利要求1-4任一项所述的像素结构，具体包括如下步骤：

像素开启步骤：断开所述导电隔膜和可移动导电层的像素电压，所述可移动导电层与所述介电层形成干涉气隙；

色阶调整步骤：驱动所述可移动导电层移动预设距离，以改变所述可移动导电层的有效反光面积。

6.根据权利要求5所述的像素驱动方法，其特征在于，在所述色阶调整步骤之前还包括：

获取环境光信号；

所述色阶调整步骤具体为：

根据所述环境光信号，驱动所述可移动导电层移动预设距离，以改变所述可移动导电层的有效反光面积。

7.一种阵列基板，其特征在于，包括权利要求1-4任一项所述的像素结构。

8.根据权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述固定基板为透光材料，所述各像素结构的可移动导电层之间设有透光间隙。

9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求7-8任一项所述的阵列基板。

10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，当所述固定基板为透光材料，所述各像素结构的可移动导电层之间设有透光间隙时，本显示装置还包括光感器件和可接收所述光感器件感应信号的控制器，所述控制器与所述可移动导电层的驱动电压信号连接；所述控制器根据所述感应信号输出对应的驱动所述可移动导电层移动的驱动电压，以将本显示装置调整为反射显示模式、透射显示模式或半透半反显示模式。