一种双印刻导光板及其加工方法与流程

文档序号:15228985发布日期:2018-08-21 19:07阅读:281来源:国知局

本发明涉及液晶显示器设计技术领域,具体涉及一种双印刻导光板及其加工方法。



背景技术:

导光板是液晶显示器中一个必不可少的光学部件,光源经过导光板均照射在液晶显示器上;现在市场上,为了追求液晶显示器的低功率,液晶显示器背光模组的高辉度的提高,则需要对导光板的技术做进一步的提高。

现有液晶显示装置的导光板存在以下缺点:由于导光板本身较薄,当在加工过程中后者使用过程中只要导光板的一侧存在一点点的异物或者污渍的时候,会使得液晶显示器上出现白点;因此生产过程中只要一不小心有异物的进入,就是的该液晶显示装置成为不良产品,这就导致生产过程中不良率较高,客户的达成率低。



技术实现要素:

针对上述问题,本发明提供了一种双印刻导光板,包括有一导光板本体,所述导光板本体的上表面上形成有若干顺序排列的上阴刻凹形槽,所述导光板本体的下表面上形成有若干顺序排列的下阴刻凹形槽,光线进入所述导光板本体,在导光板本体上阴刻凹形槽、下阴刻凹形槽的作用下形成重复折射,同时所述导光板本体的表面形成有摩尔纹现象;所述导光本体的下表面上还形成有用于均匀折射率的多个阴刻凹点。

较佳地,若干所述上阴刻凹形槽、若干所述下阴刻凹形槽均等间距间隔排列。

较佳地,所述导光板本体上表面上的上阴刻凹形槽与所述导光板本体下表面上的下阴刻凹形槽相同且一一对应布置。

较佳地,所述上阴刻凹形槽、所述下阴刻凹形槽、所述阴刻凹点的阴刻深度为25um。

较佳地,靠近光源处的所述阴刻凹点的数目少于远离光源处的所述阴刻凹点的数目。

较佳地,多个所述阴刻凹点不规则排列。

较佳地,所述导光板主体采用亚克力板。

本发明还提供了一种双印刻导光板的加工方法,其特征在于,用于加工以上所述导光板,导光板采用滚压机直接压成,所述滚压机包括有上压滚和下压滚,所述上压滚外表面上设置有用于压制出上阴刻凹形槽的第一凸起结构,所述下压滚的外表面上设置有用于压制出下阴刻凹形槽和阴刻凹点的第二凸起结构;导光板经过上压滚与下压滚之间,在加热、加压的作用下同时在导光板上下表面上压制出上阴刻凹形槽、下阴刻凹形槽和阴刻凹点。

较佳地,所述滚压机滚压时的温度为100℃、压力为小于1000kgf。

较佳地,所述上压滚与所述第一凸起结构一体注塑制成,所述下压滚与所述第二凸起结构一体注塑制成。

本发明由于采用以上技术方案,使之与现有技术相比,具有以下的优点和积极效果:

本发明提供的双印刻导光板,通过在导光板的上下表面上均设置有若干顺序排的凹形槽,当光源发出的光线进入到导光板内后,光线同时经过波浪式的上阴刻凹形槽、下阴刻凹形槽,使得光线得到更宽广的反射,提高了透光率;而且,在上阴刻凹形槽、下阴刻凹形槽的共同作用下使得光线发生重复折射,相对于现有的导光板的光效率提高了1.5%-2.0%,从而在导光板的表面形成了摩尔纹现象,从而能够对导光板表面的异物、污渍起到很多好的遮蔽作用,即不会形成白点;因此,在生产过程中,即使存在异物、污渍,也不会影响产品的质量,所以能够大大降低了产品不良率;另外,由于经过上阴刻凹形槽、下阴刻凹形槽的双重反射,大大提供了亮度,在同等亮度要求下需要的电能更小,具有省电的优点。

另外,由于光源通常布置在导光板的一侧,导光板各部位相对于光源有远近的区别,从而导致导光板各处的折射率不均匀,本发明通过多个阴刻凹点的设置,从而均匀导光板各处的折射率。

附图说明

结合附图,通过下文的述详细说明,可更清楚地理解本发明的上述及其他特征和优点,其中:

图1为本发明提供的导光板的结构示意图;

图2为本发明中滚压机的示意图。

具体实施方式

参见示出本发明实施例的附图,下文将更详细地描述本发明。然而,本发明可以以许多不同形式实现,并且不应解释为受在此提出之实施例的限制。相反,提出这些实施例是为了达成充分及完整公开,并且使本技术领域的技术人员完全了解本发明的范围。这些附图中,为清楚起见,可能放大了层及区域的尺寸及相对尺寸。

实施例1

参照图1,本发明提供了一种用于液晶显示器的双印刻导光板,包括有一导光板本体1,导光板本体1的上表面上形成有若干顺序排列的上阴刻凹形槽101,导光板本体1的下表面上形成有若干顺序排列的下阴刻凹形槽102;光线进入导光板本体1,在导光板本体1上阴刻凹形槽101、下阴刻凹形槽102的作用下形成重复折射,同时导光板本体1的表面形成有摩尔纹现象;导光本体1的下表面上还形成有用于均匀折射率的多个阴刻凹点103。

本发明提供的导光板,通过在导光板的上下表面上均设置有若干顺序排的凹形槽,当光源发出的光线进入到导光板内后,光线同时经过波浪式的上阴刻凹形槽、下阴刻凹形槽,具体的,现有技术中的导光板只在上表面设置有阴刻部,位于导光板一侧的光源进入到导光板内遇到阴刻部形成光源折射现象后从直接从导光板的表面上扩散出去,而对于本申请提供的导光板由于双面上均设置有阴刻部,部分光源会在多出的一侧的阴刻部上形成重复反射后再折射到原有阴刻部的一侧上,再次形成多次反射和扩散,因此本发明提供的双面阴刻的导光板的光线扩散区域明显大于现有技术中单面阴刻的导光板,本发明大大增加了光源折射率,使得光线得到更宽广的反射,提高了透光率;

而且,在上阴刻凹形槽、下阴刻凹形槽的共同作用下使得光线发生重复折射,相对于现有的导光板的光效率提高了1.5%-2.0%,从而在导光板的表面形成了摩尔纹现象(摩尔现象是一种视觉现象,在有一定间隔的物体上发生的干涉条纹),从而能够对导光板表面的异物、污渍起到很多好的遮蔽作用,即不会形成白点;因此,在生产过程中,即使存在异物、污渍,也不会影响产品的质量,所以能够大大降低了产品不良率;另外,由于经过上阴刻凹形槽、下阴刻凹形槽的双重反射,大大提供了亮度,在同等亮度要求下需要的电能更小,具有省点的优点。

进一步说明,摩尔纹形成是指两条线或两个物体之间以恒定的角度和频率发生相干的视觉效果,当人眼无法辨识两条线或者两个物体时,只能看到干涉的花纹,这种光学现象就是摩尔纹现象。如果把两块光栅距相等的光栅平行安装,并且使光栅刻痕相对保持一个较小夹角时,透过光栅组可以看到命案相间的条纹,即为摩尔纹。即上阴刻凹形槽与下阴刻凹形槽上印刻凹形槽与下凹形槽平行存在时,光栅通过上下凹形槽进行全反射,光线折射率高,人眼无法辨识形成模糊现象,摩尔纹现象模糊,可以起到遮蔽污渍等不良现象。

另外,由于光源通常布置在导光板的一侧,导光板各部位相对于光源有远近的区别,从而导致导光板各处的折射率不均匀,本发明通过多个阴刻凹点的设置,从而均匀导光板各处的折射率。

在本实施例中,导光板本体1优选的采用亚克力板,其具有较高的透光率;当然,在其他实施例中导光板也可采用其他透光率高的材料制成,此处不做限制。

在本实施例中,若干上阴刻凹形槽101顺序等间距排列,若干下阴刻凹形槽102均等间距间隔排列,上阴刻凹形槽101和下阴刻凹形槽102的延伸方向以及排列方式相同;而且,导光板本体1上表面上的上阴刻凹形槽101与导光板本体1下表面上的下阴刻凹形槽102相同且一一对应布置。本实施例通过上述结构的设置,进一步的保证了光线在导光板内进行重复反射,以提高摩尔纹现象。当然在其他实施例中,上、下阴刻凹形槽也可不等间距间隔排列,可根据具体情况进行调整,此处不做限制;上阴刻凹形槽101与下阴刻凹形槽102位置上也可不一一对应,位置可稍微偏差,此处不做限制。

在本实施例中,上阴刻凹形槽101、下阴刻凹形槽102,阴刻凹点103呈圆形。

进一步的,优选的上阴刻凹形槽101、下阴刻凹形槽102、阴刻凹点103的阴刻;在上阴刻凹形槽101、下阴刻凹形槽102、阴刻凹点103的不致密度不变的情况下,阴刻深度越大光线辉度越大、发光效率越高。

当然,在其他实施例中,上阴刻凹形槽101、下阴刻凹形槽102、阴刻凹点103的具体形状、阴刻深度也可根据具体情况调整,此处不做限制。

在本实施例中,靠近光源处的阴刻凹点的数目少于远离光源处的阴刻凹点的数目;由于远离光源处的光线的折射率低于靠近光源处的折射率,本申请通过增加远离光源处阴刻凹点的数目,从而提高了该处的折射率,从而起到均匀整块导光板折射率的效果。

进一步的,多个阴刻凹点呈不规则排列,即阴刻凹点随机排列,避免光线经过导光板后在显示器上出现直线条。当然,在其他实施例中,多个阴刻凹点呈也可呈规则排列,此处不做限制。

在本实施例中,上阴刻凹形槽、下阴刻凹形槽、阴刻凹点的阴刻深度优选的为25um。当然,在其他实施例中,上阴刻凹形槽、下阴刻凹形槽、阴刻凹点的阴刻深度也可根据具体规格需要等进行调整,此处不做限制。

实施例2

本实施例提供了一种双印刻导光板的加工方法,用于加工实施例1中所述导光板。

参照图2,具体的,导光板1采用滚压机直接压成,滚压机包括有上压滚2和下压滚3,上压滚2外表面上设置有用于压制出上阴刻凹形槽的第一凸起结构201,第一凸起结构201的形状与导光板1上表面上的微结构(即若干上阴刻凹槽形成的微结构)匹配;下压滚3的外表面上设置有用于压制出下阴刻凹形槽和阴刻凹点的第二凸起结构301,第二凸起结构301的形状与导光板1下表面上的微结构(即若干下阴刻凹形槽和阴刻凹点形成的微结构)匹配;导光板经过上压滚与下压滚之间,在加热、加压的作用下同时在导光板上下表面上压制出上阴刻凹形槽、下阴刻凹形槽和阴刻凹点。

其中,优选的滚压机滚压时的温度为100℃左右、压力为小于1000kgf左右。

其中,上压滚2与第一凸起结构201一体开模制成,下压滚3与第二凸起结构301一体激光制成。一体开模和激光成型的方式,有利于保证其上第一凸起结构、第二凸起结构的精度。

本技术领域的技术人员应理解,本发明可以以许多其他具体形式实现而不脱离其本身的精神或范围。尽管已描述了本发明的实施案例,应理解本发明不应限制为这些实施例,本技术领域的技术人员可如所附权利要求书界定的本发明的精神和范围之内作出变化和修改。

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