技术特征：
技术总结
本发明公开一种掩膜板及其制作方法、阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，为解决采用现有技术制作的显示器件中膜层的坡度角较大的问题。所述掩膜板包括透光基底和设置在所述透光基底上的至少三种不同透过率的部分透光图形，所述至少三种不同透过率的部分透光图形按照透过率大小依次排列。本发明提供的掩膜板用于制作膜层。
技术研发人员：郭永林;刘庭良;张锴;张毅
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
技术研发日：2018.07.24
技术公布日：2018.11.06