一种阵列基板及显示面板的制作方法

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及显示面板。

背景技术：

在柔性显示面板中，bps技术是将黑色矩阵和支撑柱合成一道工艺做在下基板，上基板上只有一层无图形的ito，能够有效防止由于上下基板错位产生的漏光现象。

行业内的液晶模式一般分为va模式和ips模式，由于bps技术采用va模式的液晶，在采用bps技术的显示面板中，数据走线采用透明导电金属薄膜遮光，令公共电极的电位与上基板上ito的电位一致，则液晶不反转，没有光通过，可以对数据走线进行很好的遮光。va模式的液晶面板在弯折过程中容易出现液晶分布不均导致显示效果变差，而ips模式的液晶更利于制备柔性显示屏。

然而，在采用bps技术的显示面板中，采用ips模式的液晶时，上基板无ito，无法实现电性遮光，数据走线处有混色和漏光风险。

技术实现要素：

本发明提供一种阵列基板，以解决采用ips模式的液晶时，上基板无ito，无法实现电性遮光，数据走线处有混色和漏光风险的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

一种阵列基板，其包括：

衬底；

设置在所述衬底上方的第二金属层；

设置于所述第二金属层上的钝化层；

设置在所述钝化层上的色阻层；

设置在所述色阻层上的平坦层；

其中，所述色阻层包括多个色阻单元，至少部分相邻所述色阻单元部分重叠，相邻所述色阻单元的重叠部分形成重叠单元；所述第二金属层包括间隔分布的数据走线，所述重叠单元在所述衬底上的正投影至少覆盖所述数据走线在所述衬底上的部分正投影。

进一步的，所述重叠单元在所述衬底上的正投影完全覆盖所述数据走线在所述衬底上的正投影。

进一步的，所述色阻单元按阵列排布，沿所述数据走线长度方向排布且相邻的所述色阻单元部分重叠以形成所述重叠单元。

进一步的，所述色阻单元包括第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元；

其中，所述第一色阻单元、所述第二色阻单元和所述第三色阻单元的色阻颜色互不相同，且分别对应红色、绿色和蓝色中的其中一者。

进一步的，所述重叠单元包括第一重叠单元、第二重叠单元和第三重叠单元；

其中，所述第一重叠单元包括所述第一色阻单元和所述第二色阻单元的重叠部分，所述第二重叠单元包括所述第二色阻单元和所述第三色阻单元的重叠部分，所述第三重叠单元包括所述第三色阻单元和所述第一色阻单元的重叠部分。

进一步的，所述平坦层上还设置有像素电极，所述像素电极在所述衬底上的正投影与所述数据走线在所述衬底上的正投影互不重合。

进一步的，所述阵列基板还包括：

设置于所述衬底上方的第一金属层；

设置于所述第一金属层上的绝缘层；

设置于所述绝缘层上的有源层；

其中，所述第二金属层设置于所述绝缘层上，所述钝化层覆盖所述第二金属层和所述有源层；所述平坦层上设置有光阻层，所述光阻层在所述衬底上的正投影与所述数据走线在所述衬底上的正投影互不重合。

进一步的，所述第一金属层包括栅极金属层，所述第二金属层还包括与所述有源层电性连接且位置与所述栅极金属层相对应的源漏金属层，所述光阻层包括位置与所述源漏金属层相对应的主支撑柱和副支撑柱。

进一步的，所述主支撑柱与所述源漏金属层之间也设置有重叠单元，所述重叠单元在所述衬底上的正投影至少覆盖所述源漏金属层在所述衬底上的部分正投影。

本发明还提供一种显示面板，所述显示面板包括彩膜基板以及如上述的阵列基板，所述彩膜基板与所述阵列基板之间设置有液晶层。

进一步的，所述显示面板的液晶层采用ips模式。

本发明的有益效果为：显示面板使用bps架构设计，能够有效防止显示面板弯折过程中由于阵列基板和彩膜基板发生错位引起的遮光不良，同时显示面板的液晶层采用ips模式，能够有效的防止在弯折过程中液晶盒不均导致显示面板显示效果变差，而阵列基板中利用相邻色阻单元部分重叠形成的重叠单对数据走线起到遮光效果，从而在即使不采用电学遮光的前提下，也能实现阵列基板中数据走线处的遮光设计，有利于在显示面板的弯折情况下达到良好的遮光效果，防止漏光和混色的发生。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明具体实施方式中阵列基板沿第一方向的纵截面示意图；

图2为本发明具体实施方式中阵列基板沿第二方向的纵截面示意图；

图3为本发明具体实施方式中显示面板的结构示意图。

附图标记：

10、阵列基板；11、衬底；12、缓冲层；13、第一金属层；131、栅极金属层；132、扫描走线；14、绝缘层；15、第二金属层；151、数据走线；152、源漏金属层；16、有源层；17、钝化层；18、色阻层；181、色阻单元；1811、重叠单元；19、平坦层；20、液晶层；30、彩膜基板；40、光阻层；41、黑色光阻层；42、主支撑柱；43、副支撑柱；50、像素电极。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。

本发明针对现有的采用ips模式的液晶显示面板中，上基板无ito，无法实现电性遮光，数据走线处有混色和漏光风险的技术问题。本发明可以解决上述问题。

一种阵列基板，如图1所示，所述阵列基板10包括衬底11、第二金属层15、钝化层17、色阻层18以及平坦层19。

其中，所述衬底11包括柔性衬底，所述柔性衬底的制备材料包括聚酰亚胺。

其中，所述第二金属层15设置在所述衬底11的上方，所述第二金属层15包括间隔分布的数据走线151以及源漏金属层152，所述数据走线151的长度方向为第一方向，所述源漏金属层152用以进行信号传输。

其中，所述钝化层17设置在所述第二金属层15上，所述钝化层17用以保护所述第二金属层15，防止所述第二金属层15与其它金属接触导致短路。

在一种实施方式中，所述钝化层17的制作材料包括氮化硅和氧化硅中的至少一者。

其中，所述色阻层18设置在所述钝化层17上，所述平坦层19设置于所述钝化层17上且覆盖所述色阻层18，所述色阻层18用以将穿过所述色阻层18的光过滤为目标颜色的光。

具体的，所述色阻层18包括多个色阻单元181，至少部分相邻所述色阻单元181部分重叠，相邻所述色阻单元181的重叠部分形成重叠单元1811，所述重叠单元1811在所述衬底11上的正投影至少覆盖所述数据走线151在所述衬底11上的部分正投影。

利用相邻色阻单元181部分重叠形成的重叠单元1811对数据走线151起到遮光效果，利用物理光学特性进行遮光，从而在即使不采用电学遮光的前提下，也能实现阵列基板10中数据走线151处的遮光设计，防止数据走线151处产生混色和漏光。

进一步的，所述重叠单元1811在所述衬底11上的正投影完全覆盖所述数据走线151在所述衬底11上的正投影。

进一步的，所述色阻单元181按阵列排布，沿所述数据走线151长度方向排布且相邻的所述色阻单元181部分重叠以形成所述重叠单元1811，即沿第一方向排布且相邻的所述色阻单元181部分重叠以形成所述重叠单元1811。

具体的，所述色阻单元181包括第一色阻单元、第二色阻单元和第三色阻单元。

其中，所述第一色阻单元、所述第二色阻单元和所述第三色阻单元的色阻颜色互不相同，且分别对应红色、绿色和蓝色中的其中一者。

进一步的，所述重叠单元1811包括第一重叠单元、第二重叠单元和第三重叠单元。

其中，所述第一重叠单元包括所述第一色阻单元和所述第二色阻单元的重叠部分，所述第二重叠单元包括所述第二色阻单元和所述第三色阻单元的重叠部分，所述第三重叠单元包括所述第三色阻单元和所述第一色阻单元的重叠部分。

在一实施方式中，所述第一色阻单元与所述第二色阻单元部分重叠，所述第一色阻单元与所述第二色阻单元的重叠部分同时与所述第三色阻单元重叠，从而形成重叠单元1811。对于本领域技术人员可知，红色、绿色和蓝色为三原色，而红色、绿色和蓝色三者的混合色为黑色，从而对数据走线151起到更好的遮光效果。

具体的，所述平坦层19上还设置有像素电极50，所述像素电极50在所述衬底11上的正投影与所述数据走线151在所述衬底11上的正投影互不重合。

在一种实施方式中，所述像素电极50的制作材料包括但不限于氧化铟锌。

如图2所示，所述阵列基板10还包括缓冲层12、第一金属层13、绝缘层14以及有源层16。

其中，所述缓冲层12设置在所述衬底11上，所述缓冲层12的制备材料为氮化硅和氧化硅中的一种或多种。

其中，所述第一金属层13设置在所述缓冲层12上，所述第一金属层13包括栅极金属层131和扫描走线132，所述栅极金属层131包括用于传递扫描信号的栅极线，所述扫描走线132的长度方向为第二方向。

在一实施方式中，所述第二方向与所述第一方向之间不相互平行。

在一实施方式中，所述第一方向与所述第二方向纵横交替，即，所述重叠单元1811与所述扫描走线132纵横交替分布。

其中，所述绝缘层14设置在所述缓冲层12上且覆盖所述第一金属层13，所述第二金属层15设置在所述绝缘层14上，所述绝缘层14用以防止所述第一金属层13和所述第二金属层15之间发生短路。

其中，所述有源层16设置在所述绝缘层14上且所述有源层16的位置与所述栅极金属层131相对应，所述源漏金属层152的位置与所述栅极金属层131相对应且所述源漏金属层152与所述有源层16电性连接。

所述有源层16为有源半导体层，在一实施方式中，所述有源层16的制备材料为氧化铟镓锌。

其中，所述平坦层19上设置有光阻层40，所述光阻层40在所述衬底11上的正投影与所述数据走线151在所述衬底11上的正投影互不重合。

在一实施方式中，所述光阻层40包括黑色光阻层41以及位置与所述源漏金属层152相对应的主支撑柱42和副支撑柱43。

所述主支撑柱42与所述源漏金属层152之间也设置有重叠单元1811，所述重叠单元1811在所述衬底11上的正投影至少覆盖所述源漏金属层152在所述衬底11上的部分正投影。

在一实施方式中，位于所述主支撑柱42与所述源漏金属层152之间的重叠单元1811在所述衬底11上的正投影完全覆盖所述源漏金属层152在所述衬底11上的正投影。

位于所述主支撑柱42与所述源漏金属层152之间的重叠单元1811对所述栅极金属层131起到遮光作用的同时，与所述主支撑柱42共同承担支撑作用。

基于上述阵列基板10，本发明还提供一种显示面板，如图3所示，所述显示面板包括彩膜基板30、上述的阵列基板10以及位于所述彩膜基板30与所述阵列基板10之间的液晶层20，所述显示面板的液晶层20采用ips模式。

本发明的有益效果为：本申请中的显示面板使用bps架构设计，能够有效防止显示面板弯折过程中由于阵列基板和彩膜基板发生错位引起的遮光不良，同时显示面板的液晶层采用ips模式，能够有效的防止在弯折过程中液晶盒不均导致显示面板显示效果变差，而阵列基板10中利用相邻色阻单元181部分重叠形成的重叠单对数据走线151起到遮光效果，从而在即使不采用电学遮光的前提下，也能实现阵列基板10中数据走线151处的遮光设计，有利于在显示面板的弯折情况下达到良好的遮光效果，防止漏光和混色的发生。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。