技术特征：
1.一种用于形成光学制品(1)的方法，所述方法包括：提供(100)具有相反的第一光学表面(101)和第二光学表面(102)、以及从所述第二光学表面(102)突出的至少一个微透镜(30)的基础透镜基材(10)，将所述基础透镜基材(10)放置(210)在包括第一模具部分(91)和第二模具部分(92)的模具(90)中，使得所述第一光学表面(101)设置在所述第一模具部分(91)的成型表面(91')上，并且在所述第二模具部分(92)的成型表面(92')与所述第二光学表面(102)之间限定体积(v)，用适合于形成耐磨涂层的可成型材料(m)填充(220)所述体积(v)；以及设置(300)所述可成型材料以在所述基础透镜基材(10)上形成耐磨涂层(20)，其中，所述耐磨涂层(20)封装每个微透镜(30)。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第二模具部分(92)的成型表面(92')具有与所述基础透镜基材(10)的第二光学表面(102)的基弧相同的基弧。3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述设置适合于形成耐磨涂层的材料的步骤通过uv固化或热固化或两者的组合来执行。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，用可成型材料所述填充体积包括注射所述可成型材料以填充所述体积、或将处于可延展状态的所述可成型材料插入所述体积中、并使所述模具闭合以对所述可成型材料施加压力，以便所述可成型材料散布在所述基础透镜基材上。5.根据权利要求1至4所述的方法，其中，所述可成型材料的折射率n
c
低于形成所述微透镜的材料的折射率n
m
。6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述可成型材料的折射率n
m
与形成所述微透镜的材料的折射率n
c
之间的差异大于或等于0.1。7.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，所述可成型材料的光学折射率n
c
大于形成所述微透镜的材料的光学折射率n
m
。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，进一步包括在所述耐磨涂层(20)上沉积至少一个附加涂层(50)，所述附加涂层包括聚氨酯涂层、抗反射涂层、光致变色涂层、防污涂层、防雾涂层、可着色涂层、自修复涂层、防雨涂层、防静电涂层、抗uv涂层或抗蓝光涂层。9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述基础透镜基材(10)是半成品透镜，并且所述方法进一步包括对获得的涂布后的透镜进行表面处理和/或修整。10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述耐磨涂层(20)具有与所述基础透镜基材接触的第一表面(22)和与所述第一表面相反的第二表面(21)，其中，所述基础透镜基材的每个微透镜(30)是凸面的，所述耐磨涂层的第一表面(22)是凹面的，并且所述耐磨涂层的第二表面(21)是凸面的。11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，提供所述基础透镜基材(10)包括：将主模具(80)的第一和第二主模具部分(81，82)从打开位置移动到闭合位置，在所述闭合位置，所述主模具部分协作以限定第一模腔，每个所述主模具部分限定一个成型表面；将第一可成型材料引入所述第一模腔中；设置所述第一可成型材料以形成具有所述相反的第一光学表面和第二光学表面的所述基础透镜基材，其中，所述第二主模具部分的成型表面限定至少一个凹槽，所述凹槽适合
于形成从其第二光学表面突出的至少一个微透镜。12.一种光学制品(1)，包括：-基础透镜基材(10)，具有两个相反的主表面(101，102)，所述基础透镜基材包括从所述主表面(102)之一突出的至少一个微透镜(30)，以及-耐磨涂层(20)，至少覆盖所述微透镜(30)从其突出的主表面(102)，使得所述耐磨涂层封装每个微透镜(30)，其中，所述光学制品是通过实现根据前述权利要求中任一项所述的方法获得的。13.根据前一项权利要求所述的光学制品(1)，其中，所述耐磨涂层(20)的厚度在所述突出的微透镜(30)处最小。14.根据权利要求12或13中任一项所述的光学制品，其中，所述耐磨涂层在所述突出的微透镜(30)处的最小厚度低于或等于2μm，优选地包括在1μm与2μm之间。15.根据权利要求12至14中任一项所述的光学制品(1)，其中，每个突出的微透镜(30)的沿垂直于承载所述微透镜的表面(102)的方向测量的尺寸小于0.1mm，优选地包括在10μm与20μm之间。
技术总结
披露了一种用于形成光学制品的方法，包括：提供具有相反的第一光学表面和第二光学表面、以及从第二光学表面突出的至少一个微透镜的基础透镜基材(10)，将基础透镜基材放置在包括第一模具部分(91)和第二模具部分(92)的模具(90)中，使得第一光学表面设置在第一模具部分(91)的成型表面上，并且在第二模具部分的成型表面与第二光学表面之间限定体积，用适合于形成耐磨涂层的可成型材料填充该体积；以及设置可成型材料以在基础透镜基材(10)上形成耐磨涂层(20)，其中，耐磨涂层封装每个微透镜(30)。(30)。(30)。
技术研发人员：蒋培奇 J
受保护的技术使用者：依视路国际公司
技术研发日：2021.04.15
技术公布日：2022/11/25