技术特征：
1.一种带电粒子束描绘装置，具备：定位偏转器，调整照射到描绘对象的基板上的带电粒子束的照射位置；固定偏转器，配置于比所述定位偏转器靠所述带电粒子束的行进方向的下游侧的位置，并被固定了偏转量；焦点校正透镜，配合于所述基板的表面高度地进行所述带电粒子束的焦点校正；以及物镜，将所述带电粒子束的焦点对焦。2.根据权利要求1所述的带电粒子束描绘装置，所述焦点校正透镜是静电透镜，相对于所述基板的表面在正的电压范围内动作。3.根据权利要求1所述的带电粒子束描绘装置，所述固定偏转器具备静电型偏转器，构成所述静电型偏转器的多个电极各自被施加的电压上被加上了相对于所述基板的表面为正的共用电压。4.根据权利要求3所述的带电粒子束描绘装置，所述焦点校正透镜是静电透镜，所述正的共用电压大于等于被施加到所述焦点校正透镜上的电压。5.根据权利要求4所述的带电粒子束描绘装置，所述多个电极中的对置的一对电极中的一个电极被施加所述共用电压的2倍的电压，将向另一个电极施加的施加电压设为零。6.根据权利要求1所述的带电粒子束描绘装置，所述焦点校正透镜配置于比所述定位偏转器靠所述带电粒子束的所述行进方向的下游侧的位置。7.根据权利要求6所述的带电粒子束描绘装置，所述固定偏转器配置于比所述焦点校正透镜靠所述带电粒子束的所述行进方向的下游侧的位置。8.根据权利要求6所述的带电粒子束描绘装置，所述固定偏转器配置于比所述焦点校正透镜靠所述带电粒子束的所述行进方向的上游侧的位置。9.根据权利要求1所述的带电粒子束描绘装置，所述固定偏转器由多级偏转器构成。10.根据权利要求9所述的带电粒子束描绘装置，所述固定偏转器包含静电型偏转器以及磁场型偏转器。11.根据权利要求1所述的带电粒子束描绘装置，所述固定偏转器具备静电型偏转器，在构成所述静电型偏转器的多个电极的至少一个电极的射束通过区域侧的表面设有凹部。12.根据权利要求1所述的带电粒子束描绘装置，还具备设于所述定位偏转器与所述固定偏转器之间的孔径板。13.根据权利要求12所述的带电粒子束描绘装置，在所述孔径板的所述带电粒子束的行进方向下游侧的面设有凹部。
技术总结
本发明提供能够同时解决二次电子的空间滞留与偏转器电极带电引起的射束位置的变动的带电粒子束描绘装置。本实施方式的带电粒子束描绘装置具备：调整照射到描绘对象的基板的带电粒子束的照射位置的定位偏转器；固定偏转器，配置于比所述定位偏转器靠所述带电粒子束的行进方向的下游侧的位置，被固定了偏转量；配合于所述基板的表面高度地进行所述带电粒子束的焦点校正的焦点校正透镜以及将所述带电粒子束的焦点对焦的物镜。电粒子束的焦点对焦的物镜。电粒子束的焦点对焦的物镜。
技术研发人员：森田博文 车矢高尚
受保护的技术使用者：纽富来科技股份有限公司
技术研发日：2022.04.12
技术公布日：2022/10/18