技术特征：
1.一种渐隐式光刻工艺，其特征在于：包括如下步骤：s1、根据需求利用相软件做出对应的图案；s2、利用相软件中的分离功能将步骤s1中得到的图案中的铂金部分和彩色部分分离，得到两幅图，一幅图按照光刻机铂金系统所需存成对应格式图案，另一幅存成普通光刻系统所需格式图案；s3、将步骤s2中得到的两幅图信息分别输入对应的光刻系统中进行光刻；s4、待步骤s3中两幅图光刻完成后，取出胶板，采用显影液显影、烘干、电铸处理，得到具有渐隐式光刻母版；s5、根据印刷载体，将步骤s4中得到的光刻母片的图案转印至定位转移膜、电化铝、复合纸或薄膜上即可。2.根据权利要求1所述的一种渐隐式光刻工艺，其特征在于：步骤s3中先刻铂金部分，将光刻机坐标调至初始坐标x＝0，y＝0处，等待此部分光刻完成，完成后不要动版，再打开普通光刻系统，将光刻起始坐标调至普通光刻部分图案起始点x＝10，y＝10处，点击开始，等待光刻完成即可进入下一步。3.根据权利要求1所述的一种渐隐式光刻工艺，其特征在于：所述显影液包括如下重量份的原料：主显影剂10-20份、抗氧剂1-3份、edta4-8份、四氢呋喃1-5份、碳酸钠1-3份、乙二醇1-3份、第一表面活性剂1-3份、第二表面活性剂0.5-1.0份和溶剂2-6份。4.根据权利要求3所述的一种渐隐式光刻工艺，其特征在于：所述第二表面活性剂为具有以下通式所示的重复单元聚合物，其中r表示氢原子或甲基。5.根据权利要求3所述的一种渐隐式光刻工艺，其特征在于：所述主显影剂是由氢氧化钠、氢氧化钾和硅酸钠按照重量比为0.8-1.2:0.4-0.8:0.6-1.0组成的混合物。6.根据权利要求3所述的一种渐隐式光刻工艺，其特征在于：所述抗氧剂为l-抗坏血酸、d-异抗坏血酸、抗坏血酸钠中的一种或多种。7.根据权利要求3所述的一种渐隐式光刻工艺，其特征在于：所述第一表面活性剂为硅醇类非离子表面活性剂和阴离子表面活性剂按照重量比为0.8-1.2:0.6-1.0组成的混合物。8.根据权利要求3所述的一种渐隐式光刻工艺，其特征在于：所述溶剂为苯甲醇、乙二醇苯醚、丙二醇苯醚中的一种或多种。9.根据权利要求3-8任一项所述的一种渐隐式光刻工艺，其特征在于：所述显影液通过如下步骤制得：1)按照重量份，将主显影剂、edta、四氢呋喃、碳酸钠、乙二醇和溶剂混合搅拌溶解，得到混合溶液a，备用；2)将第一表面活性剂、第二表面活性剂和抗氧剂加入步骤1)中得到的混合溶液a中并加热至25-35℃搅拌均匀，得到显影液。
技术总结
本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种渐隐式光刻工艺，包括如下步骤：S1、根据需求做出图案；S2、将图案中的铂金部分和彩色部分分离，得到两幅图，一幅图按照光刻机铂金系统所需存成对应格式图案，另一幅存成普通光刻系统所需格式图案；S3、将两幅图分别输入对应的光刻系统中进行光刻；S4、待光刻完成后取出胶板，采用显影液显影、烘干、电铸处理，得到光刻母版；S5、根据印刷载体，将光刻母片的图案转印至定位转移膜、电化铝、复合纸或薄膜上。本发明的隐式光刻工艺完美的将普通光刻技术和铂金光刻技术融合起来，使得到的产品防伪性能更强，应用范围更广，铂金光刻有靓丽的铂金光泽，展示效果突出，铂金光刻纹路细腻，解析度高。解析度高。解析度高。
技术研发人员：曹伟 彭华桂 邓建发
受保护的技术使用者：虎彩印艺股份有限公司
技术研发日：2022.06.14
技术公布日：2022/10/13