技术特征：
1.一种含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物，包含：有机溶剂，以及被至少一个羟基取代的七角环化合物，其中，所述七角环化合物在所述环中具有至少两个双键。2.根据权利要求1所述的含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物，其中，所述七角环化合物被一个或两个羟基取代。3.根据权利要求1所述的含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物，其中，所述七角环化合物具有三个双键。4.根据权利要求1所述的含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物，其中，所述七角环化合物由化学式1表示：[化学式1]其中，在化学式1中，r1至r6各自独立地是氢、卤素、羟基、氨基、取代或未取代的c1至c30胺基、取代或未取代的c1至c10烷基、或取代或未取代的c6至c20芳基，并且r1至r6中的至少一个是羟基。5.根据权利要求1所述的含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物，其中，所述七角环化合物选自第1组的化学式：[第1组]其中，在第1组中，r1至r6各自独立地是氢、卤素、氨基、取代或未取代的c1至c30胺基、取代或未取代的c1至c10烷基、或取代或未取代的c6至c20芳基。6.根据权利要求1所述的含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物，其中，所述七角环化合物是2-羟基-2,4,6-环庚三烯-1-酮。
7.根据权利要求1所述的含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物，其中，50wt％至99.99wt％的所述有机溶剂；以及0.01wt％至50wt％的所述七角环化合物。8.根据权利要求1所述的含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物，其中，所述含金属的光致抗蚀剂包括选自烷基锡氧代基团和烷基锡羧基的至少一种金属化合物。9.根据权利要求1所述的含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物，其中，所述含金属的光致抗蚀剂包括由化学式3表示的金属化合物：[化学式3]其中，在化学式3中，r7是取代或未取代的c1至c20烷基、取代或未取代的c3至c20环烷基、取代或未取代的c2至c20烯基、取代或未取代的c2至c20炔基、取代或未取代的c6至c30芳基、取代或未取代的c6或c30芳烷基或-r
a-o-r
b
，其中，r
a
是取代或未取代的c1至c20亚烷基，并且r
b
是取代或未取代的c1至c20烷基，r8至r
10
各自独立地是-or
c
或-oc(＝o)r
d
，r
c
是取代或未取代的c1至c20烷基、取代或未取代的c3至c20环烷基、取代或未取代的c2至c20烯基、取代或未取代的c2至c20炔基、取代或未取代的c6至c30芳基或它们的组合，并且r
d
是氢、取代或未取代的c1至c20烷基、取代或未取代的c3至c20环烷基、取代或未取代的c2至c20烯基、取代或未取代的c2至c20炔基、取代或未取代的c6至c30芳基或它们的组合。10.一种形成图案的方法，包括：将含金属的光致抗蚀剂组合物涂覆在基板上；沿着所述基板的边缘涂覆用于从所述含金属的光致抗蚀剂去除边缘珠的组合物；干燥和加热所得物，以在所述基板上形成含金属的光致抗蚀剂膜；将所述含金属的光致抗蚀剂膜曝光；以及使用上述权利要求1至9中任一项所述的含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物对其进行显影。
技术总结
本发明提供了一种含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物，以及包括使用其进行显影步骤的形成图案的方法。该含金属的光致抗蚀剂显影剂组合物包含有机溶剂和被至少一个羟基(-OH)取代的七角环化合物，其中七角环化合物在环中具有至少两个双键。至少两个双键。至少两个双键。
技术研发人员：许伦旼 文炯朗 李旻映 金旼秀 金荣权 金宰贤 禹昌秀 崔正敏 高武铉 金贞儿 都星安 裵相元 韩勋 洪锡九
受保护的技术使用者：三星电子株式会社
技术研发日：2022.07.07
技术公布日：2023/1/13