绘制装置的制作方法

1.本发明涉及对基板进行绘制的绘制装置。


背景技术：

2.以往，通过对在半导体基板、印刷基板、或者有机el显示装置或液晶显示装置用的玻璃基板等(以下称为“基板”。)上形成的感光材料照射光来进行图案的绘制。
3.在进行该绘制的绘制装置中，在朝向基板射出光的绘制头中，若投影光学系统等的温度发生变动，则倍率、焦点位置及绘制位置等有可能发生变动。因此，在日本专利第6117594号公报(文献1)的绘制装置中公开了以下技术：在将绘制部的多个绘制头覆盖的壳体内配置从温度调节机延伸的温度调节用的空气管道，从该空气管道的吹出口向壳体内供给温度调节用的空气，由此谋求多个绘制头的温度维持。
4.近年来，为了提高绘制装置的生产能力，提出了以下方案：在1台绘制装置内设置2个载台和1个绘制部，在针对一方载台上的基板进行绘制的过程中，进行另一方载台上的基板的更换或对准等。
5.在这样的绘制装置中，若进行文献1那样的绘制头的温度调节，则在使绘制部从一方载台的上方向另一方载台的上方移动时，温度调节用的空气管道会一边进行形状变化一边追随绘制部。但是，若空气管道发生变形，则从上述吹出口向绘制部的壳体内送出的空气的流动紊乱，产生该空气的流量损失或流量分布的不均，因此存在未恰当地进行绘制头的温度调节的隐忧。


技术实现要素：

6.本发明面向对基板进行绘制的绘制装置，目的在于良好地调节沿着头移动路径移动的绘制头的温度。
7.本发明的优选的一个方案的绘制装置具备：基板保持部，其将基板以水平状态保持；基板移动机构，其使上述基板保持部沿着基板移动路径水平移动；头单元，其具有配置于上述基板保持部的上方且对上述基板照射光而绘制图案的绘制头、和在内部收容上述绘制头的头罩；绘制头移动机构，其使上述头单元沿着在俯视下与上述基板移动路径交叉的头移动路径在第1头位置与第2头位置之间水平移动；以及气体送出部，其沿着上述头移动路径配置，在上述头单元位于上述第1头位置及上述第2头位置中的任一位置的情况下，都能够向上述头罩的内部供给温度调节后的气体。上述气体送出部具备：供上述气体流动的气体流路，其沿着上述头移动路径从上述第1头位置延伸到上述第2头位置，并且供所述气体流动；气体送出口，其设于上述气体流路的与上述头单元相对的部位，朝向上述头罩的气体流入口送出上述气体；以及送出位置切换部，其将上述气体送出口的位置在与位于上述第1头位置的上述头单元相对的第1送出位置、和与位于上述第2头位置的上述头单元相对的第2送出位置之间进行切换。
8.根据该绘制装置，能够良好地调节沿着头移动路径移动的绘制头的温度。
9.优选的是，在上述气体流路设有从上述第1送出位置到上述第2送出位置的开口部。上述送出位置切换部具备开闭部，该开闭部对上述开口部中的、与位于上述第1头位置的上述头单元相对的第1区域、和与位于上述第2头位置的上述头单元相对的第2区域分别进行开闭。通过利用上述开闭部使上述开口部的上述第1区域打开并且使上述第2区域封闭，从而上述气体送出口的位置成为上述第1送出位置。通过利用上述开闭部使上述开口部的上述第1区域封闭并且使上述第2区域打开，从而上述气体送出口的位置成为上述第2送出位置。
10.优选的是，上述气体送出口以能够在上述气体流路的与上述头单元相对的部位处沿着上述头移动路径移动的方式设置，并通过上述送出位置切换部而与上述头单元在上述第1头位置与上述第2头位置之间的移动同步地在上述第1送出位置与上述第2送出位置之间移动。
11.优选的是，上述气体送出口具备分布在上述气体流路的与上述头单元相对的部位的多个送出孔。
12.优选的是，上述气体送出口与上述绘制头的投影光学系统相对，并且避开与上述投影光学系统的宽度方向中心相对的位置而配置在该位置的宽度方向两侧。
13.优选的是，上述绘制装置还具备：对上述绘制头的温度进行测定的温度传感器；和基于来自上述温度传感器的输出对向上述气体送出部供给的上述气体的温度进行调节的温度调节部。
14.优选的是，上述头单元还具备其他绘制头，该其他绘制头在上述头罩内与上述绘制头相邻并且与上述绘制头一起沿着上述头移动路径排列，对上述基板照射光而绘制图案。上述气体送出口具备：与上述绘制头相对的送出区域；和相对于上述送出区域隔开间隔并与上述其他绘制头相对的其他送出区域。
15.优选的是，上述头单元还具备其他绘制头，该其他绘制头在上述头罩内与上述绘制头相邻并且与上述绘制头一起沿着上述头移动路径排列，对上述基板的上侧的主面照射光而绘制图案。在上述头罩内的与上述气体流入口相对的区域设有将上述绘制头与上述其他绘制头之间隔开的分隔壁。
16.优选的是，上述绘制装置还具备：其他基板保持部，其与上述基板保持部相邻地配置，并将基板以水平状态保持；和其他基板移动机构，其在与上述基板移动路径交叉的方向上与上述基板移动机构并排配置，使上述其他基板保持部沿着与上述基板移动路径平行的其他基板移动路径水平移动。上述第1头位置是在上述基板保持部的上方对上述基板保持部上的基板照射光的第1绘制位置。上述第2头位置是在上述其他基板保持部的上方对上述其他基板保持部上的基板照射光的第2绘制位置。
17.上述的目的及其他目的、特征、方式及优点通过以下参照添加的附图进行的本发明的详细说明而得以明确。
附图说明
18.图1是表示一个实施方式的绘制装置的立体图。
19.图2是表示计算机的构成的图。
20.图3是表示控制部的功能的框图。
21.图4是头单元的主视图。
22.图5是头单元的侧视图。
23.图6是示意性地表示气体送出部及与气体送出部相关联的构成的图。
24.图7是头单元及气体送出部的侧视图。
25.图8是气体流路的后视图。
26.图9是气体流路及头单元的剖视图。
27.图10是气体流路的后视图。
28.图11是头单元的主视图。
29.图12是表示气体流路的其他优选一例的后视图。
30.图13是表示气体流路的其他优选一例的后视图。
31.图14是气体流路及头单元的剖视图。
32.附图标记说明
[0033]1ꢀꢀ
绘制装置
[0034]
5、5a、5b
ꢀꢀ
气体送出部
[0035]9ꢀꢀ
基板
[0036]
21a
ꢀꢀ
第1载台
[0037]
21b
ꢀꢀ
第2载台
[0038]
22a
ꢀꢀ
第1移动机构
[0039]
22b
ꢀꢀ
第2移动机构
[0040]
41
ꢀꢀ
绘制头
[0041]
42
ꢀꢀ
绘制头移动机构
[0042]
43
ꢀꢀ
头单元
[0043]
44
ꢀꢀ
头罩
[0044]
51、51a、51b
ꢀꢀ
气体流路
[0045]
53
ꢀꢀ
开口部
[0046]
54、54b
ꢀꢀ
送出位置切换部
[0047]
55
ꢀꢀ
温度传感器
[0048]
56、56a、56b
ꢀꢀ
气体送出口
[0049]
57
ꢀꢀ
温度调节部
[0050]
91
ꢀꢀ
(基板的)上表面
[0051]
413
ꢀꢀ
投影光学系统
[0052]
441
ꢀꢀ
气体流入口
[0053]
443
ꢀꢀ
分隔壁
[0054]
531
ꢀꢀ
送出孔
[0055]
534、535
ꢀꢀ
送出区域
[0056]
541
ꢀꢀ
开闭部
具体实施方式
[0057]
图1是表示本发明的一个实施方式的绘制装置1的立体图。绘制装置1是向基板9上
的感光材料照射空间调制后的大致光束状的光、通过使该光的照射区域在基板9上扫描而进行图案的绘制的双载台型的直接绘制装置。在图1中，将彼此正交的3个方向用箭头示出为x方向、y方向及z方向。在图1所示的例子中，x方向及y方向是彼此垂直的水平方向，z方向是铅垂方向。在其他的附图中也是同样的。
[0058]
基板9是例如俯视下为大致矩形状的板状部件。基板9例如是印刷基板。在基板9的(+z)侧的主面(以下，也称为“上表面91”)上，在铜层上设有由感光材料形成的抗蚀膜。在绘制装置1中，在基板9的该抗蚀膜上绘制(即形成)电路图案。此外，基板9的种类及形状等可以各种各样地变更。
[0059]
绘制装置1具备第1搬送机构2a、第2搬送机构2b、拍摄部3、绘制部4、气体送出部5、框架7和控制部10。控制部10控制第1搬送机构2a、第2搬送机构2b、拍摄部3、绘制部4及气体送出部5。
[0060]
图2是表示控制部10所具备的计算机100的构成的图。计算机100是具备处理器101、存储器102、输入输出部103和总线104的普通计算机。总线104是将处理器101、存储器102及输入输出部103连接的信号电路。存储器102存储程序及各种信息。处理器101按照存储于存储器102的程序等，利用存储器102等并且执行各种各样的处理(例如，数值计算、图像处理)。输入输出部103具备受理来自操作者的输入的键盘105及鼠标106、以及显示来自处理器101的输出等的显示器107。此外，控制部10也可以是可编程逻辑控制器(plc：programmable logic controller)或电路基板等，还可以是这些部分与1个以上的计算机的组合。
[0061]
图3是表示由计算机100实现的控制部10的功能的框图。在图3中，也一并示出控制部10以外的结构。控制部10具备存储部111、拍摄控制部112、检测部113、绘制控制部114、送风控制部115和温度控制部116。存储部111主要由存储器102实现，预先存储预定在基板9上绘制的图案的数据(即，绘制用数据)等各种信息。
[0062]
拍摄控制部112、检测部113、绘制控制部114、送风控制部115及温度控制部116主要由处理器101实现。拍摄控制部112通过控制拍摄部3、第1搬送机构2a及第2搬送机构2b，使拍摄部3拍摄第1搬送机构2a及第2搬送机构2b上的基板9的上表面91并获取图像。该图像被发送到存储部111并保存。检测部113使用该图像来检测第1搬送机构2a上的基板9的位置、以及第2搬送机构2b上的基板9的位置。绘制控制部114基于由检测部113检测到的基板9的位置、以及预先存储在存储部111中的绘制用数据等，控制绘制部4、第1搬送机构2a及第2搬送机构2b，由此，使绘制部4针对第1搬送机构2a及第2搬送机构2b上的基板9进行绘制。送风控制部115控制基于气体送出部5进行的气体的送出。温度控制部116通过控制后述的温度调节部57，从而控制从气体送出部5送出的气体的温度。
[0063]
图1所示的框架7是安装绘制装置1的各结构的主体基座部。框架7具备大致长方体状的基台71、和跨越基台71的门形的第1门架部72及第2门架部73。第2门架部73与第1门架部72的(+y)侧接近地配置。在以下的说明中，也将第1门架部72及第2门架部73统称为“门架部74”。门架部74相对于基台71相对地固定。在基台71上安装第1搬送机构2a及第2搬送机构2b。第1门架部72支承拍摄部3。第2门架部73支承绘制部4。框架7载置于图示省略的台座上。
[0064]
第1搬送机构2a及第2搬送机构2b分别是在拍摄部3及绘制部4的下方(即，(－z)侧)保持及移动基板9的机构。第2搬送机构2b与第1搬送机构2a的(+x)侧相邻地配置。第1搬
送机构2a和第2搬送机构2b具有大致相同的构造。
[0065]
第1搬送机构2a具备第1载台21a和第1移动机构22a。第1载台21a是从下侧保持大致水平状态的基板9的大致平板状的基板保持部。第1载台21a例如是吸附基板9的下表面并进行保持的真空卡盘。第1载台21a也可以具有真空卡盘以外的构造。载置于第1载台21a上的基板9的上表面91相对于z方向(即，上下方向)大致垂直，与x方向及y方向大致平行。
[0066]
第1移动机构22a是使基板9与第1载台21a一起沿着与y方向平行的基板移动路径大致水平移动(即，沿与基板9的上表面91大致平行的方向移动)的基板移动机构。在以下的说明中，将基于第1移动机构22a的基板9的上述基板移动路径也称为“第1基板移动路径”。第1移动机构22a使支承于导轨221a上的第1载台21a在拍摄部3及绘制部4的下方沿着导轨221a在y方向上直线移动。由此，保持于第1载台21a的基板9在y方向上移动。在以下的说明中，将y方向也称为“基板移动方向”。第1移动机构22a的驱动源例如是直线伺服马达或在滚珠丝杆安装有马达的部件。第1移动机构22a的构造也可以各种各样地变更。
[0067]
第2搬送机构2b具备第2载台21b和第2移动机构22b。第2载台21b与作为基板保持部的第1载台21a的侧方(即，(+x)侧)相邻地配置，是从下侧保持大致水平状态的基板9的大致平板状的另一基板保持部。第2载台21b的上表面与第1载台21a的上表面在上下方向(即，z方向)上配置在大致相同的高度。第2载台21b例如是吸附基板9的下表面并进行保持的真空卡盘。第2载台21b也可以具有真空卡盘以外的构造。载置于第2载台21b上的基板9的上表面91相对于z方向大致垂直，与x方向及y方向大致平行。保持于第2载台21b的基板9的上表面91与保持于第1载台21a的基板9的上表面91位于上下方向的大致相同高度(即，z方向的大致相同位置)。
[0068]
第2移动机构22b是在与基板移动方向(即，y方向)交叉的方向上与第1移动机构22a并排配置的另一基板移动机构。在图1所示的例子中，第1移动机构22a和第2移动机构22b在x方向上并排配置，第2移动机构22b与第1移动机构22a的(+x)侧的侧方相邻。第1移动机构22a和第2移动机构22b位于上下方向的大致相同高度。第2移动机构22b使基板9与第2载台21b一起沿着与第1基板移动路径大致平行的另一基板移动路径(以下，也称为“第2基板移动路径”)大致水平移动。
[0069]
第2移动机构22b使支承于导轨221b上的第2载台21b在拍摄部3及绘制部4的下方沿着导轨221b在y方向(即，基板移动方向)上直线移动。由此，保持于第2载台21b的基板9在y方向上移动。基于第2移动机构22b的第2载台21b的移动方向与基于第1移动机构22a的第1载台21a的移动方向大致平行。第2移动机构22b的驱动源例如是线性伺服马达或在滚珠丝杆安装有马达的部件。第2移动机构22b的构造也可以各种各样地变更。
[0070]
第1基板移动路径及第2基板移动路径是相对于框架7的基台71固定的路径。第1基板移动路径例如以上述的第1移动机构22a的导轨221a为基准而确定。第2基板移动路径例如以上述的第2移动机构22b的导轨221b为基准而确定。此外，第1基板移动路径及第2基板移动路径也可以以其他结构为基准而确定。
[0071]
第1移动机构22a及第2移动机构22b从与第2门架部73相比靠(+y)侧的位置向(－y)方向延伸，从支承于第2门架部73的绘制部4的下方、以及支承于第1门架部72的拍摄部3的下方通过，并从第1门架部72向(－y)侧突出。第1门架部72与第1移动机构22a及第2移动机构22b的y方向上的中央部在y方向上位于大致相同的位置。
[0072]
在绘制装置1中，在第1载台21a与第1门架部72相比位于(－y)侧的状态下，进行基板9相对于第1载台21a的搬入搬出。另外，在第2载台21b与第1门架部72相比位于(－y)侧的状态下，进行基板9相对于第2载台21b的搬入搬出。
[0073]
如上所述，第1门架部72及第2门架部73跨越第1搬送机构2a及第2搬送机构2b而设置。第1门架部72具备在第1搬送机构2a及第2搬送机构2b的x方向的两侧沿z方向延伸的2根支柱部、和将2根支柱部的上端部连接的梁部。该梁部在第1搬送机构2a及第2搬送机构2b的上方沿x方向延伸。第1门架部72的2根支柱部在(－z)侧的端部与基台71连接。第2门架部73具备在第1搬送机构2a及第2搬送机构2b的x方向的两侧沿z方向延伸的2根支柱部、和将2根支柱部的上端部连接的梁部。该梁部在第1搬送机构2a及第2搬送机构2b的上方沿x方向延伸。第2门架部73的2根支柱部在(－z)侧的端部与基台71连接。
[0074]
拍摄部3具备多个(在图1所示的例子中为2个)拍摄头31、和拍摄头移动机构32。多个拍摄头31沿x方向排列，能够移动地安装于第1门架部72的梁部。拍摄头移动机构32安装于梁部，使多个拍摄头31沿着梁部在x方向上移动。拍摄头移动机构32的驱动源例如是线性伺服马达或在滚珠丝杆安装有马达的部件。在图1所示的例子中，2个拍摄头31在x方向上的间隔能够变更。此外，在拍摄部3中，拍摄头31的数量也可以是1个，还可以是3个以上。
[0075]
各拍摄头31是具备图示省略的拍摄传感器及光学系统的相机。各拍摄头31例如是获取二维图像的面阵相机(area camera)。拍摄传感器例如具备以矩阵状排列的多个ccd(charge coupled device，电荷耦合元件)等元件。在各拍摄头31中，从图示省略的光源被引导到基板9的上表面91的照明光的反射光经由光学系统被引导至拍摄传感器。拍摄传感器接收来自基板9的上表面91的反射光，获取大致矩形状的拍摄区域的图像。作为上述光源，能够利用led(light emitting diode，发光二极管)等各种各样的光源。此外，各拍摄头31也可以是线阵相机(line camera)等其他种类的相机。
[0076]
在绘制装置1中，通过拍摄头移动机构32使多个拍摄头31在第1搬送机构2a的上方的第1拍摄位置与第2搬送机构2b的上方的第2拍摄位置之间移动。在图1中，多个拍摄头31位于第1拍摄位置。多个拍摄头31在第1拍摄位置处对第1载台21a上的基板9的上表面91进行拍摄。另外，多个拍摄头31在第2拍摄位置处对第2载台21b上的基板9的上表面91进行拍摄。
[0077]
绘制部4具备头单元43和绘制头移动机构42。头单元43能够移动地安装于第2门架部73的梁部。绘制头移动机构42安装于该梁部，使头单元43沿着该梁部在x方向上移动。绘制头移动机构42的驱动源例如是线性伺服马达或在滚珠丝杆安装有马达的部件。
[0078]
图4从(－y)侧观察头单元43的主视图。图5是从(－x)侧观察头单元43的侧视图。在图5中，以截面示出后述的头罩44，用实线绘出头罩44内部的结构。
[0079]
头单元43具备绘制头41和头罩44。在图4所示的例子中，头单元43具备6个绘制头41。6个绘制头41配置于y方向及z方向的大致相同位置，与x方向大致平行地相邻排列。头罩44将6个绘制头41收容在内部。头罩44是由将6个绘制头41的周围包围的薄板部件构成的壳体。各绘制头41及头罩44与第1载台21a及第2载台21b(参照图1)相比配置于上侧。此外，收容于头罩44内部的绘制头41的数量也可以是1个，还可以在2个以上的范围内各种各样地变更。
[0080]
多个绘制头41分别对基板9照射光而绘制图案。多个绘制头41具有大致相同的构
造。各绘制头41具备照明光学系统411、空间光调制元件412、投影光学系统413及调焦用传感器415。照明光学系统411将来自图示省略的光源的光引导至空间光调制元件412。此外，在图4中，仅图示了照明光学系统411的一部分结构。作为光源，能够利用ld(laser diode，激光二极管)等各种各样的光源。空间光调制元件412对来自照明光学系统411的光进行调制并引导至投影光学系统413。作为空间光调制元件412，能够利用dmd(digital micro mirror device，数字微镜器件)或glv(grating light valve：光栅光阀)(silicon light machines(森尼维尔、加利福尼亚)的注册商标)等各种各样的元件。投影光学系统413将由空间光调制元件412调制后的光向基板9的上表面91引导。调焦用传感器415配置在与设于投影光学系统413下端部的物镜414在上下方向上大致相同的位置，用于绘制头41的焦点调节。
[0081]
在图4及图5所示的例子中，各绘制头41的照明光学系统411、空间光调制元件412、及投影光学系统413的大部分收容于头罩44的内部，物镜414的下部及调焦用传感器415从头罩44的下端向下方突出。此外，在头单元43中，也可以是，绘制头41的结构整体收容于头罩44的内部。
[0082]
在头罩44的(－y)侧的面设有沿x方向延伸的大致矩形的1个开口441。如后所述，开口441是供从气体送出部5送出的气体流入的流入口，在以下的说明中，也称为“气体流入口441”。
[0083]
在图4及图5所示的例子中，气体流入口441在设于头罩44的(－y)侧的面且沿x方向延伸的槽部442内设于与y方向大致垂直的面。槽部442是使头罩44的(－y)侧的面的一部分向(+y)方向凹陷而成的，是与x方向大致平行地延伸的大致长方体状的空间。另外，气体流入口441与沿x方向并排的6个绘制头41在y方向上相对。气体流入口441的x方向上的长度比设置6个绘制头41的区域的x方向上的长度长。在图4及图5所示的例子中，气体流入口441与6个绘制头41的投影光学系统413在y方向上相对。
[0084]
在图1所示的绘制装置1中，头单元43(即，多个绘制头41及头罩44)在第1搬送机构2a的上方的第1绘制位置、与第2搬送机构2b的上方的第2绘制位置之间，通过绘制头移动机构42而沿着规定的移动路径移动。在图1中，头单元43位于第2绘制位置。头单元43的该移动路径(以下，也称为“头移动路径”)在从上述的第1基板移动路径及第2基板移动路径向上方隔开间隔的位置与x方向大致平行地延伸，在俯视下与第1基板移动路径及第2基板移动路径大致垂直地交叉。另外，上述的多个绘制头41(参照图4)沿着该头移动路径排列。头移动路径是固定于框架7的第2门架部73的路径，例如以设于第2门架部73的导轨为基准而确定。此外，头移动路径也可以以其他结构为基准而确定。
[0085]
在头单元43位于第1绘制位置的状态下，多个绘制头41(参照图4)在第1载台21a上的基板9的上表面91绘制图案。另外，在头单元43位于第2绘制位置的状态下，多个绘制头41在第2载台21b上的基板9的上表面91绘制图案。在以下的说明中，将第1绘制位置及第2绘制位置分别也称为“第1头位置”及“第2头位置”。
[0086]
当在第1绘制位置处绘制图案时，从绘制部4的多个绘制头41朝向下方的第1载台21a上的基板9照射调制后(即，空间调制后)的光。而且，与该光的照射并行地，通过第1移动机构22a使基板9沿y方向(即基板移动方向)水平移动。由此，来自多个绘制头41的光的照射区域在基板9上沿y方向被扫描，针对基板9进行图案(例如电路图案)的绘制。第1移动机构
22a是使来自各绘制头41的光的照射区域在基板9上沿y方向移动的扫描机构。
[0087]
在图1所示的例子中，针对基板9的绘制以所谓的单程(single-pass，one-pass)方式进行。具体而言，通过第1移动机构22a，第1载台21a相对于多个绘制头41在y方向上相对移动，来自多个绘制头41的光的照射区域在基板9的上表面91上沿y方向仅扫描1次。由此，针对基板9的绘制完成。此外，在绘制装置1中，也可以利用反复进行第1载台21a向y方向的移动和头单元43向x方向的步进移动的多程方式来进行针对基板9的绘制。第2绘制位置处的图案的绘制除了第1载台21a及第1移动机构22a变更为第2载台21b及第2移动机构22b这一点之外，与上述的第1绘制位置处的图案的绘制是同样的。
[0088]
气体送出部5具备气体流路51和流路支承部52。气体流路51在头单元43的(－y)侧与头单元43接近地配置。气体流路51是从第1绘制位置到第2绘制位置沿着头移动路径而与x方向大致平行地延伸的大致长方体状的部件。详细而言，气体流路51从与第1绘制位置在y方向上相对的位置到与第2绘制位置在y方向上相对的位置，沿着头移动路径而与x方向大致平行地延伸。气体流路51的x方向上的长度比头单元43的x方向上的长度长。在气体流路51的内部，在气体流路51的长度方向(即，x方向)的大致全长的范围内设有空间，该空间成为供气体流动的流路。
[0089]
流路支承部52是从气体流路51的x方向的两端部向上方延伸的管状部件。虽然在图1中省略了图示，但流路支承部52固定于框架7，从上方悬吊支承气体流路51。气体流路51经由流路支承部52间接地固定于框架7而不移动。流路支承部52还是将气体流路51与后述的气体供给源59(参照图6)连接、将来自气体供给源59的气体向气体流路51供给的供给流路。此外，基于流路支承部52实现的气体流路51的支承方法可以各种各样地变更，例如流路支承部52也可以从下方支承气体流路51。
[0090]
图6是示意性地表示气体送出部5及与气体送出部5相关联的结构的图。在绘制装置1中，气体送出部5的流路支承部52经由配管58与气体供给源59连接。气体供给源59通常设于绘制装置1的外部。从气体供给源59向气体送出部5供给的气体例如是压缩空气。作为该气体，也可以利用压缩空气以外的各种各样的气体。在配管58的中途设有温度调节部57，该温度调节部57在气体供给源59与气体送出部5之间调节从气体供给源59向气体送出部5供给的气体的温度。作为温度调节部57，能够利用例如珀耳帖式或热泵式的公知的温度调节装置。
[0091]
从气体供给源59供给到气体送出部5的温度调节完毕的气体(所谓的温度调节气体)从设于气体流路51的(+y)侧的气体送出口56朝向设于头单元43的头罩44的气体流入口441而向(+y)方向送出。从气体送出口56送出的温度调节后的气体经由气体流入口441向头罩44的内部供给。
[0092]
在头罩44的内部设有测定绘制头41的温度的温度传感器55。在图6所示的例子中，温度传感器55配置于绘制头41的投影光学系统413的(+y)侧。在图6中，省略了绘制头41的投影光学系统413以外的结构的图示。温度传感器55测定绘制头41中的、温度变化对绘制质量带来比较大的影响的投影光学系统413的温度。
[0093]
由温度传感器55测定出的绘制头41的温度(以下，也称为“测定温度”)被发送到控制部10(参照图3)。控制部10的温度控制部116通过基于从温度传感器55输出的绘制头41的测定温度对温度调节部57进行控制，使温度调节部57调节向气体送出部5供给的气体的温
度。由此，调节从气体送出部5向头罩44的内部供给的气体的温度，绘制头41的温度(在图6所示的例子中为投影光学系统413的温度)被维持在与规定的目标温度大致相同的温度。
[0094]
温度传感器55可以测定例如6个绘制头41中的、代表性的1个绘制头41的温度，也可以测定2个以上的绘制头41的温度。在测定2个以上的绘制头41的温度的情况下，例如将由温度传感器55测定出的该2个以上的绘制头41的温度的算数平均作为上述测定温度发送到控制部10。作为温度传感器55，例如利用红外线式的非接触温度传感器。此外，作为温度传感器55，也可以利用接触式或非接触式的各种各样的温度传感器。另外，温度传感器55只要能够高精度地测定绘制头41的温度，则也可以配置于头罩44的外部。
[0095]
图7是从(－x)侧观察头单元43及气体送出部5的侧视图。在图7中，与图5同样地，以截面示出头罩44，用实线绘出头罩44内部的结构。在图7所示的例子中，气体流路51配置于头罩44的槽部442内，接近槽部442的(+y)侧的面。气体流路51在与头罩44之间隔开微小间隙而向头罩44的(－y)侧分开。气体流路51在z方向上配置于与头罩44的气体流入口441在y方向上相对的位置。
[0096]
图8是从(+y)侧观察气体流路51的(+y)侧的面(即，与头单元43的头罩44相对的部位)的后视图。在图8中，用虚线一并绘出位于第2绘制位置的头单元43的头罩44及气体流入口441。图9是将气体流路51及头单元43在z方向的设有气体流入口441的位置剖切而得到的剖视图。在图9中，关于头单元43，仅绘出(－y)侧的一部分。
[0097]
在气体流路51的(+y)侧的面设有遍及x方向的大致全长范围的开口部53。开口部53贯穿气体流路51的(+y)侧的面，与气体流路51的内部空间连通。在图8所示的例子中，开口部53是多个小的大致圆形的送出孔531(即，贯穿孔)的集合。在图8所示的例子中，多个送出孔531在x方向及z方向上以矩阵状分散配置。多个送出孔531例如在x方向及z方向上大致均等地分布。在本实施方式中，气体流路51的(+y)侧的侧壁由设有多个送出孔531的冲孔板(例如冲孔金属板)形成。
[0098]
此外，在图8所示的例子中，开口部53是各边与x方向或z方向大致平行的大致矩形状的区域，是与该区域内包含的多个送出孔531中的位于(+x)侧、(－x)侧、(+z)侧及(－z)侧各自的外缘部的送出孔531外接的区域。在图8中，以双点划线包围开口部53。
[0099]
如图8所示，在头单元43位于第2绘制位置的状态下，开口部53的(+x)侧的大致一半与头单元43相对。另外，在头单元43位于第1绘制位置的状态下，开口部53的(－x)侧的大致一半与头单元43相对。在以下的说明中，将开口部53中的、与位于第1绘制位置的头单元43的头罩44相对的区域(即，开口部53的(－x)侧的大致一半的区域)也称为“第1区域532”。另外，将开口部53中的、与位于第2绘制位置的头单元43的头罩44相对的区域(即，开口部53的(+x)侧的大致一半的区域)也称为“第2区域533”。在图8中，以双点划线分别包围第1区域532及第2区域533。
[0100]
在图8所示的例子中，第1区域532是各边与x方向或z方向大致平行的大致矩形状的区域，是与该区域内包含的多个送出孔531中的位于(+x)侧、(－x)侧、(+z)侧及(－z)侧各自的外缘部的送出孔531外接的区域。对于第2区域533也是同样的。另外，对于后述的送出区域534、535也是同样的。
[0101]
在气体送出部5中，通过送出位置切换部54的开闭部541，使开口部53的第1区域532和第2区域533分别独立地开闭。在图8及图9所示的例子中，开闭部541在气体流路51的
内部空间中具备沿x方向并排配置的2片板状部件542、543。板状部件542、543是与y方向大致垂直的大致矩形状的平板部件，与气体流路51的(+y)侧的侧壁的内表面接近地配置。板状部件542在y方向上与开口部53的第1区域532整体重叠。板状部件543在y方向上与开口部53的第2区域533整体重叠。
[0102]
开闭部541还具备使板状部件542沿y方向移动的部件移动机构544、和使板状部件543沿y方向移动的部件移动机构545。部件移动机构544、545的驱动源例如是线性伺服马达或在滚珠丝杆安装有马达的部件。
[0103]
若通过部件移动机构544使板状部件542向(+y)方向移动并与气体流路51的(+y)侧的侧壁抵接，则开口部53的第1区域532被封闭。另一方，若通过部件移动机构544使板状部件542向(－y)方向移动并从气体流路51的(+y)侧的侧壁离开，则开口部53的第1区域532打开。另外，若通过部件移动机构545使板状部件543向(+y)方向移动且与气体流路51的(+y)侧的侧壁抵接，则开口部53的第2区域533被封闭。另一方面，若通过部件移动机构545使板状部件543向(－y)方向移动且从气体流路51的(+y)侧的侧壁离开，则开口部53的第2区域533打开。
[0104]
在气体送出部5中，在头单元43位于第2绘制位置的情况下，如图9所示，通过利用控制部10的送风控制部115(参照图3)控制送出位置切换部54，使开口部53的第2区域533打开，且使第1区域532封闭。具体而言，通过利用送风控制部115控制部件移动机构544、545，板状部件542与气体流路51的(+y)侧的侧壁抵接而将配置于第1区域532的多个送出孔531全部覆盖，并且板状部件543从气体流路51的(+y)侧的侧壁向(－y)方向离开。由此，从开口部53的第2区域533朝向头单元43送出气体，不从第1区域532送出气体。即，开口部53的第2区域533成为朝向头单元43送出气体的气体送出口56。在以下的说明中，将此时的气体送出口56的位置也称为“第2送出位置”。
[0105]
另一方面，在头单元43位于第1绘制位置的情况下，通过利用控制部10的送风控制部115控制送出位置切换部54，使开口部53的第1区域532打开，且使第2区域533关闭。具体而言，通过利用送风控制部115控制部件移动机构544、545，板状部件542从气体流路51的(+y)侧的侧壁向(－y)方向离开，并且板状部件543与气体流路51的(+y)侧的侧壁抵接而将配置于第2区域533的多个送出孔531全部覆盖。由此，从开口部53的第1区域532朝向头单元43送出气体，不从第2区域533送出气体。即，开口部53的第1区域532成为朝向头单元43送出气体的气体送出口56。在以下的说明中，将此时的气体送出口56的位置也称为“第1送出位置”。第1送出位置在y方向及z方向上位于与第2送出位置大致相同的位置，与第2送出位置相比位于(－x)侧。
[0106]
在气体送出部5中，气体送出口56的位置通过送出位置切换部54而在与位于第1绘制位置的头单元43在y方向上相对的第1送出位置、和与位于第2绘制位置的头单元43在y方向上相对的第2送出位置之间切换。由此，在头单元43位于第1绘制位置及第2绘制位置中的任一位置的情况下，均能够从气体送出口56向头罩44的内部供给温度调节后的气体。此外，在气体流路51的(+y)侧的侧壁中，开口部53设置在从第1送出位置到第2送出位置的区域的x方向上的大致全长范围。
[0107]
图10与图8同样地是从(+y)侧观察气体流路51的(+y)侧的面的后视图。在图10中，用细实线一并绘出位于气体流路51的(+y)侧的多个绘制头41的投影光学系统413的一部
分。在图10中，示出头单元43位于第1绘制位置、开口部53的第1区域532为气体送出口56的状态(即，气体送出口56位于第1送出位置的状态)。
[0108]
在图10所示的例子中，配置于第1区域532的多个送出孔531被区分为沿x方向排列的7组。各组所包含的多个送出孔531在x方向及z方向上以矩阵状大致均等地配置。在图10中，用双点划线包围配置各组所包含的多个送出孔531的区域(以下，也称为“送出区域”)。第1区域532包括大致相同大小的6个送出区域534、和x方向上的宽度比送出区域534小的1个送出区域535。送出区域535与6个送出区域534相比配置于(－x)侧。各送出区域534及送出区域535为大致矩形状的区域。此外，送出区域534、535分别所包含的送出孔531的数量能够各种各样地变更。
[0109]
6个送出区域534在x方向上彼此隔开间隔。换言之，在沿x方向相邻的2个送出区域534中，一方的送出区域534的一个送出孔531与另一方的送出区域534的一个送出孔531之间的x方向上的最短距离大于在各送出区域534中沿x方向相邻的2个送出孔531之间的x方向上的距离。另外，送出区域535也相对于6个送出区域534中最靠(－x)侧的送出区域534在x方向上隔开间隔。
[0110]
6个送出区域534经由头罩44的气体流入口441(参照图7)与6个绘制头41的投影光学系统413在y方向上分别相对。详细而言，各送出区域534的x方向的中央部与相对的绘制头41的x方向的中央部位于x方向的大致相同位置。由此，能够抑制从气体流路51的气体送出口56向头罩44的内部供给的气体偏向某一绘制头41而供给，能够高效且大致均等地进行6个绘制头41的温度调节。
[0111]
此外，在图10所示的例子中，送出区域535与任一绘制头41都不相对。例如在进行头单元43在x方向上步进移动的上述多程方式的绘制时，送出区域535覆盖6个绘制头41中的最靠(－x)侧的绘制头41向(－x)方向的移动范围。具体而言，在最靠(－x)侧的绘制头41在第1绘制位置处位于最靠(－x)侧的状态下，从最靠(－x)侧的送出区域534及送出区域535对该绘制头41供给气体。
[0112]
在第2区域533中，关于多个送出孔531的配置、送出区域534、535的配置、以及头单元43位于第2绘制位置的状态下的送出区域534、535与多个绘制头41的位置关系，与上述的第1区域532大致相同。例如，在头单元43位于第2绘制位置的状态下，第2区域533的6个送出区域534经由头罩44的气体流入口441与6个绘制头41的投影光学系统413在y方向上分别相对。
[0113]
图11是从(－y)观察头单元43的主视图。气体流入口441如上所述与6个绘制头41在y方向上相对。在头罩44内的与气体流入口441相对的区域，于在x方向上相邻的各2个绘制头41之间设有分隔壁443。在图11所示的例子中，在6个投影光学系统413各自之间、以及6个投影光学系统413的(+x)侧及(－x)侧分别配置有7个分隔壁443。7个分隔壁443的形状及大小大致相同。分隔壁443是与x方向大致垂直的平板状的部件。分隔壁443优选从与投影光学系统413相比靠(+y)侧的位置延伸至与投影光学系统413相比靠(－y)侧的位置。分隔壁443的z方向上的长度比气体流入口441的z方向上的长度长，在俯视下将气体流入口441在z方向的全长范围内纵断。这样，在头罩44内的与气体流入口441相对的区域中，通过设置将相邻的2个绘制头41之间隔开的分隔壁443，能够抑制来自气体送出部5的气体偏向某一绘制头41而供给，能够高效且大致均等地进行6个绘制头41的温度调节。
[0114]
接下来，说明图1所示的绘制装置1中的针对基板9的图案绘制的流程。当在绘制装置1中进行图案的绘制时，首先，向第1载台21a上搬入基板9，利用位于第1拍摄位置的拍摄头31等进行该基板9的对准处理等。接着，通过位于第1绘制位置的头单元43，对第1载台21a上的基板9进行图案的绘制。此时，在气体送出部5中，通过送出位置切换部54(参照图9)使气体送出口56的位置成为第1送出位置，从气体送出部5向位于第1绘制位置的头单元43的头罩44的内部供给温度调节后的气体。由此，多个绘制头41(参照图4)的温度被维持在与规定的目标温度大致相同的温度。另外，与对第1载台21a上的基板9进行的绘制并行地，向第2载台21b上搬入基板9，利用移动到第2拍摄位置的拍摄头31等进行该基板9的对准处理等。
[0115]
若针对第1载台21a上的基板9进行的图案的绘制结束，则头单元43从第1绘制位置移动到第2绘制位置，开始针对第2载台21b上的基板9进行的图案的绘制。此时，在气体送出部5中，通过送出位置切换部54将气体送出口56的位置从第1送出位置切换至第2送出位置，从气体送出部5向位于第2绘制位置的头单元43的头罩44的内部供给温度调节后的气体。由此，多个绘制头41的温度被维持在与规定的目标温度大致相同的温度。此外，如上所述，由于气体送出部5固定于框架7，所以即使在头单元43移动时气体送出部5也不移动。
[0116]
在绘制装置1中，与针对第2载台21b上的基板9进行的绘制并行地，从绘制装置1搬出第1载台21a上的绘制完毕的基板9，将新的基板9搬入至第1载台21a上并进行对准处理等。这样，在绘制装置1中，通过交替地进行针对第1载台21a及第2载台21b上的基板9的绘制，生产量提高。另外，在头单元43位于第1绘制位置及第2绘制位置中的任一位置的情况下，都从气体送出部5供给温度调节后的气体，进行绘制头41的温度调节。
[0117]
此外，气体送出部5也可以适用于双载台型的绘制装置1以外的绘制装置。例如，在仅具备一个保持基板9的载台的绘制装置中，在进行多程方式的绘制的情况下，可以从气体送出部5对在副扫描方向上步进移动的头单元43供给温度调节后的气体。该情况下，在头单元43位于作为副扫描方向的一个位置的第1头位置的状态下，气体送出部5中的气体送出口56的位置成为第1送出位置；在头单元43位于作为副扫描方向中的另一位置的第2头位置的状态下，气体送出口56的位置成为第2送出位置。由此，在头单元43位于第1头位置及第2头位置中的任一位置的情况下，都能够对头罩44的内部供给温度调节后的气体。
[0118]
如以上说明那样，针对基板9进行绘制的绘制装置1具备基板保持部(例如，第1载台21a)、基板移动机构(例如，第1移动机构22a)、头单元43、绘制头移动机构42和气体送出部5。基板保持部将基板9以水平状态保持。基板移动机构使基板保持部沿着基板移动路径水平移动。头单元43具备绘制头41及头罩44。绘制头41配置于基板保持部的上方并对基板9照射光而绘制图案。头罩44在内部收容绘制头41。绘制头移动机构42使头单元43沿着在俯视下与基板移动路径交叉的头移动路径在第1头位置与第2头位置之间(在上述例子中为第1绘制位置与第2绘制位置之间)水平移动。气体送出部5沿着头移动路径配置。气体送出部5在头单元43位于第1头位置及第2头位置中的任一位置的情况下，都能够对头罩44的内部供给温度调节后的气体。
[0119]
气体送出部5具备供气体流动的气体流路51、气体送出口56、和送出位置切换部54。气体流路51沿着头移动路径从第1头位置延伸至第2头位置。气体送出口56设于气体流路51的与头单元43相对的部位，朝向头罩44的气体流入口441送出气体。送出位置切换部54将气体送出口56的位置在与位于第1头位置的头单元43相对的第1送出位置、和与位于第2
头位置的头单元43相对的第2送出位置之间进行切换。
[0120]
这样，在绘制装置1中，在从第1头位置到第2头位置的整个范围内设置的气体流路51中，将气体送出口56的位置在第1送出位置与第2送出位置之间进行切换，由此，不会伴随着头单元43的移动使气体流路51移动，对于位于第1头位置及第2头位置中的任一位置的头单元43，都能够供给温度调节后的气体。因此，相比于气体流路51也追随头单元43的移动而移动的情况，能够防止因向气体流路51供给气体的配管等的形状变化引起的不良影响(例如，从气体送出口56送出的气体的流量降低或流量分布的不均等)。其结果是，能够良好地调节沿着头移动路径移动的绘制头41的温度。
[0121]
如上所述，优选的是，在气体流路51设有从第1送出位置到第2送出位置的开口部53。另外，优选的是，送出位置切换部54具备开闭部541，该开闭部541对开口部53中的、与位于第1头位置的头单元43相对的第1区域532、和与位于第2头位置的头单元43相对的第2区域533分别进行开闭。在绘制装置1中，通过利用开闭部541打开开口部53的第1区域532并且封闭第2区域533，从而气体送出口56的位置成为第1送出位置。另外，通过利用开闭部541封闭开口部53的第1区域532并且打开第2区域533，从而气体送出口56的位置成为第2送出位置。通过该构造，能够将气体送出部5中的气体送出口56的位置在第1送出位置与第2送出位置之间容易地进行切换。
[0122]
优选的是，如上所述，气体送出口56具备分布在气体流路51的与头单元43相对的部位的多个送出孔531。由此，能够提高从气体送出口56送出的气体的流量的均匀性。
[0123]
绘制装置1优选还具备：对绘制头41的温度进行测定的温度传感器55；和基于来自温度传感器55的输出对向气体送出部5供给的气体的温度进行调节的温度调节部57。由此，能够高精度地调节从气体送出部5向头罩44内供给的气体的温度。其结果是，能够将绘制头41的温度良好地维持在与目标温度大致相同的温度。
[0124]
优选的是，如上所述，头单元43还具备对基板9照射光而绘制图案的其他绘制头41。该其他绘制头41在头罩44内与上述的绘制头41相邻，并且与该绘制头41一起沿着头移动路径(在上述例子中沿着x方向)排列。这样，通过头单元43具备多个绘制头41，能够提高绘制装置1的生产量。
[0125]
优选的是，在气体送出部5中，气体送出口56具备：与上述的绘制头41相对的送出区域534；和相对于该送出区域534隔开间隔并与上述的其他绘制头41相对的其他送出区域534。由此，能够抑制从气体送出部5向头罩44内供给的气体在多个绘制头41中偏向某一个绘制头41而供给。其结果是，能够高效且大致均等地进行多个绘制头41的温度调节。
[0126]
另外，优选的是，在头单元43中，在头罩44内的与气体流入口441相对的区域，设有将上述的绘制头41与上述的其他绘制头41之间隔开的分隔壁443。由此，能够防止从气体送出部5向头罩44内供给的气体在多个绘制头41中偏向某一个绘制头41而供给。其结果是，能够高效且大致均等地进行多个绘制头41的温度调节。
[0127]
如上所述，优选的是，绘制装置1还具备其他基板保持部(在上述例子中为第2载台21b)和其他基板移动机构(在上述例子中为第2移动机构22b)。该其他基板保持部与上述的基板保持部(在上述例子中为第1载台21a)相邻地配置，将基板9以水平状态保持。该其他基板移动机构在与基板移动路径(在上述例子中为第1基板移动路径)交叉的方向上与上述的基板移动机构(在上述例子中为第1移动机构22a)并排配置。该其他基板移动机构使上述其
他基板保持部沿着与基板移动路径平行的其他基板移动路径(在上述例子中为第2基板移动路径)水平移动。上述的第1头位置是在基板保持部(第1载台21a)的上方对该基板保持部上的基板9照射光的第1绘制位置。另外，第2头位置是在其他基板保持部(第2载台21b)的上方对该其他基板保持部上的基板9照射光的第2绘制位置。
[0128]
在绘制装置1中，如上所述，能够良好地调节沿着头移动路径移动的绘制头41的温度。因此，绘制装置1的构造特别适合于具备在第1载台21a上的第1绘制位置与第2载台21b上的第2绘制位置之间移动比较大的距离的头单元43的、双载台型的绘制装置1。
[0129]
在绘制装置1中，气体送出部5中的气体送出口56的形状可以各种各样地变更。图12是表示其他优选的气体流路51a的后视图，与上述的图10对应。在气体流路51a中，多个送出孔531在与多个绘制头41的投影光学系统413在y方向上相对的位置分散配置，但未配置在与各投影光学系统413的x方向的中心(即，宽度方向中心)在y方向上相对的位置。换言之，在气体送出部5a中，气体流路51a的气体送出口56a与绘制头41的投影光学系统413相对，并且避开与投影光学系统413的宽度方向中心相对的位置而配置在该位置的宽度方向两侧(即，(+x)侧及(－x)侧)。由此，抑制从气体送出口56a朝向头罩44内送出的气体的流动与投影光学系统413的宽度方向的中央部碰撞而紊乱，从投影光学系统413的(+x)侧及(－x)侧通过而良好地绕到投影光学系统413的(+y)侧。其结果是，能够良好地进行投影光学系统413整体的温度调节。
[0130]
在绘制装置1中，气体送出部5中的送出位置切换部54的构造可以各种各样地变更。图13是表示其他优选的气体流路51b的后视图，与上述的图8对应。图14是表示气体流路51b的剖视图，与上述的图9对应。在图13及图14所示的例子中，在气体流路51b的(+y)侧的侧壁设有沿x方向延伸的大致矩形状的开口548。开口548与头单元43的气体流入口441在y方向上相对。开口548从与位于第1绘制位置的头单元43在y方向上相对的位置延伸到与位于第2绘制位置的头单元43在y方向上相对的位置。在图14中，绘出了位于第1绘制位置的状态的头单元43。
[0131]
在气体流路51b的内部空间中，设有与上述的第1区域532(参照图8)对应的多个送出孔531的大致平板状的可动部件546与y方向大致垂直地配置。可动部件546与气体流路51b的(+y)侧的侧壁的内面抵接。可动部件546与设置多个送出孔531的区域549相比向(+x)侧及(－x)侧延伸，从(－y)侧覆盖开口548的整体。在可动部件546的与区域549相比靠(+x)侧及(－x)侧的区域中没有设置送出孔531，气体不通过该区域。
[0132]
可动部件546通过送出位置切换部54b的部件移动机构547而在x方向上移动。部件移动机构547的驱动源例如是线性伺服马达或在滚珠丝杆安装有马达的部件。如图13及图14所示，通过使可动部件546中的设有多个送出孔531的区域549配置在与位于第1绘制位置的头单元43在y方向上相对的位置，从而气体送出口56b位于第1送出位置。另外，通过使可动部件546向(+x)方向移动、使设有多个送出孔531的区域549配置在与位于第2绘制位置的头单元43在y方向上相对的位置，从而气体送出口56b位于第2送出位置。
[0133]
这样，在气体流路51b中，气体送出口56b以能够在气体流路51b的与头单元43相对的部位(即，(+y)侧的侧壁)处沿着头移动路径移动的方式设置。与头单元43在第1头位置与第2头位置之间的移动同步地，气体送出口56b通过送出位置切换部54b在第1送出位置与第2送出位置之间移动。这样，无需使气体流路51b移动，通过使1个气体送出口56b在x方向上
移动，也能够与上述大致同样地将气体送出部5b中的气体送出口56b的位置在第1送出位置与第2送出位置之间容易地进行切换。
[0134]
在上述的绘制装置1中，能够进行各种各样的变更。
[0135]
例如，气体送出部5中的多个送出孔531的配置不限定于图8及图12所示的配置，可以进行各种各样的变更。例如，多个送出孔531无需区分为与多个绘制头41对应的多个送出区域534而配置，也可以在与多个绘制头41相对的区域中大致均匀地分散配置。关于气体送出部5a、5b也是同样的。
[0136]
另外，设于气体送出部5的送出孔531的从y方向观察到的形状不必限定于圆形，也可以是其他形状(例如椭圆形或矩形等)。另外，在气体送出部5中，气体送出口56不必是多个送出孔531的集合，例如也可以是分别沿x方向或z方向延伸的多个狭缝状，还可以是1个大的矩形开口。关于气体送出部5a、5b也是同样的。
[0137]
用于切换气体送出口56、56b的位置的构造不限定于上述的送出位置切换部54、54b的构造，也可以各种各样地变更。
[0138]
在头单元43中，也可以省略上述的分隔壁443。
[0139]
在头单元43中，由温度传感器55测定的绘制头41的温度不必限定于投影光学系统413的温度，也可以是投影光学系统413以外的结构的温度。另外，也可以省略温度传感器55。在该情况下，从气体供给源59向气体流路51供给的气体的温度例如维持在比上述的目标温度低的规定温度。
[0140]
上述的基板9不必限定于印刷基板。在绘制装置1中，例如也可以进行半导体基板、液晶显示装置或有机el显示装置等平板显示装置用的玻璃基板、光罩用的玻璃基板、太阳能电池用的基板等的位置检测。
[0141]
上述实施方式及各变形例中的结构只要不相互矛盾就可以适当组合。
[0142]
虽然详细地描述说明了发明，但已述的说明是例示性的，并非限定性内容。因此，可以说只要不脱离本发明的范围，就能够实现多种变形和方式。
[0143]
关联申请的参照
[0144]
本技术主张2021年8月26日提出申请的日本专利申请jp2021-137848的优先权的利益，该申请的全部公开内容组入于本技术。