1.一种高解析度的阻焊干膜，其特征在于，该阻焊干膜包括基体膜以及设置于基体膜上的感光膜，按重量份计，所述感光膜的制备原料包括：丙烯酸树脂类乳液22-30份、活性单体15-20份、固体助剂20-25份、光引发剂0.8-1.5份、消泡剂0.5-2份；其中，所述固体助剂为表面活性剂改性水滑石与纳米氧化锆。
2.根据权利要求1所述的阻焊干膜，其特征在于，所述表面活性剂改性水滑石与纳米氧化锆的重量比为1：(0.1-1)。
3.根据权利要求1或2所述的阻焊干膜，其特征在于，所述表面活性剂改性水滑石的制备方法包括：将水滑石、水、表面活性剂混合后，在70-80℃下搅拌2-3h，之后抽滤、干燥得到所述表面活性剂改性水滑石。
4.根据权利要求1或2所述的阻焊干膜，其特征在于，所述丙烯酸树脂类乳液选自有机硅改性丙烯酸树脂乳液与水性碱溶性丙烯酸树脂乳液。
5.根据权利要求4所述的阻焊干膜，其特征在于，所述水性碱溶性丙烯酸树脂乳液的固含量为30-50％、在25±2℃时的黏度为15-30mpa.s。
6.根据权利要求1或2所述的阻焊干膜，其特征在于，所述活性单体选自1,6-己二醇双丙烯酸酯、异冰片基丙烯酸、二缩丙二醇双丙烯酸酯、甲基丙烯酸-β-羟乙酯、乙氧基化双酚a二丙烯酸酯、十五乙氧基三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和九乙氧基三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中的至少一种。
7.根据权利要求1或2所述的阻焊干膜，其特征在于，所述光引发剂选自irgacure2959、irgacure 500、darocur 1173、irgacure 184和rgacure itx中的至少一种，优选为irgacure 2959。
8.根据权利要求1或2所述的阻焊干膜，其特征在于，所述消泡剂为聚醚改性硅类消泡剂。
9.一种权利要求1-8中任意一项所述的阻焊干膜的制备方法，其特征在于，该制备方法包括：将所述感光膜的制备原料混合后涂覆于基体膜上，之后进行干燥。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述干燥的温度为100-130℃。