一种阴图免处理平印版的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种平印版前提及印刷方法，具体涉及一种阴图免处理平印版及免处 理平印版在印刷机上的印刷方法。
【背景技术】
[0002] 在印刷工业中平印版的制备过程为业界人士所熟知。平印版的制版过程至少需要 两步来完成，一是将涂布了感光组合物的印版通过蒙片（如，正片型和负片型蒙片）在特定 的光源下曝光，由此而形成一个光影像潜影；二是把上面曝光之后的印版进行一个所谓的 后续的显影步骤，通过这个过程，除去多余的涂层。预涂感光平版是以铝或聚酯为支持体的 片状材料，并且能通过上述两个步骤制得同时具有亲油和亲水性的表面，适合于平版印刷。 通常，在一个负片型系统中，曝光部位由于涂层的聚合或交联发生变化，变成显影液不溶或 难溶，从而可以在显影步骤中将印版未曝光部位的涂层除去。反之，在一个正片型系统中， 显影步骤是将印版曝光部位的材料除去。显影步骤通常包括用显影剂漂洗和洗涤，通常在 一个含有显影剂的处理单元中进行显影。阳图型平印版所用的显影剂通常是强碱，阴图型 显影液中除强碱外通常还含有有机溶剂，如苯甲醇等。当然，光影像的显影也有用加热方法 或其它方式来完成的。上述的两种（即湿和热）显影过程的缺点是耗时、成本很高。而且， 当采用挥发性有机物或强碱作为显影剂时，这些废液的处理将带来环境问题。
[0003] 针对这种需求，作为简单的制版方法之一，提出了一种称作机上显影的方法，它是 一种使用能够在普通印刷过程中除去平版印刷版原版的非图像部分的图像记录层，并且除 去印刷机上曝光后的非图像部分以获得平版印刷版的方法。作为机上显影的具体实例，例 如有使用具有在例如润湿液、油墨溶剂或者润湿液和油墨的乳化产物中可溶的图像记录层 的平版印刷版原版的方法；通过与印刷机辊和橡皮布接触机械除去图像记录层的方法；以 及在通过润湿液和油墨溶剂的渗透减弱图像记录层的内聚强度或者图像记录层与载体的 粘附强度后与辊和橡皮布接触机械除去图像记录层的方法。
[0004] 近年来，用计算机电子处理图像数据、累积和输出的数字化技术盛行，并且许多与 这些数字化技术相应的新型图像输出系统己经付诸实际使用。在此情况下，直接制造平版 印刷版的计算机直接制版技术正吸引着公众的注意，该技术包括用携带数字化图像数据的 高度聚焦的射线（例如激光束）扫描曝光平版印刷版而不使用里斯软片。在这种趋势下， 获得良好适应该技术的平版印刷版原版是一个重要的技术课题。
[0005] 如上所述，从全球环境保护和适应数字化两个方面来说，最近几年己经越来越需 要简化制版操作以及实现干式操作系统和非处理系统。因为现在可以便宜地获得高功率激 光器例如半导体激光器和发射波长从760-1，200nm的红外射线激光器，作为通过扫描曝光 能够容易地引入数字化技术中的制造平版印刷版的方法，使用这些高功率激光器作为图像 记录光源的方法现在是越来与普及。例如，使用经高功率激光器曝光而不溶或者可溶的图 像记录层，通过机上显影来进行制版过程，并且使曝光的图像记录层形成平版印刷版图像， 在曝光后即使暴露于室光下也不影响图像的印刷系统成为可能。
[0006] JP2938397公开了一种平版印刷版原版，在所述亲水性载体上提供含有分散在亲 水性粘合剂中的疏水性热塑性聚合物颗粒的成像层。平版印刷版原版的印刷版可以根据机 上显影方法，通过用红外激光曝光平版印刷版原版，由热熔化融合疏水热塑性聚合物颗粒 从而成像，将印刷版原版安装到印刷机的机筒上，并且供给润湿液和/或油墨来制造。如上 所述仅由热熔化融合聚合物细颗粒来成像的方法表现出良好的机上显影性质，但是图像强 度非常弱并且印版耐印力不足。
[0007] 作为改进这种能够机上显影的平版印刷版原版的印版耐印力的一个例子， JP2001277740和JP2001277742公开了一种在包含亲水性载体，并在其上提供含有微胶囊 的热敏层的平版印刷版原版，所述微胶囊含有具有加热时反应的官能团的化合物，其中所 述热敏层或其邻近层包含红外吸收剂。
[0008] 作为改进印版耐印力的另一种技术，JP2002287334公开了一种能够机上显影的平 版印刷版原版，其包含其上提供有光敏层的，该光敏层含有红外吸收剂、自由基聚合引发剂 和可聚合化合物。根据这种使用例如上述聚合反应的反应的方法，与通过聚合物细颗粒熔 化形成的图像部分相比，因为图像部分处化学键合的高密度而可以增大图像强度。但是，从 机上显影性质与细线再现性的相容性及印版耐印力来看，该方法仍是不足的。
[0009] W02006080107公开了一种能够机上显影的平版印刷版原版，其所述图像记录层 含红外吸收剂、聚合引发剂及可聚合化合物，特征在于图像层的未曝光部分是通过脱落而 不是溶解在印刷油墨和/或润湿液中而被除去。这种方法虽然达到了机上显影性与润版液 污染的较好平衡，耐印力也有一定的提高，但与长印程的要求相比耐印力还是远远不够。
【发明内容】
[0010] 本发明的目的在于提供一种免处理平印版和这种平印版的印刷方法，这种免处理 平印版在用红外激光扫描曝光后，可以不经过任何冲洗加工步骤直接安装版到印刷机上进 行印刷。本发明免处理平印版和印刷方法，克服了以上所述各种方法制得的免处理平印版 的耐印力不足的缺点，在保证高质量网点的同时实现了高耐印力，并能减少开机时的过版 纸数。
[0011] 本发明的目的可通过以下措施来实现：
[0012] 一种阴图免处理平印版，包含版基，和版基之上的成像层，其包含（1)聚合物粘结 剂；（2)成像曝光时能够引发聚合/交联的引发体系；（3)可聚合/交联的组分，包含纳米 SiO2/聚氨酯丙烯酸预聚物和置于成像层之上的保护层。
[0013] 其中纳米SiO2/聚氨酯丙烯酸预聚物是由纳米SiO2和异佛尔酮二异氰酸酯 (IPDI)、聚丙二醇（PPG)以及丙烯酸羟乙酯（HEA)经过原位聚合得到的纳米SiO 2/聚氨酯 丙烯酸酯预聚物。纳米SiO2含有表面羟基，其平均粒径在IO-IOOnm之间，最优在30-60nm 之间。纳米SiO2/聚氨酯丙烯酸预聚物中纳米SiO2的质量百分比为0. 5-5%，最优百分比为 1-3% 〇
[0014] 其中聚合物粘合剂有如下结构（A):
[0015]
【主权项】
1. 一种阴图免处理平印版，包含版基、版基之上的成像层和成像层之上的保护层，其特 征在于：所述成像层包含聚合物粘结剂、成像曝光时能够引发聚合/交联的引发体系以及 可聚合/交联的组分，聚合/交联的组分包含纳米SiO 2/聚氨酯丙烯酸预聚物。
2. 权利要求1所述的阴图免处理平印版，其特征在于：纳米SiO2/聚氨酯丙烯酸预聚物 是由纳米SiO 2和异佛尔酮二异氰酸酯、聚丙二醇以及丙烯酸羟乙酯经过原位聚合得到的纳 米SiO2/聚氨酯丙烯酸酯预聚物，占成像层中固体总重量的10 - 50%。
3. 权利要求1所述的阴图免处理平印版，其特征在于：其中纳米SiO2含有表面羟基。
4. 权利要求1所述的阴图免处理平印版，其特征在于：其中纳米SiO2的平均粒径在 IO-IOOnm 之间。
5. 权利要求1所述的阴图免处理平印版，其特征在于：其中纳米SiO2/聚氨酯丙烯酸预 聚物中纳米SiO 2的质量百分比为0. 5-5%。
6. 权利要求1所述的阴图免处理平印版，其特征在于：其中聚合物粘合剂有如下结构 (A):
占成像层中固体总重量的10 - 50%。
7. 权利要求6所述的阴图免处理平印版，其特征在于：其中成像曝光时能够引发聚合/ 交联的引发体系含有成像曝光时能产生足以引发聚合反应的自由基引发剂，占成像层中固 体总重量的1 一 10%。
8. 权利要求7所述的阴图免处理平印版，其特征在于：其中成像曝光时能够引发聚合 /受联的引发体系还含有选自鹏鐵盐、硫鐵盐、憐鐵盐、砸鐵盐中的一种或多种，占成像层中 固体总重量的1 一 10%。
9. 权利要求8所述的阴图免处理平印版，其特征在于：其中成像曝光时能够引发聚合 /交联的引发体系还含有一种吸收在750-850nm的菁染料，占成像层中固体总重量的1 一 20%。
10. 权利要求9所述的阴图免处理平印版，其特征在于：其中保护层含有聚乙烯醇和含 氟非离子型表面活性剂。
11. 权利要求10所述的阴图免处理平印版，其特征在于：其中保护层重〇. 2-2. Og/m2。
12. 权利要求1 一 11中任一项所述的阴图免处理平印版，其特征在于：其中平印版 的支持体是经过电解粗化和阳极氧化并进行封孔处理的铝版基，其中心线平均粗度在〇. 4-0. 5 μ m〇
13. 权利要求12所述的阴图免处理平印版，其特征在于：其中平印版的版基封孔处理 使用的溶液是含有氟离子和磷酸盐的水溶液。
【专利摘要】一种阴图免处理平印版，包含版基、版基之上的成像层和成像层之上的保护层，所述成像层包含聚合物粘结剂、成像曝光时能够引发聚合/交联的引发体系以及可聚合/交联的组分，聚合/交联的组分包含纳米SiO2/聚氨酯丙烯酸预聚物。这种免处理平印版在用红外激光扫描曝光后，可以不经过任何冲洗加工步骤直接安装版到印刷机上进行印刷。本发明免处理平印版和印刷方法，克服了各种方法制得的免处理平印版的耐印力不足的缺点，在保证高质量网点的同时实现了高耐印力，并能减少开机时的过版纸数。
【IPC分类】G03F7-033, G03F7-004, G03F7-09
【公开号】CN104730865
【申请号】CN201310710843
【发明人】杨青海, 张刚, 宋小伟, 吴兆阳, 黄文明, 刘东黎, 吴俊君, 刘红来
【申请人】乐凯华光印刷科技有限公司
【公开日】2015年6月24日
【申请日】2013年12月19日