光刻胶喷嘴器件和光刻胶供应系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体技术领域，更具体地，涉及光刻胶喷嘴器件及光刻胶供应系统。
【背景技术】
[0002]半导体器件用于各种电子应用中，诸如个人电脑、手机、数码相机和其他电子设备。通常，通过在半导体衬底上方依次沉积绝缘层或介电层、导电材料层和半导体材料层，以及使用光刻图案化各种材料层以在其上形成电路组件和元件来制造半导体器件。通常在单个半导体晶圆上制造许多集成电路，并且通过沿划线在集成电路之间进行切割从而分开晶圆上的单独的管芯。例如，通常以多芯片模块或其他类型的封装形式来分别地封装单独的管芯。
[0003]在光刻工艺中，光刻胶施加于晶圆。光刻胶是当其暴露在辐射下时形成图案的材料。作为半导体制造工艺中的步骤，在晶圆的表面上分布光刻胶薄层，且光刻胶被曝光为图案。现在这些图案具有非常精细的细节，且光刻胶中的一些问题会导致曝光的光刻胶中的不符合要求的图像。尽管用于光刻工艺的现有器件和方法通常足以用于其预期目的，但是它们不是在所有方面都完全符合要求。因此，期望提供用于晶圆工艺装置的光刻胶解决方案。
【发明内容】
[0004]为了解决现有技术中所存在的缺陷，根据本发明的一方面，提供了一种光刻胶喷嘴器件，包括:管，包括第一部分、连接至所述第一部分的曲线部分和连接至所述曲线部分的第二部分；以及喷嘴，连接至所述第二部分。
[0005]在该光刻胶喷嘴器件中，所述管由透光材料制成。
[0006]在该光刻胶喷嘴器件中，所述曲线部分具有直径和比所述直径长约2.5至约15倍的弧长度。
[0007]在该光刻胶喷嘴器件中，所述第一部分沿着水平方向延伸，而所述第二部分沿着垂直方向延伸。
[0008]在该光刻胶喷嘴器件中，所述曲线部分基本沿着圆形路径延伸。
[0009]在该光刻胶喷嘴器件中，所述曲线部分具有连接至所述第一部分的第一端和连接至所述第二部分的第二端，且在所述第一端处的所述圆形路径具有第一切线，且所述第一部分基本沿着所述第一切线延伸。
[0010]在该光刻胶喷嘴器件中，所述曲线部分具有连接至所述第一部分的第一端和连接至所述第二部分的第二端，且在所述第二端处的所述圆形路径具有第二切线，且所述第二部分基本沿着所述第二切线延伸。
[0011]根据本发明的另一方面，提供了一种用于涂覆装置的光刻胶喷嘴器件，包括:保持框架，具有接收槽，位于所述涂覆装置中；管，设置在所述保持框架上，包括第一部分、连接至所述第一部分且位于所述接收槽中的曲线部分和连接至所述曲线部分的第二部分；以及喷嘴，连接至所述第二部分。
[0012]在该光刻胶喷嘴器件中，所述保持框架包括第一壁和连接至所述第一壁的第二壁，其中，所述第一壁和所述第二壁形成所述接收槽，所述第一部分穿过所述第一壁，且所述第二部分穿过所述第二壁。
[0013]在该光刻胶喷嘴器件中，所述第一壁基本垂直于所述第二壁。
[0014]在该光刻胶喷嘴器件中，所述管由透光材料制成。
[0015]在该光刻胶喷嘴器件中，所述曲线部分具有直径和比所述直径长约2.5倍至约15倍的弧长度。
[0016]在该光刻胶喷嘴器件中，所述第一部分沿着水平方向延伸，而所述第二部分沿着垂直方向延伸。
[0017]在该光刻胶喷嘴器件中，所述曲线部分基本沿着圆形路径延伸。
[0018]根据本发明的又一方面，提供了一种光刻胶供应系统，包括:缓冲罐，容纳光刻胶液体；泵，与所述缓冲罐连接，且接收所述光刻胶液体；管，包含与所述泵连接的第一部分，连接至所述第一部分的曲线部分和连接至所述曲线部分的第二部分；以及喷嘴，连接至所述第二部分；其中，所述泵将所述光刻胶液体通过所述管输送至所述喷嘴。
[0019]该光刻胶供应系统还包括与所述缓冲罐连接且将所述光刻胶液体输送至所述缓冲罐的光刻胶容器。
[0020]该光刻胶供应系统还包括将气体输送至所述缓冲罐内的气泵，其中，通过气体的作用，所述缓冲罐中的压力增大，且所述光刻胶液体的一部分通过所述压力的作用从所述缓冲罐排出到达所述泵中。
[0021 ] 在该光刻胶供应系统中，所述管由透光材料制成。
[0022]在该光刻胶供应系统中，所述曲线部分具有直径和比所述直径长约2.5倍至约15倍的弧长度。
[0023]在该光刻胶供应系统中，所述曲线部分沿着圆形路径延伸。
【附图说明】
[0024]为了更全面地理解本发明及其优势，现将结合附图所进行的以下描述作为参考，其中:
[0025]图1是根据本发明的一些实施例的光刻胶供应系统和涂覆装置的示意图。
[0026]图2是根据本发明的一些实施例的光刻胶喷嘴器件和涂覆装置的示意图。
[0027]图3是根据本发明的一些实施例的光刻胶喷嘴器件和涂覆装置的示意图。
[0028]图4是根据本发明的一些实施例的光刻胶喷嘴器件和涂覆装置的示意图。
[0029]图5是根据本发明的一些实施例的光刻胶喷嘴器件的示意图。
【具体实施方式】
[0030]下面详细讨论了本发明的各个实施例的制造和使用。然而，应该理解，各个实施例可以在各种具体环境中实现。所讨论的具体实施例仅仅用于示出的目的，而不用于限制本发明的范围。
[0031]应该理解，以下公开内容提供了许多不同的实施例或实例，用于实现本发明的不同特征。下面描述了组件和布置的具体实例以简化本发明。当然，这些仅仅是实例，而不旨在限制本发明。而且，在以下描述中，在第二工艺之前执行第一工艺可以包括在第一工艺之后立即执行第二工艺的实施例，并且还可以包括在第一工艺和第二工艺之间执行额外的工艺的实施例。为了简化和清楚的目的，各个部件可以以不同比例任意绘制。此外，在描述中，第一部件形成在第二部件上方或者上可以包括以直接接触或间接接触的方式形成第一部件和第二部件的实施例。
[0032]描述了实施例的一些变型例。应该理解，在该方法之前、期间和之后可提供额外的操作，且对于该方法的其他实施例，描述的一些操作可被替换或省略。
[0033]图1是根据本发明的一些实施例的光刻胶供应系统I和涂覆装置Al的示意图。光刻胶供应系统I被配置为给涂覆装置Al供应光刻胶液体LI。光刻胶供应系统I包括光刻胶容器10、缓冲罐20、气泵30、泵40和光刻胶喷嘴器件50。
[0034]光刻胶容器10被配置为容纳光刻胶液体LI。光刻胶容器10与缓冲罐20连接，且将光刻胶液体输送至缓冲罐20。光刻胶容器10包括瓶子11和设置在瓶子11的顶部开口上的密封帽12。瓶子11和密封帽12形成第一密封室13。光刻胶液体LI容纳在第一密封室13中。当瓶子11为空时，光刻胶容器10可替换为光刻胶供应系统I中的一个新的光刻胶容器10。
[0035]缓冲罐20也被配置为容纳光刻胶液体LI。缓冲罐20从光刻胶容器10接收光刻胶液体LI。当瓶子11为空时，光刻胶供应系统I通过缓冲罐20持续给涂覆装置Al供应光刻胶液体LI。在一些实施例中，缓冲罐20的体积大于光刻胶容器10的体积。
[0036]缓冲罐20包括罐体21和设置在罐体21的顶部开口上的密封盖22。罐体21和密封盖22形成第二密封室23。光刻胶容器10和缓冲罐20通过第一管Tl彼此连接。第一管Tl通过穿过密封帽12插入瓶子11。第一管Tl的一端浸在瓶子11中的光刻胶液体LI中。第一管Tl还通过穿过密封盖22插入罐体21中。第一管Tl的一端浸在罐体21内的光刻胶液体LI中。
[0037]气泵30被配置为将气体输送至光刻胶容器10和缓冲罐20。在一些实施例中，气体包括N2。气泵30通过第二管T2与光刻胶容器10和缓冲罐20连接。第二管T2通过穿过密封帽12插入瓶子11。第二管T2的一端位于第一密封室13中且位于瓶子11中的光刻胶液体LI的上方。第二管T2也通过穿过密封盖22插入罐体21。第二管T2的一端位于第二密封室