第二通孔；薄膜层2外露于第二基板I的部分作为反射区域，反射区域中设置反射层4 ;第一基板3和第二基板I均为刚性件。其余结构均与实施例一相同。
[0026]第一基板3和第二基板I均为刚性件指的是第一基板3和第二基板I在密封腔体61的内压改变时不会发生形变。由于第二基板I为刚性件，则只有反射区域的薄膜能够发生形变，从而使因压电膜片5形变产生的压差全部作用于反射区域，而反射区域的面积小于密封腔体61的截面积，使得压电膜片5的形变传递到反射区域时被放大，使得调焦的范围增大，如图4和图5所示。
[0027]第二基板I的第二通孔为圆形通孔，从而使得反射区域呈圆形。
[0028]实施例3
制作实施例1中的可调焦距的反射镜的方法，包括以下步骤:
I )、制作第一基板3，在第一基板3的上表面设置S1Ji作为薄膜层2 ;在薄膜层2的上表面制备反射层4 ；
2)、在第一基板3上溅射一层铝膜A，在铝膜A上旋涂光刻胶，对光刻胶进行曝光显影，图形化出孔；以光刻胶为保护层，通过磷酸溶液对铝膜A进行湿法刻蚀，在铝膜A上刻蚀出相应的第一窗口，然后除去光刻胶；
3)、以铝膜A为保护层，对第一基板3的硅进行感应耦合等离子ICP或者深反应离子刻蚀DRIE刻蚀，刻蚀到薄膜层2截止，刻蚀出第一通孔；
4)、将两面覆有电极的压电膜片5用环氧胶粘接到直径铜片上，该铜片作为执行器基板6 ； 5)、将执行器基板6粘接到第二基板I上以封闭第一通孔，压电膜片5外露，可调焦距的反射镜制作完成。
[0029]实施例4
制作实施例2中的可调焦距的反射镜的方法，包括以下步骤:
如图6的(A) - (H)所示的步骤:
(A)选取SOI硅片，SOI硅片具有第一基板3和第二基板I，第一基板3与第二基板I之间具有S12薄膜层；第一基板3的硅层和第二基板I的硅层分别为100微米厚，中间的S12层为I微米厚；
(B)在第二基板I上溅射一层0.4微米厚的铝膜B ;然后在铝膜B上旋涂光刻胶，对光刻胶进行曝光显影，图形化出直径为4毫米的圆孔；以光刻胶为保护层，通过磷酸溶液对铝膜B进行湿法刻蚀，在铝膜B上刻蚀出相应的4毫米直径的圆孔；除去光刻胶；
(C)以铝膜B为保护层，对第二基板I的硅进行感应耦合等离子ICP或者深反应离子刻蚀DRIE刻蚀，刻蚀到S1Jl截止，刻蚀出圆形的第二通孔11 ;
(D)在第一基板3上溅射一层0.4微米厚的铝膜A ;然后在铝膜上旋涂光刻胶，对光刻胶进行曝光显影，图形化出直径为8毫米的圆孔；以光刻胶为保护层，通过磷酸溶液对铝膜A进行湿法刻蚀，在铝膜A上刻蚀出相应的8毫米直径的圆孔；之后除去光刻胶；
(E)在第二基板I面溅射或者真空蒸发200纳米的银、铝或者金反射层4作为反射面；
(F)以铝膜A为保护层，对第一基板3的硅进行感应耦合等离子ICP或者深反应离子刻蚀DRIE刻蚀，刻蚀到S1Jl截止，刻蚀出圆形的第一通孔31 ;
(G)将两面覆有电极的直径5毫米厚50微米的圆形压电膜片5用环氧胶粘接到直径10毫米厚60毫米的铜片上，铜片作为执行器基板6，制备成压电执行器；
(H)将执行器基板6粘接到反射镜镜体的背面，压电膜片5外露，可调焦距的反射镜制作完成。
[0030]本说明书实施例所述的内容仅仅是对发明构思的实现形式的列举，本发明的保护范围不应当被视为仅限于实施例所陈述的具体形式，本发明的保护范围也及于本领域技术人员根据本发明构思所能够想到的等同技术手段。
【主权项】
1.一种可调焦距的反射镜，其特征在于:该反射镜包括反射层，薄膜层，第一基板和驱动机构，反射层覆盖于薄膜层的上表面，第一基板位于薄膜层和驱动机构之间，第一基板的高度方向设置第一通孔；驱动机构包括执行器基板和得电后弯曲形变失电后恢复形变的压电膜片，压电膜片粘接固定于执行器基板；薄膜层、第一基板和执行器基板围成一个密封腔体；压电膜片位于密封腔体外，密封腔体将压电膜片的形变传递到薄膜层。2.如权利要求1所述的可调焦距的反射镜，其特征在于:压电膜片与密封腔体同轴。3.如权利要求2所述的可调焦距的反射镜，其特征在于:薄膜层上具有第二基板，第二基板在第一基板之上，第二基板的高度方向设置第二通孔，第一通孔和第二通孔同轴，第一通孔大于第二通孔；薄膜层外露于第二基板的部分作为反射区域，反射区域中设置反射层；第一基板和第二基板均为刚性件。4.如权利要求3所述的可调焦距的反射镜，其特征在于:第二基板的第二通孔为圆形通孔。5.制作如权利要求2所述可调焦距的反射镜的方法，包括以下步骤: 1)、制备第一基板，第一基板的上表面设置S1Jl作为薄膜层；在薄膜层的上表面制备反射层； 2)、在第一基板上溅射一层铝膜，在铝膜上旋涂光刻胶，对光刻胶进行曝光显影，图形化出孔；以光刻胶为保护层，通过磷酸溶液对铝膜进行湿法刻蚀，在铝膜上刻蚀出相应的第一窗口，然后除去光刻胶； 3)、以铝膜A为保护层，对第一基板3的硅进行感应耦合等离子ICP或者深反应离子刻蚀DRIE刻蚀，刻蚀到薄膜层2截止，刻蚀出第一通孔； 4)、将两面覆有电极的压电膜片用环氧胶粘接到直径铜片上，该铜片作为执行器基板； 5)、将执行器基板粘接到第二基板上以封闭第一通孔，压电膜片外露，可调焦距的反射镜制作完成。6.如权利要求5所述的制作可调焦距的反射镜的方法，其特征在于:步骤I)中包含以下步骤: (1.1)、制备第二基板，第二基板的形状和厚度与第一基板相同；使薄膜层位于第一基板和第二基板之间，第一基板在下，第二基板在上； (1.2)、在第二基板上溅射铝膜；然后在铝膜上旋涂光刻胶，对光刻胶进行曝光显影，图形化出孔；以光刻胶为保护层，通过磷酸溶液对铝膜进行湿法刻蚀，在铝膜上刻蚀出相应的窗口 ；除去光刻胶；窗口的直径小于第一通孔的直径； (1.3)以铝膜为保护层，对第二基板的硅进行感应耦合等离子ICP或者深反应离子刻蚀DRIE刻蚀，刻蚀到薄膜层截止，刻蚀出第二通孔； (1.4)在薄膜层外露于第二基板的反射区域内溅射或者真空蒸发银、铝或者金反射层作为反射面。
【专利摘要】一种可调焦距的反射镜，该反射镜包括反射层，薄膜层，第一基板和驱动机构，反射层覆盖于薄膜层的上表面，第一基板位于薄膜层和驱动机构之间，第一基板的高度方向设置第一通孔；驱动机构包括执行器基板和得电后弯曲形变失电后恢复形变的压电膜片，压电膜片粘接固定于执行器基板；薄膜层、第一基板和执行器基板围成一个密封腔体；压电膜片位于密封腔体外，密封腔体将压电膜片的形变传递到薄膜层。本发明具有能使镜面发生双向形变，兼具凹面镜功能和凸面镜功能的优点。
【IPC分类】G02B26/08
【公开号】CN105022163
【申请号】CN201510445645
【发明人】马剑强, 田雷, 陈凯
【申请人】宁波大学
【公开日】2015年11月4日
【申请日】2015年7月27日