印刷的改进或涉及印刷的改进的制作方法
【专利说明】印刷的改进或涉及印刷的改进
[0001] 本发明涉及印刷的改进，特别涉及用于制备石版印刷的基底（包括涂覆和未涂覆 的基底）的方法。本发明还涉及通过所述方法制备的新型石版印刷表面；并且涉及在所述 方法中所使用的装置。
[0002] 从根本上讲，所有石版印刷工艺都采用印刷版前体，所述印刷版前体具有特别制 备的均匀分布的表面；并且修饰了其所选择的区域，留下相对的未修饰的区域。许多工艺将 印刷版前体置于化学显影剂（其或者作用于修饰区域或者作用于未修饰区域）中以产生印 刷所需的区别。任选地，印刷前，处理所制备的表面（例如通过烘烤）以硬化涂层剩余的区 域
[0003] 应注意的是，在本说明书中，我们使用术语"印刷版前体"是指具有均匀表面的最 初物体，对于墨的合格或不合格没有区别；术语"印刷版"是指具有能够印刷的分化表面的 物体。本文中的术语印刷版可由术语印刷版或版来代替。术语印刷版由于其宽泛的含义在 本发明的描述和定义中是优选的。为方便阅读，在本文中术语印刷版或版仍然可以使用。
[0004] 通过合适的能量，其上具有化学组合物涂层的印刷版前体可改变它们在显影剂溶 液中的倾向性。在某些组合物中，能量使经受该能量的涂层区域更易溶解在显影剂中。因 为由能量成像实施所导致的溶解性的差异，在与显影剂接触时，成像区域溶解掉，剩下保留 涂层的未成像区域。这样的体系被称为阳图制版体系。涂层所剩余的区域通常是亲油和亲 墨的。在溶解掉的区域中，基底暴露，并且通常是亲水的，而且能够接受墨/水贮存溶液的 水组分，因此可以进行印刷。
[0005] 在可替换的体系中，使已经经受成像能量处理的区域比成像区域更不易溶解，从 而其中涂层溶解掉的是未成像的区域。这样的体系称为阴图制版体系。
[0006] 在许多常规体系中，能量为波长约190-400nm的紫外线辐射，许多对紫外线辐射 敏感的阳图制版体系使用存在于用作涂层的聚合物组合物中的醌叠氮化物部分。当暴露于 紫外线辐射时，醌叠氮化物（NQD)部分分解，这样使组合物更易溶解在显影剂中。从机械 角度看，当暴露于UV时，NQD抑制剂历经化学反应，该化学反应已经估计产生局部热至温度 200°C。使聚合物链之间氢键解开的作用由此使施加的显影流体容易进入。此外，每个曝光 的NQD抑制剂排出氮气分子再次产生显影剂的更多区域。从萘环结构经历缩环作用形成苯 并茚结构以形成比初始存在尺寸更小的化学产物，进一步产生显影剂的更多自由区域来进 入。这种曝光的化学品种类是羧酸，因此其比初始的NQD更易溶解，并因此更加容易溶解在 显影剂中。最终，该反应是不可逆的-不能恢复。
[0007] 近些年，已经开发了用于印刷版的新的阳图制版技术。该技术使用波长 800-1400nm的红外辐射。在这些体系中，聚合物组合物包含酚醛树脂并合适地包含芳香族 化合物，例如诸如结晶紫等的三甲基甲烷燃料。通过使用红外激光，将激光传输至涂层的所 选择区域，转化成热并且通过使氢键松散，提高这些区域在显影剂中的溶解性。
[0008] 尽管看起来NQD和IR阳图光敏行为类似，但实际上在两个体系之间在溶解对比 (DC)中存在很大的不同，DC定义为与曝光涂层的溶解相比较的未曝光涂层的溶解速率。图 1显示了这种差别。
[0009] 存在一些非常不理想的热版的低DC的结果。首先是仅对氢键的依赖性使结构容 易被环境温度改变并且温度随时间改变导致随时间或温度版光敏性改变-对于在持续12 个月内并且全球运送至不同的气候地区的供应链内的产品来说是一个后勤问题。为了克 服这个缺点，将产品在升高的温度下热处理几天以使版在高于该温度的市场中稳定。这是 昂贵的附加步骤，也导致对顾客的更长的提前期。EP1024958描述了这样的方法。由低DC 导致的第二个缺点是涂层也对任意工艺中的变化敏感，这个缺点能够影响涂层的粘附或溶 解。这显示在图2中。例如，在制备用于印刷版的铝上的亲水构造的电化学粒化中，如果粒 化过深则涂层的包括体积高，并且表面涂层厚度（特别是在平台区域中）降低，导致客户加 工过程中的过度溶解。这需要对热阳图版的形貌进行更紧密的控制。
[0010] 在热阳图体系中的弱结合赋予应用的液体涂层相对低的内聚能，使这样的涂层非 常容易形成涂层空洞。基底表面的小污染物能够排斥涂层；当涂层的内聚能低时，涂层没有 充分的能量来克服污染物和空洞或白点产物的表面能。尽管白点能够在类似的NQD阳图版 上存在，但以比在热阳图涂层中明显更低的水平存在。此外，一旦热涂层已经干燥，由于涂 层的相对弱的结合，就不再像类似阳图NQD版，其易于刮伤、擦伤和压迫。
[0011] 鉴于产品质量和产品产率，结合热阳图体系中的不理想的效果，在生产中产生真 正的挑战。
[0012] 这些和其它体系中的固有性质是"波长匹配"的概念：即成像能必须与印刷版可成 像涂层的化学结合。
[0013] 事实上，存在各种各样的能量源和各种各样的对各种能量源敏感的化学体系。对 于CTP (脱机直接制版）体系，能量源包括UV激光（波长~350nm)、氩离子激光（波长~ 488nm)、倍频 YAG 激光（532nm 波长）、LED (670nm 和 780nm)、YAG 激光（1064nm)、IR 二极管 激光（810匪和830nm)和紫色二极管激光（405nm)。
[0014] 除了波长匹配之外，不同的成像体系需要不同功率的激光或在不同功率下运行的 激光。
[0015] 这意味着使用者必须选择硬件（成像设备）和媒介（成像体系/涂层化学组成） 作为"匹配对"。这限制了使用者的选择和灵活性。使用者被锁定在具有所有明显消极代价 问题的特殊的"匹配对"（硬件/媒介）中。
[0016] 关于波长敏感版的另一点是它们必须在非光化性光的环境下进行处理。因此，UV 敏感版必须在黄光下进行处理，绿光敏感版必须在红光下进行处理等。事实上，热敏版的一 个优点是由于它们对可见光不敏感，因此能够在正常白光下进行处理。因此，使用采用高DC 涂层的版涂层的优势是对环境白光不敏感，并且制备容易并符合成本效益。
[0017] 本发明的目标是改进上述我们已经描述的限制情况。
[0018] 根据本发明的第一方面，提供将多种类型的印刷版前体成像的方法，所述方法使 用具有至少一种激光的单成像设备，所述激光以成像方式传输脉冲持续时间不长于IX10 6 秒的脉冲电磁辐射。其中在所述方法中可成像的印刷版前体的类型包括至少下述两种类 型，优选所有下述三种类型：
[0019] (i)具有成像表面的第一印刷版前体，所述成像表面不具有感光成像化学组成；
[0020] (ii)具有成像表面的第二印刷版前体，所述成像表面具有对波长150nm至700nm 的辐射有响应的感光成像化学组成；
[0021] (iii)具有成像表面的第三印刷版前体，所述成像表面具有对波长700nm至 HOOnm的辐射有响应的感光成像化学组成。
[0022] 在所述方法中，不同类型的印刷版前体可在不同时间独立成像可能持续一段长时 间。在实际中，例如，印刷工人可用一批印刷版前体成像并印刷，即⑴，随后进行不同的另 一批，即（ii)或（iii)。
[0023] 本文中的术语"感光成像化学组成"是指在印刷版前体表面处提供的涂层化学制 剂的使用，所述化学制剂旨在对电磁辐射的特定波长或频繁对辐射的窄波段有响应以产生 所述表面上的期望的变化。例如，电磁辐射可引起诸如化学反应等的化学变化，或诸如氢键 的形成或断裂等的化学-物理变化，以使涂层的成像区域更易溶或更不易溶在显影剂液体 中。所述变化通常需要电磁辐射的窄的高斯峰。化学可被视为对波长或峰值的调谐。
[0024] 本文中成像设备还被称为制版机。
[0025] 根据本发明的第二方面，提供通过第一方面的方法成像的印刷版前体。
[0026] 根据本发明的第三方面，提供具有激光的成像设备，所述激光适于以成像方式将 脉冲持续时间不长于1X10 6秒的脉冲电磁能量传输至如类型和（iii)所定义的 印刷版前体的类型中的至少两个，优选三个。
[0027] 根据本发明的第四方面，提供具有激光的成像设备的使用，所述激光适于以成像 方式将脉冲持续时间不长于I X 10 6秒的脉冲电磁能量传输至印刷版前体的成像表面，由 此使印刷版前体成像而不考虑印刷版前体可具有的任何感光成像化学组成。如其它所述， 印刷版前体可具有实际上被这种电磁能量忽略或覆盖的感光成像化学组成，或不具有感光 成像化学组成。
[0028] 根据本发明的第五方面，提供包含以下组合的成像装置：
[0029] 具有激光的成像设备，所述激光适于以成像方式传输脉冲持续时间不长于I X 10 6 秒的脉冲电磁能量，以及
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