入密封腔体内部，则可能会污染放置于密封腔体内的光配向膜，而在对加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气前通过过滤网对进入密封腔体的气体进行过滤，过滤对空气中的灰尘颗粒、水蒸气等杂质，进而可以有效避免空气中的大致污染光配向膜。
[0062]可选的，预设温度大于190°C且小于250°C。
[0063]本发明的实施例提供一种光配向膜杂质去除方法，该方法应用于上述任一实施例提供的光配向膜杂质去除装置。具体的，参照图5所示，该方法包括如下步骤:
[0064]S501、控制气体抽出设备开始工作并通过气体输入设备的控制开关控制气体输入设备的供气管道导通，对加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气。
[0065]首先，对密封腔体内的气体进行换气可以去除密封腔体内自然蒸发的小分子杂质以及其他杂质气体。
[0066]S502、当换气时间达到预设时间时，通过气体输入设备的控制开关控制气体输入设备的供气管道截止。
[0067]预设时间可以根据密封腔体的容积、换气速度等实际数据进行设定，本发明不限定换气时间的长度。在步骤S502中，当达到预设时间时，气体输入设备的控制开关控制气体输入设备的供气管道截止，则继续工作的气体抽出设设备会使密封腔体内部的气压逐渐减小，真空度逐渐升高，真空度升高后光配向膜中的小分子杂质可以进一步蒸发。
[0068]S503、当密封腔体内部的压强达到预设压强时，控制加热设备开始工作，将放置于密封腔体内部的配向膜加热至预设温度。
[0069]需要说明的是，此处理想状态下密封腔体内为绝对真空，预设压强值为零，但是基于实际气体抽出设备的可达到的真空度不可能为绝对真空，所以此处预设压强的设定可以设定为密封腔体内部可以达到的最小压强。
[0070]当压强达到预设压强时，将光配向膜加热值预设温度可以进一步蒸发光配向膜中的小分子杂质。
[0071]本发明的实施例提供的光配向膜杂质去除方法，首先控制气体抽出设备开始工作并通过气体输入设备的控制开关控制气体输入设备的供气管道导通，对加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气；然后控通过气体输入设备的控制开关控制气体输入设备的供气管道截止，通过继续工作的气体抽出设备减小密封装置内部的压强，提高真空度，最后当密封腔体内部的压强达到预设压强时，控制加热设备开始工作，将放置于密封腔体内部的配向膜加热至预设温度，所以本发明的实施例在较低温度时除去除光配向中产生小分子杂质，因此可以去除光配向过程中光配向膜产生的小分子杂质且不影响配向膜以及其他元件。
[0072]可选的，在对加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气前，方法还包括:
[0073]通过过滤网对进入密封腔体的气体进行过滤。
[0074]大气中可能含有灰尘颗粒、水蒸气等杂质，若灰尘颗粒和空气一起进入密封腔体内部，则可能会污染放置于密封腔体内的光配向膜，而在对加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气前通过过滤网对进入密封腔体的气体进行过滤，过滤对空气中的灰尘颗粒、水蒸气等杂质，进而可以有效避免空气中的大致污染光配向膜。
[0075]可选的，预设温度大于190°C且小于250°C。
[0076]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种光配向膜杂质去除装置，其特征在于，包括:加热设备、气体抽出设备以及气体输入设备； 所述加热设备形成一个密封腔体，用于对放置于所述密封腔体内部的配向膜进行加执.JtW ， 所述气体抽出设备通过抽气管道与所述密封腔体连通，用于抽取所述密封腔体内的气体； 所述气体输入设备包括供气管道和控制开关，所述供气管道与所述密封腔体连通，所述控制开关用于控制所述供气管道的导通或截止；所述气体输入设备用于在所述控制开关的控制下通过供气管道向所述密封腔体内输送气体。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述抽气管道设置于所述密封腔体的第一侧，所述气体输入设备的供气管道设置于所述密封腔体的第二侧；其中，所述密封腔体的第一侧与所述密封腔体的第二侧相互远离。3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述气体输入设备还包括过滤网；所述过滤网用于对进入所述密封腔体的气体进行过滤。4.根据权利要求1-3任一项所述的装置，其特征在于，所述加热设备用于将放置于腔体内部的配向膜加热至预设温度，所述预设温度大于190°C且小于250°C。5.一种光配向膜杂质去除方法，其特征在于，应用于权利要求1-4任一项所述的光配向膜杂质去除装置；该方法包括: 控制所述气体抽出设备开始工作并通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道导通，对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气； 当换气时间达到预设时间时，控制所述加热设备开始工作； 当放置于所述密封腔体内部的配向膜的温度达到预设温度时，通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道截止。6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，在对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气前，所述方法还包括: 通过过滤网对进入所述密封腔体的气体进行过滤。7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述预设温度大于190°C且小于250°C。8.一种光配向膜杂质去除方法，其特征在于，应用于权利要求1-4任一项所述的光配向膜杂质去除装置；该方法包括: 控制所述气体抽出设备开始工作并通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道导通，对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气； 当换气时间达到预设时间时，通过所述气体输入设备的控制开关控制所述气体输入设备的供气管道截止； 当所述密封腔体内部的压强达到预设压强时，控制所述加热设备开始工作，将放置于所述密封腔体内部的配向膜加热至预设温度。9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在对所述加热设备形成的密封腔体内的气体进行换气前，所述方法还包括: 通过过滤网对进入所述密封腔体的气体进行过滤。10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述预设温度大于190°C且小于250°C。
【专利摘要】本发明提供一种光配向膜杂质去除装置和方法，涉及显示器技术领域，用于去除光配向过程中光配向膜中产生的小分子杂质且不影响配向膜以及其他元件。该装置包括：加热设备、气体抽出设备以及气体输入设备；加热设备形成一个密封腔体，用于对放置于密封腔体内部的配向膜进行加热；气体抽出设备通过抽气管道与密封腔体连通，用于抽取密封腔体内的气体；气体输入设备包括供气管道和控制开关，供气管道与密封腔体连通，控制开关用于控制供气管道的导通或截止；气体输入设备用于在控制开关的控制下通过供气管道向密封腔体内输送气体。本发明的实施例用于显示器的制造。
【IPC分类】G02F1/13, G02F1/1337
【公开号】CN105137660
【申请号】CN201510623836
【发明人】张军
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 合肥京东方光电科技有限公司
【公开日】2015年12月9日
【申请日】2015年9月25日