摩擦辊轮异物去除装置及摩擦配向设备的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种摩擦辊轮异物去除装置及摩擦配向设备。所述摩擦辊轮异物去除装置包括:异物检测结构，用于检测所述摩擦布上是否存在异物，且当检测到所述摩擦布上存在异物时发出控制信号；异物去除结构，用于接收所述控制信号后启动，去除所述摩擦布上的异物。所述摩擦辊轮异物去除装置通过设置异物检测结构检测摩擦布上的异物，通过设置异物去除结构去除检测出的异物，能够对摩擦布上的异物进行检测并去除，以避免摩擦工艺后产生不良基板。
【专利说明】
摩擦辊轮异物去除装置及摩擦配向设备
技术领域
[0001]本实用新型涉及显示器制造技术领域，尤其是指一种摩擦辊轮异物去除装置及摩擦配向设备。
【背景技术】
[0002]传统TFT_LCD(薄膜晶体管液晶显不器，ThinFilm Transistor Liquid CrystalDisplay)的制造过程包括Cell阶段。在这阶段中必不可少的过程是摩擦配向工艺，即配向膜经过摩擦配向后，在表面形成沟槽，使得滴注的液晶分子可以沿沟槽方向有规律排列。
[0003]如图1所示为现有技术TFT-1XD制造过程中的摩擦配向工艺的结构示意图，待配向的基板I设置于机台2上，机台2能够水平移动;摩擦配向设备设置有摩擦辊轮3，位于机台2的正上方，且能够上下移动；当摩擦辊轮3与待配向的基板I进行接触性摩擦后，基板I即具备了配向功能。
[0004]上述方式的摩擦工艺，由于摩擦配向过程中，摩擦辊轮3上的摩擦布4表面会产生异物，如玻璃碎肩、布毛等，使得摩擦配向后的基板I产生划伤及其他不良现象，造成配向后基板的品质不佳，影响显示器的性能。
[0005]因此为避免摩擦配向工艺中基板不良的发生，有必要对摩擦辊轮上的异物进行检测。
【实用新型内容】
[0006]本实用新型技术方案的目的是提供一种摩擦辊轮异物去除装置及摩擦配向设备，用以检测并去除摩擦辊轮上的异物，以避免摩擦工艺后产生不良基板。
[0007]本实用新型提供一种摩擦辊轮异物去除装置，用于去除摩擦滚轮的摩擦布上的异物，其中，所述摩擦辊轮异物去除装置包括:
[0008]异物检测结构，用于检测所述摩擦布上是否存在异物，且当检测到所述摩擦布上存在异物时发出控制信号；
[0009]异物去除结构，用于接收所述控制信号后启动，去除所述摩擦布上的异物。
[0010]优选地，上述所述的摩擦辊轮异物去除装置，其中，所述摩擦辊轮异物去除装置还包括:
[0011]异物回收结构，包括一回收空间；
[0012]所述异物去除结构在去除所述摩擦布上的异物时，所述回收空间位于所述异物去除结构的正下方，所述异物脱离所述摩擦布后落入所述回收空间内。
[0013]优选地，上述所述的摩擦辊轮异物去除装置，其中，所述异物去除结构与所述异物回收结构一体设置，其中所述回收空间设置于所述异物去除结构的下方位置。
[0014]优选地，上述所述的摩擦辊轮异物去除装置，其中，所述异物回收结构还包括与所述回收空间连通的至少一个真空吸附管路和分别与每一所述真空吸附管路连接的一抽真空元件。
[0015]优选地，上述所述的摩擦辊轮异物去除装置，其中，所述摩擦辊轮异物去除装置还包括:
[0016]导向板，设置于所述异物去除结构与待配向基板之间，所述导向板包括导向平面，所述导向平面用于对经过异物去除后摩擦布进行毛向梳理。
[0017]优选地，上述所述的摩擦辊轮异物去除装置，其中，所述导向板还包括与所述导向平面连接的导向斜面，且所述导向斜面与所述导向平面位于靠近所述异物去除结构的一侧相连接。
[0018]优选地，上述所述的摩擦辊轮异物去除装置，其中，所述异物去除结构包括一刮除板，通过所述刮除板对摩擦布进行刮扫，去除摩擦布上的异物。
[0019]优选地，上述所述的摩擦辊轮异物去除装置，其中，所述刮除板采用聚醚醚酮材料制成。
[0020]优选地，上述所述的摩擦辊轮异物去除装置，其中，所述异物检测结构包括:
[0021]用于发射检测信号的信号发射器，沿所述摩擦辊轮的轴线相垂直方向设置于所述摩擦辊轮的一侧，其中所述检测信号的发射方向垂直于所述摩擦辊轮的轴线方向；
[0022]用于接收所述检测信号的信号接收器，设置于所述检测信号的传输方向上，且沿所述摩擦辊轮的轴线相垂直方向设置于所述摩擦辊轮的另一侧；
[0023]控制器，用于监测所述信号发射器和所述信号接收器，当所述信号接收器未接收所述信号发射器所发射的检测信号或者所接收的检测信号的能量小于所述信号发射器所发射检测信号的能量时，发出使所述异物去除结构启动的所述控制信号。
[0024]优选地，上述所述的摩擦辊轮异物去除装置，其中，所述异物检测结构包括:
[0025]用于发射检测信号的信号发射器，沿所述摩擦辊轮的轴线的方向设置于所述摩擦辊轮的一侧，其中所述检测信号的发射方向平行于所述摩擦辊轮的轴线方向；
[0026]用于接收所述检测信号的信号接收器，设置于所述检测信号的传输方向上，且沿所述摩擦辊轮的轴线方向设置于所述摩擦辊轮的另一侧；
[0027]控制器，用于监测所述信号发射器和所述信号接收器，当所述信号接收器未接收所述信号发射器所发射的检测信号或者所接收的检测信号的能量小于所述信号发射器所发射检测信号的能量时，发出使所述异物去除结构启动的所述控制信号。
[0028]优选地，上述所述的摩擦辊轮异物去除装置，其中，所述信号发射器为激光发射器。
[0029]本实用新型还提供一种摩擦配向设备，包括摩擦辊轮，所述摩擦辊轮上设置有摩擦布，其中还包括如上任一项所述的摩擦辊轮异物去除装置。
[0030]优选地，上述所述的摩擦配向设备，其中，所述摩擦配向设备还包括:
[0031 ]用于放置待配向基板的承载平台；
[0032]其中所述摩擦辊轮异物去除装置设置于所述承载平台的第一边缘远离相对的第二边缘的一侧，所述第一边缘至所述第二边缘的方向为所述摩擦辊轮对待配向基板进行摩擦配向时的移动方向。
[0033]本实用新型具体实施例上述技术方案中的至少一个具有以下有益效果:
[0034]本实用新型实施例所述摩擦辊轮异物去除装置，通过设置异物检测结构检测摩擦布上的异物，通过设置异物去除结构去除检测出的异物，能够对摩擦布上的异物进行检测并去除，以避免摩擦工艺后产生不良基板。
【附图说明】
[0035]图1表示现有技术TFT-1XD制造过程中的摩擦工艺的结构示意图；
[0036]图2表示本实用新型所述摩擦辊轮异物去除装置中，异物检测结构和异物去除结构相对于摩擦辊轮的位置关系的第一种结构示意图；
[0037]图3表示本实用新型第一实施例所述摩擦辊轮异物去除装置的结构示意图；
[0038]图4表示本实用新型第二实施例所述摩擦辊轮异物去除装置的结构示意图；
[0039]图5表示本实用新型第二实施例所述摩擦辊轮异物去除装置在摩擦配向工艺中的工作状态示意图；
[0040]图6表示本实用新型所述摩擦辊轮异物去除装置中，异物检测结构和异物去除结构相对于摩擦辊轮的位置关系的第二种结构示意图。
【具体实施方式】
[0041]为使本实用新型要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合具体实施例及附图进行详细描述。
[0042]本实用新型具体实施例所述摩擦辊轮异物去除装置，用于去除摩擦辊轮的摩擦布上的异物，其中，所述摩擦辊轮异物去除装置包括:
[0043]异物检测结构，用于检测所述摩擦布上是否存在异物，且当检测到所述摩擦布上存在异物时发出控制信号；
[0044]异物去除结构，用于接收所述控制信号后启动，去除所述摩擦布上的异物。
[0045]本实用新型实施例所述摩擦辊轮异物去除装置，通过设置异物检测结构检测摩擦布上的异物，通过设置异物去除结构去除检测出的异物，能够对摩擦布上的异物进行检测并去除，以避免摩擦工艺后产生不良基板。
[0046]优选地，上述结构的摩擦辊轮异物去除装置还包括:
[0047]异物回收结构，包括一回收空间；
[0048]当异物去除结构在去除摩擦布上的异物时，该异物回收空间位于异物去除结构的正下方，异物脱离摩擦布后能够落入回收空间内。
[0049]通过设置异物回收结构，使得从摩擦布上清除下来的异物能够被回收，以免落入摩擦配向设备的其他地方，从其他位置落入执行摩擦工艺的基板上。
[0050]优选地，为避免异物去除结构对摩擦布去除异物后，对摩擦布表面毛向造成影响，上述结构的摩擦辊轮异物去除装置还进一步包括:
[0051]导向板，设置于异物去除结构与待配向基板之间，所述导向板包括能够使经过所述异物去除结构进行异物去除后的所述摩擦布，在上面摩擦滚动后进行毛向梳理的导向平面。
[0052]通过在对待配向基板执行摩擦工艺之前，摩擦辊轮在导向平面上进行摩擦滚动，对摩擦布的毛向进行梳理，保证摩擦毛的状态能够满足摩擦工艺过程要求。
[0053]另一方面，上述结构的摩擦辊轮异物去除装置中，所述异物检测结构可以通过发射激光、红外等检测信号，检测摩擦布上是否存在异物，当检测到存在异物时，向异物去除结构发送控制信号，使异物去除结构接收控制信号后启动，对摩擦布上存在异物的位置位置进行异物清除，如可以采用刮扫方式进行异物清除。
[0054]以下结合附图对本实用新型具体实施例所述摩擦辊轮异物去除装置的具体结构进行详细描述。
[0055]实施例一
[0056]图2为本实用新型第一实施例所述摩擦辊轮异物去除装置相对于摩擦辊轮的位置关系的结构示意图。参阅图2，所述摩擦辊轮异物去除装置包括:
[0057]异物检测结构10，用于检测所述摩擦布上是否存在异物，且当检测到所述摩擦布上存在异物时发出控制信号；
[0058]异物去除结构20，用于接收所述控制信号后启动，去除所述摩擦布上的异物。
[0059]在进行异物去除时，异物检测结构10和异物去除结构20设置于摩擦辊轮3的下方位置，摩擦辊轮3上设置有进行摩擦工艺所需要的摩擦布4。
[0060]具体地，异物检测结构10包括:
[0061]用于发射检测信号的信号发射器11;和
[0062]用于接收信号发射器11所发射检测信号的信号接收器12;
[0063]用于监测信号发射器11和信号接收器12，当信号接收器12未接收信号发射器11所发射的检测信号或者所接收的检测信号的能量小于所述信号发射器所发射检测信号的能量时，发出使所异物去除结构20启动的控制信号的控制器13。
[0064]本实用新型第一实施例中，如图2所示，信号发射器11沿摩擦辊轮3的轴线的方向设置于摩擦辊轮3的一侧，信号接收器12沿摩擦辊轮3的轴线方向设置于摩擦辊轮3的另一侧，且信号发射器11所发射检测信号的发射方向平行于摩擦辊轮3的轴线方向，信号接收器12设置于检测信号的传输方向上。具体地，信号发射器11沿平行于摩擦辊轮3的轴线方向朝信号接收器12发射检测信号时，如图2所示，用于检测摩擦布4的底端上位于同一直线(平行于轴线)的多个位置点上是否存在异物，只要位于该直线的任一位置存在异物时，信号接收器12则接收检测信号的能量相较于信号发射器11所发射检测信号的能量减少，甚至接收不到检测信号，基于该一原理，可以检测摩擦布4上位于同一直线的多个位置点上是否存在异物。
[0065]另外，异物检测结构10所包括的控制器13分别与信号发射器11和信号接收器12相连接，结合图2，与信号发射器11相连接的控制器13能够获知信号发射器11向信号接收器12发出检测信号的能量大小，并能够获知信号接收器12所接收检测信号的能量大小，当信号发射器11与信号接收器12之间不在异物时，信号接收器12所接收检测信号的能量与信号发射器11所发射检测信号的能量大小相等;而当信号发射器11与信号接收器12之间存在异物时，由于异物的存在会使得检测信号被反射或部分、全部能量被吸收，信号接收器12所接收检测信号的能量与信号发射器12所发射检测信号的能量不会相等。因此，控制器13通过比较信号接收器12所接收检测信号和信号发射器11所发射检测信号的能量大小，即能够判断出摩擦布4是否存在异物，当判断存在异物时，发出控制信号。
[0066]本实用新型第一实施例中，信号发射器11为一激光发射器，也即所发射检测信号为激光，当然信号发射器11并不仅限于为这一种，如也可以为红外线发射器。
[0067]进一步，参阅图2，本实用新型第一实施例所述摩擦辊轮异物去除装置还包括异物去除结构20，当对摩擦辊轮3进行异物去除时，异物去除结构20设置于摩擦辊轮3的下方位置，且位于信号发射器11与信号接收器12之间。
[0068]本实施例中，异物去除结构20包括一刮除板，通过刮除板对摩擦布进行刮扫，去除摩擦布上的异物。
[0069]另外，本实用新型第一实施例中异物去除结构20通过控制装置可移动地设置于摩擦辊轮3的下方位置，控制装置可以为一发动机，与异物检测结构10的控制器13相连接，用于接收控制器发出的控制信号。当接收到异物检测结构10的控制器13所发出的控制信号时，控制装置控制异物去除结构20朝靠近摩擦辊轮3的方向移动(例如可以为如图2所示向上箭头的指示方向)，沿水平方向、在摩擦布4的下端进行刮除，使异物脱离摩擦布4。待刮除完成后，控制装置又进一步控制异物去除结构20朝远离摩擦辊轮3的方向移动(例如可以为如图2所示的向下箭头的指示方向)，以免影响摩擦布4上异物的进一步检测。
[0070]上述设置的异物去除结构20中，包括用于对摩擦布进行刮除的刮除板21还包括用于固定刮除板的固定结构22，其中与摩擦布4相接触的刮除板的材料采用聚醚醚酮材料制成，采用该材料制成的异物去除结构20既能够达到刮除异物的效果又能够避免对摩擦布4产生损伤。对于固定结构22的制成材料并没有任何限制，只要能够起到夹持并固定刮除板的作用即可。
[0071]另外，本实用新型第一实施例中，如图2所示，沿摩擦辊轮3的轴线方向，异物刮除结构20的刮除板21的长度与摩擦辊轮3的长度相同，这样通过异物去除结构的一次刮除过程，可以使摩擦布4的底端沿摩擦辊轮3的轴线方向相平行方向的一条直线位置上的多个异物一次性进行刮除，使工艺过程简单、方便。
[0072]基于包括上述异物检测结构10和异物去除结构20的所述摩擦辊轮异物去除装置，在异物检测结构10朝摩擦布4上的预设位置发射检测信号进行异物检测过程中，与摩擦辊轮3相连接的驱动装置控制摩擦辊轮3绕轴心转动，以保证摩擦布上任一点都可以经过一次检测。在转动过程中，当检测到摩擦布4上的其中一位置存在异物时，驱动装置控制摩擦辊轮3停止转动，待异物去除结构20向上移动刮除异物后，摩擦辊轮3继续转动并同时进行异物检测。
[0073]较佳地，参阅图3和图4，本实用新型第一实施例所述摩擦辊轮异物去除装置还进一步包括:
[0074]异物回收结构30，包括一回收空间31。
[0075]采用异物回收结构30，当异物去除结构20对预设位置进行刮扫时，回收空间31位于异物去除结构的正下方，异物脱离摩擦布后落入回收空间中，以实现对摩擦布上所去除异物的回收，以免落入摩擦配向设备的其他地方，从其他位置落入执行摩擦工艺的基板上。
[0076]进一步较佳地，如图3和图4所示，异物回收结构30还包括与回收空间31连通的至少一真空吸附管路32和分别与每一真空吸附管路32连接的一抽真空元件(图中未显示)。具体地，异物回收结构30中构成回收空间31的构件采用合金材料制成，真空吸附管路32采用塑料制成，且需要保证一定的洁净度要求，以避免异物回收装置上所沾附的异物会被带到摩擦布4上。
[0077]通过设置真空吸附管路32和抽真空元件，采用抽真空方式使回收空间31内形成朝真空吸附管路32流动的气流，这样落入回收空间31内的异物能够随气流的流动进入真空吸附管路32的内部，进一步保证异物的有效回收。
[0078]较佳地，真空吸附管路32设置于回收空间31的底部，且沿底部的长度方向排列设置多个。
[0079]本实用新型实施例中，异物回收结构30与异物去除结构20为独立的结构，如图3所示，当需要异物去除结构20对摩擦布上的异物进行刮除时，在使异物去除结构20移动到摩擦辊轮3的下方位置的同时，也同时使异物回收结构30移动，回收空间31位于异物去除结构20下方即可，具体位置关系如图4所示。较佳地，为避免异物去除结构20所刮除的异物落入回收空间31的外部，回收空间31位于异物去除结构20与刮除方向相反的一侧。
[0080]进一步，参阅图3、和图5，本实用新型第一实施例所述摩擦辊轮异物去除装置中，还进一步包括:
[0081]导向板40，设置于异物去除结构20与待配向基板50之间，导向板40包括一导向平面41，经过异物去除结构20刮扫后的摩擦辊轮3在导向平面41上摩擦滚动后，可以完成毛向梳理。
[0082]参阅图5，在摩擦配向工艺之前使摩擦辊轮3在导向平面41上进行摩擦滚动，对摩擦布的毛向进行梳理，可以保证摩擦布4的状态能够满足摩擦配向工艺的要求。
[0083]较佳地，参阅图3，导向板40还包括与导向平面41连接的导向斜面42，导向斜面42与导向平面41位于靠近异物去除结构20的一侧相连接。
[0084]当摩擦辊轮3在导向板40上摩擦滚动进行摩擦布导向时，摩擦布4沿导向斜面42慢慢滚动至导向平面41上，这样通过导向斜面42的设置，避免摩擦布4直接与导向平面41的直角边缘接触，避免对摩擦布4产生损伤。具体地，导向平面41和导向斜面42可以分别为白玻璃。
[0085]实施例二
[0086]参阅图4，本实用新型还提供第二实施例的摩擦辊轮异物去除装置，其中与第一实施例相同，该装置包括异物检测结构10、异物去除结构20、异物回收结构30和导向板40，异物检测结构10包括信号发射器11和信号接收器12，异物回收结构30包括回收空间31和真空吸附管路32，导向板40包括导向平面41和导向斜面42，上述各部分结构与第一实施例相同，在此不再赘述。
[0087]与第一实施例不同，在第二实施例中，异物回收结构30与异物去除结构20可以为一体连接结构，且回收空间31位于异物去除结构20沿刮除方向的相反方向一侧。采用该结构，当需要异物去除结构20对摩擦布上的异物进行刮除时，异物去除结构20与异物回收结构30—起移动至摩擦辊轮3的下方位置，且在异物去除结构20朝刮除方向移动对摩擦布进行异物刮除时，回收空间31在异物去除结构20的后面实现异物的回收。
[0088]采用以上第一实施例和第二实施例所述摩擦辊轮异物去除装置，参阅图5和结合图2所示，在摩擦辊轮3的转动过程中，信号发射器11沿平行于摩擦辊轮3的轴线方向朝信号接收器12发射检测信号，通过控制器13监测信号发射器11所发射检测信号的能量大小和信号接收器13所接收检测信号的能量大小，判断摩擦布上是否在异物，并利用异物去除结构20进行异物去除，达到有效检测到摩擦布上的异物并进行回收的目的。
[0089]在第一实施例和第二实施例中，异物检测结构10的信号发射器11在进行信号发射时，如图2所示，信号发射器11所发射检测信号的发射方向平行于摩擦辊轮3的轴线方向，用于检测摩擦布上，摩擦辊轮3的轴线方向相平行方向的位置上是否存在异物。可以理解的是，异物检测结构相对于摩擦辊轮的设置位置不限于采用该种设置方式，如图6所示，信号发射器11也可以沿垂直于摩擦辊轮3的轴线方向朝信号接收器12发射检测信号，用于检测摩擦布4上是否存在异物。具体地，信号发射器11沿摩擦辊轮3的轴线相垂直方向设置于摩擦辊轮3的一侧，信号接收器12设置于摩擦辊轮3的另一侧，且信号发射器所发射检测信号的发射方向垂直于摩擦辊轮3的轴线方向，信号接收器13设置于检测信号的传输方向上，以能够接收到信号发射器11所发射的检测信号。
[0090]在检测过程中，异物检测结构10可沿平行于摩擦辊轮3的轴线方向移动，移动速度保证摩擦布的下端位置，平行于摩擦辊轮3的轴线方向上的各位置点均能够依次被扫描检测，当检测到该平行于摩擦辊轮3的轴线方向上的一位置点存在异物时，即可以启动异物去除结构20对摩擦布的下端位置进行刮扫进行异物去除。因此，异物检测结构的该种设置方式同样能够保证摩擦布4上的异物被检测到并进行去除。
[0091 ]本实用新型还提供一种摩擦配向设备，包括摩擦辊轮，其中摩擦辊轮上设置有摩擦布，其中摩擦配向设备还包括如上任一实施例的摩擦辊轮异物去除装置。
[0092]参阅图5所示，采用具有摩擦辊轮异物去除装置的摩擦配向设备，包括:
[0093]用于放置待配向基板的承载平台60;
[0094]其中上述结构的所述摩擦辊轮异物去除装置设置于承载平台60的第一边缘远离相对的第二边缘的一侧，所述第一边缘至所述第二边缘的方向为摩擦辊轮对待配向基板进行摩擦配向时的移动方向。
[0095]具体地，如图5所示，承载平台60上同时设置有导向板40和待配向基板50，且导向板40设置于摩擦辊轮3与待配向基板50之间，异物检测结构10、异物去除结构20和异物回收结构30设置于摩擦辊轮3的下方，当对摩擦辊轮3上的摩擦布4完成异物检测后，沿摩擦配向时的移动方向，摩擦辊轮3移动至导向板40的导向平面41进行毛向梳理，使得摩擦布4的毛向在摩擦配向工艺之前整齐一致，，保证后续摩擦配向过程的正常进行，确保基板品质。
[0096]采用上述进行异物去除之后再进行摩擦配向后的基板，表面均匀一致，避免了由于摩擦辊轮存在异物造成水平线不良、ESD不良及划伤不良等缺陷。
[0097]较佳地，在摩擦配向工艺中，每摩擦一次基板之间都采用上述的摩擦辊轮异物去除装置进行一次异物的处理，这样可以很好的避免由于基板上异物造成的辊轮异物粘附和损伤，不会对后续的基板造成不良影响。
[0098]因此，采用上述的摩擦辊轮异物去除装置，可以用于批量基板进行摩擦配向的中间过程中所粘附的异物进行去除，从而实现批量基板摩擦配向过程中实时的去除摩擦辊轮上所粘附的异物。
[0099]进一步地，采用上述的摩擦辊轮异物去除装置的摩擦配向设备，装置简单、可操作性强，通过批量基板摩擦配向过程中实时的去除摩擦辊轮上所粘附的异物，能够保证摩擦辊轮的品质，进而大大降低生产过程中产生的划伤、水平线、ESD等等不良，实验检测证明，不良率可以降低1%?2%;且摩擦辊轮的使用寿命从目前的600小时能够提升至1200小时，使用寿命提高了一倍。
[0100]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种摩擦辊轮异物去除装置，用于去除摩擦滚轮的摩擦布上的异物，其特征在于，所述摩擦辊轮异物去除装置包括: 异物检测结构，用于检测所述摩擦布上是否存在异物，且当检测到所述摩擦布上存在异物时发出控制信号； 异物去除结构，用于接收所述控制信号后启动，去除所述摩擦布上的异物。2.如权利要求1所述的摩擦辊轮异物去除装置，其特征在于，所述摩擦辊轮异物去除装置还包括: 异物回收结构，包括一回收空间； 所述异物去除结构在去除所述摩擦布上的异物时，所述回收空间位于所述异物去除结构的正下方，所述异物脱离所述摩擦布后落入所述回收空间内。3.如权利要求2所述的摩擦辊轮异物去除装置，其特征在于，所述异物去除结构与所述异物回收结构一体设置，其中所述回收空间设置于所述异物去除结构的下方位置。4.如权利要求2所述的摩擦辊轮异物去除装置，其特征在于，所述异物回收结构还包括与所述回收空间连通的至少一个真空吸附管路和分别与每一所述真空吸附管路连接的一抽真空元件。5.如权利要求1至4任一项所述的摩擦辊轮异物去除装置，其特征在于，所述摩擦辊轮异物去除装置还包括: 导向板，设置于所述异物去除结构与待配向基板之间，所述导向板包括导向平面，所述导向平面用于对经过异物去除后摩擦布进行毛向梳理。6.如权利要求5所述的摩擦辊轮异物去除装置，其特征在于，所述导向板还包括与所述导向平面连接的导向斜面，且所述导向斜面与所述导向平面位于靠近所述异物去除结构的一侧相连接。7.如权利要求1所述的摩擦辊轮异物去除装置，其特征在于，所述异物去除结构包括一刮除板，通过所述刮除板对摩擦布进行刮扫，去除摩擦布上的异物。8.如权利要求7所述的摩擦辊轮异物去除装置，其特征在于，所述刮除板采用聚醚醚酮材料制成。9.如权利要求1所述的摩擦辊轮异物去除装置，其特征在于，所述异物检测结构包括: 用于发射检测信号的信号发射器，沿所述摩擦辊轮的轴线相垂直方向设置于所述摩擦辊轮的一侧，其中所述检测信号的发射方向垂直于所述摩擦辊轮的轴线方向； 用于接收所述检测信号的信号接收器，设置于所述检测信号的传输方向上，且沿所述摩擦辊轮的轴线相垂直方向设置于所述摩擦辊轮的另一侧； 控制器，用于监测所述信号发射器和所述信号接收器，当所述信号接收器未接收所述信号发射器所发射的检测信号或者所接收的检测信号的能量小于所述信号发射器所发射检测信号的能量时，发出使所述异物去除结构启动的所述控制信号。10.如权利要求1所述的摩擦辊轮异物去除装置，其特征在于，所述异物检测结构包括: 用于发射检测信号的信号发射器，沿所述摩擦辊轮的轴线的方向设置于所述摩擦辊轮的一侧，其中所述检测信号的发射方向平行于所述摩擦辊轮的轴线方向； 用于接收所述检测信号的信号接收器，设置于所述检测信号的传输方向上，且沿所述摩擦辊轮的轴线方向设置于所述摩擦辊轮的另一侧； 控制器，用于监测所述信号发射器和所述信号接收器，当所述信号接收器未接收所述信号发射器所发射的检测信号或者所接收的检测信号的能量小于所述信号发射器所发射检测信号的能量时，发出使所述异物去除结构启动的所述控制信号。11.如权利要求9或10所述的摩擦辊轮异物去除装置，其特征在于，所述信号发射器为激光发射器。12.一种摩擦配向设备，包括摩擦辊轮，所述摩擦辊轮上设置有摩擦布，其特征在于，还包括如权利要求1至11任一项所述的摩擦辊轮异物去除装置。13.如权利要求12所述的摩擦配向设备，其特征在于，所述摩擦配向设备还包括: 用于放置待配向基板的承载平台； 其中所述摩擦辊轮异物去除装置设置于所述承载平台的第一边缘远离相对的第二边缘的一侧，所述第一边缘至所述第二边缘的方向为所述摩擦辊轮对待配向基板进行摩擦配向时的移动方向。
【文档编号】G02F1/1337GK205643977SQ201620517782
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年5月27日
【发明人】安午伟, 左洪业, 贾爱珍, 李伟, 冯文超, 石虎兆, 范文宾
【申请人】北京京东方显示技术有限公司, 京东方科技集团股份有限公司