阻挡肋、包括该阻挡肋的等离子体显示板及相关方法

专利名称：阻挡肋、包括该阻挡肋的等离子体显示板及相关方法
技术领域：
本发明的实施例涉及等离子体显示板(PDP)。更具体地，本发明的实 施例涉及形成阻挡肋(barrier rib )的方法以及包括该阻挡肋的PDP。
背景技术：
通过由电极施加电压到两个基板之间的放电单元中的放电气体产生紫 外(uv)光从而uv光可以激发放电单元中的磷光体层以引发可见光的发 射，PDP可以显示图^f象。放电单元可以通过两个基板例如前基板和底基板之 间的阻挡肋来限定。阻挡肋可以包括PDP的显示区域即显示图像的区域中 的内阻挡肋以及非显示区域即显示区域外部的区域中的伪阻挡肋(dummy barrier rib )。
通常，阻挡肋可以通过图案化干燥的阻挡肋材料形成为预定的结构。例 如，矩形掩模可以置于干燥的阻挡肋材料上，因此阻挡肋材料可以通过矩形 掩模进行喷砂以形成对应于矩形掩模的阻挡肋结构，接着烘烤阻挡肋结构形 成阻挡肋。喷砂(sandblasting)可以包括通过喷嘴以大的速度沿向下的方向 散布沙粒去除阻挡肋材料的部分。
然而，在喷砂、期间，过量的阻挡肋材津牛会被去除从而底切(undercut) 阻挡肋结构，例如底切非显示区域中伪阻挡肋结构的边缘。具体地，非显示 区域的边缘处的阻挡肋结构会比其它的阻挡肋结构例如内阻挡肋结构具有 更大的暴露到喷砂的表面面积，从而会去除非显示区域边缘处的阻挡肋材料 的较大部分。此外，沿向下方向行进的沙粒会弹回到向上的方向从而与其它 的沙粒碰撞，因此一些沙粒的方向会改变，例如沿平行于基板的方向，从而 底切阻挡肋结构例如伪阻挡肋结构的边缘。
底切的阻挡肋结构在烘烤期间会变形。具体地，底切的阻挡肋结构可以 包括干燥的阻挡肋材料的伸出到底切部分之外的部分。在烘烤期间，从阻挡 肋结构的粘合剂(binder)蒸发会导致阻挡肋结构收缩。然而，底切部分会 阻碍伸出到底切部分之外的干燥的阻挡肋材料的收缩，从而导致该部分突出例如向离开底;S^反的方向突出。具有这样的非均匀结构的阻挡肋即具有/人底 基板离开的突出部分的阻挡肋可以引起伪阻挡肋与PDP的前面板之间的不 稳定的连接，从而在PDP工作期间产生振动和噪音。

发明内容
本发明的实施例旨在提供一种形成阻挡肋的方法以及包括该阻挡肋的
PDP，其基本上克服了相关技术的一个或多个缺点。
本发明的实施例的一个特征是提供了 一种形成无底切部分的阻挡肋的方法。
本发明的实施例的另 一个特征是提供了具有改进结构的阻挡肋的PDP。 本发明的实施例的再一个特征是提供了具有减少的震动和噪音的PDP。 本发明的上述和其它的特征以及优点的至少一个可以通过提供一种 PDP来实现，该PDP包括第一基板；面对第一基板的第二基板；内阻挡 肋，在第一基板与第二基板之间的PDP的显示区域中以限定放电单元；至 少一个伪阻挡肋，在第一基板与第二基板之间的PDP的非显示区域中，非 显示区域在显示区域外部，伪阻挡肋包括至少 一个弯曲端部以及在弯曲端部 中的腔(cavity);放电电极，在第一基板与第二基板之间以在放电单元中产 生放电；以及每个放电单元中的至少一个磷光体层。
伪阻挡肋的弯曲端部可以具有椭圓形，腔在弯曲端部的中心。伪阻挡肋 的弯曲端部可以具有椭圓形，腔可以是偏心的。腔可以在弯曲端部的中心与 附着到弯曲端部的线性体之间。伪阻挡肋的弯曲端部可以具有圆形，腔可以 在弯曲端部的中心中或在该中心与附着到弯曲端部的线性体之间。PDP还可 以包括互相平行的多个伪阻挡肋，伪阻挡肋的弯曲端部水平或垂直地对齐。 PDP还可以包括互相平行的多个伪阻挡肋，伪阻挡肋的弯曲端部以Z字形 (zigzag)布置。PDP还可以包括互相平行的多个伪阻挡肋，伪阻挡肋的弯 曲端部以斜线布置。伪阻挡肋的弯曲端部可以附着到线性体，弯曲端部的宽 度大于线性体的宽度。伪阻挡肋的弯曲端部可以附着到线性体，弯曲端部和 线性体的高度基本相等。PDP还可以包括互相平行的多个伪阻挡肋，最外面 伪阻挡肋的宽度大于其它伪阻挡肋的每个的宽度。
本发明的上述和其它的特征以及优点的至少 一个还可以通过提供一种 用于形成PDP的阻挡肋的掩模来实现，该掩模包括至少一个具有线性体的阻挡肋图案、附着到该线性体的至少一个弯曲端部以及在弯曲端部中的腔。 本发明的上述和其它的特征以及优点的至少 一个还可以通过提供一种
形成PDP的方法来实现，该方法包括在面对的第一基板与第二基板之间 的PDP的显示区域中形成内阻挡肋以限定放电单元；在第一基板与第二基 板之间的PDP的非显示区域中形成至少一个伪阻挡肋，非显示区域在显示 区域的外面，伪阻挡肋包括至少一个弯曲端部以及在弯曲端部中的腔；在第 一基板与第二基板之间形成放电电极；以及在每个放电单元中形成至少一个 磷光体层。
形成伪阻挡肋可以包括形成多个伪阻挡肋为条状图案。形成伪阻挡肋可 以包括使伪阻挡肋的弯曲端部成形为具有椭圓形或圓形；以及在弯曲端部 的中心中或在该中心与附着到弯曲端部的线性体之间形成腔。形成伪阻挡肋 可以包括在阻挡肋材料上形成伪阻挡肋图案掩模，伪阻挡肋图案掩模包括至 少一个弯曲端部和在弯曲端部中的腔。形成伪阻挡肋还可以包括去除围绕 伪阻挡肋图案掩模的阻挡肋材料的部分，从而阻挡肋材料在伪阻挡肋图案掩 模下的部分被成形以对应于伪阻挡肋图案掩模；以及去除伪阻挡肋图案掩 模。形成伪阻挡肋图案掩模可以包括形成具有弯曲端部的多个图案，弯曲端 部垂直地或者水平地对齐，或者斜线地或以Z字形设置。形成伪阻挡肋图案 掩模可以包括形成具有弯曲端部的多个图案，每个弯曲端部的宽度大于各自 的图案的任何其它部分的宽度。形成伪阻挡肋图案掩模可以包括形成多个图 案，多个图案的最外面图案的宽度大于任何其它图案的宽度。


通过参照附图详细描述本发明的示范性实施例，对本领域的技术人员来 说，本发明的上述和其它的特征以及优点将变得更加明显，附图中 图1示出根据本发明实施例的PDP的阻挡肋图案掩模的平面图； 图2示出图1中区域B的放大图； 图3示出图1的伪阻挡肋图案掩模中的图案的示意图； 图4示出根据本发明另一实施例的伪阻挡肋图案掩模中的图案的示意
图5示出根据本发明的实施例的伪阻挡肋图案掩模中图案的布置； 图6示出根据本发明另 一 实施例的伪阻挡肋图案掩模中图案的布置；
7图7A-7C示出根据本发明的实施例的形成伪阻挡肋的方法中的顺序步
骤；
图8A-8D示出形成伪阻挡肋的比较方法中的顺序步骤；
图9A-9B分别示出根据本发明实施例形成的内阻挡肋和伪阻挡肋的截 面的扫描电子显微(SEM)图像；
图10A-10B分别示出采用图8A-8D的比较方法形成的内阻挡肋和伪阻 挡肋的截面的SEM图像；以及
图11示出根据本发明的实施例的PDP的视图。
具体实施例方式
下文将参照附图对本发明的示范性实施例进行更为充分的描述，附图中 示出了本发明的示范性实施例。然而，本发明的各个方面可以以不同的形式 实施，而不应被解释为限于此处列出的实施例。而是，提供这些实施例使得 本公开透彻和完整，并且将本发明的范围充分传达给本领域的技术人员。
附图中，为清晰起见可能会夸大元件和区域的尺寸。应当理解，当称一 个元件在另一元件或基板"上，，时，它可以直接在另一元件或基板上，或者 还可以存在中间元件。此外，应该理解，术语"上"可能4又指一个元件相对 于另一个元件的垂直布置，并且可以不指垂直方向，例如指水平方向。此外， 还应当理解，当称一个元件在两个元件"之间，，时，它可以是两个元件之间 唯一的元件，或者还可以存在一个或多个插入的元件。相同的附图标记始终 指代相同的元件。
在下文中，将参照图11对具有根据本发明的实施例形成的阻挡肋的PDP 的示范性实施例进行更详细地描述。
如图11所示，PDP200可以包括互相接合的前面^反201和后面板202。 前面板201可以包括前基板2、第一放电电极4、前电介质层和保护层。第 一放电电极4可以形成在前基板2上，并可以嵌入在前电介质层中。保护层 可以涂敷在前电介质层上以保护前电介质层。后面板202可以包括底基板1 、 第二放电电极7、底电介质层、限定放电单元12的阻挡肋以及放电单元12 中的磷光体层13。第二放电电极7可以形成在底基板1上，并可以嵌入在底 电介质层中。底基板1可以由玻璃材料形成。
阻挡肋可以形成在底基板1上，例如在底电介质层上。阻挡肋可以包括内阻挡肋16和伪阻挡肋(未示出)。内阻挡肋16可以形成在PDP 200的显 示区域D中以限定前面板201和后面板202之间的空间中的放电单元12, 从而在放电单元12中，放电可以在第一放电电极4和第二放电电极7之间 发生。内阻挡肋16可以防止相邻放电单元12之间的放电干扰。伪阻挡肋可 以在内阻挡肋16的外围，并可以形成在PDP 200的围绕显示区域D的非显 示区域N中。
阻挡肋可以例如通过喷砂方法形成。首先，阻挡肋材料例如阻挡肋浆料 (paste)可以涂敷在底基板上形成阻挡肋浆料层，然后被烘干。光敏材料例 如干膜电阻(dry film resistor, DFR)可以层叠在烘干的阻挡肋浆料层上。接 着，UV光可以辐射在光敏材料上例如通过具有预定图案的光掩模来处理光 敏材料的部分。光敏材料的处理过的部分可以由UV光弱化，从而将显影液 施加到光敏材料可以去除光敏材料的处理过的部分。因此，光敏材料的未处 理部分可以被保留以形成用于图案化阻挡肋的掩模。 一旦用于图案化阻挡肋 的掩模形成在阻挡肋浆料层上，喷砂可以通过掩模进行从而使阻挡肋浆料层 成形为阻挡肋。不同的掩模可以用于形成内阻挡肋16和伪阻挡肋。
图1示出根据本发明的实施例用于PDP200的内阻挡肋掩模和伪阻挡肋 掩模的平面图。参照图1，内阻挡肋图案掩模10可以包括用于形成PDP200 的显示区域D中的内阻挡肋16的多个图案，并可以具有任何合适的结构， 例如多个图案可以设置成矩阵结构或条状图案。第一伪阻挡肋图案掩模20 和第二伪阻挡肋图案掩模25可以包括用于形成PDP 200的非显示区域N中 的伪阻挡肋的多个图案，并可以具有任何合适的结构，例如多个图案可以设 置成条状图案。PDP200的非显示区域N可以在显示区域D的外部，例如非 显示区域N可以包括围绕显示区域D的多个部分。
如图1所示，第一伪阻挡肋图案掩才莫20的图案可以比第二伪阻挡肋图 案掩模25的图案长。因此，第一伪阻挡肋图案掩模20可以沿PDP200的底 基板的长边延伸，例如可以沿图1中示出的非显示区域N的上部和下部水平 地延伸。第二伪阻挡肋图案掩模25可以沿PDP 200的底基板的短边延伸， 例如可以在非显示区域N中垂直于第一伪阻挡肋图案掩才莫20延伸。因此， 如图l所示，第一伪阻挡肋图案掩模20和第二伪阻挡肋图案掩模25可以围 绕内阻挡肋图案掩模10。在第 一伪阻挡肋图案掩模20和第二伪阻挡肋图案 掩模25的每个中，图案的数目和位置可以根据PDP200的设计和规格调整。
9例如，如图l所示，第一伪阻挡肋图案掩模20可以包括沿非显示区域N的
下部的彼此间隔开并互相平行例如布置成条状图案的六个图案。应该指出， 例如在喷砂工艺期间，条状图案可以比其它的构造(例如矩阵图案)提供更
高的排出(exhaustion)效率，所以由第一伪阻挡肋图案掩模20和第二伪阻 挡肋图案掩模25形成的具有条状图案的伪阻挡肋可以具有改进的结构和排 出效率，从而延长了 PDP200的寿命并减少了 PDP200由于疲劳引起的均匀 性的恶化。
图2示出图1中区域B的放大图。图3示出根据本发明实施例的第一伪 阻挡肋图案掩模20的单个图案的放大示意图。图4示出根据本发明另一实 施例的第一伪阻挡肋图案掩模20的单个图案的放大示意图。图5示出根据 本发明的实施例伪阻挡肋图案掩模20中的图案的布置。图6示出根据本发 明另一实施例伪阻挡肋图案掩模30中的图案的布置。应该指出，为方便起 见在下文中只描述第 一伪阻挡肋图案掩模20的图案，第二伪阻挡肋图案掩 模25的图案可以具有基本类似于第一伪阻挡肋图案掩模20的图案的结构， 除了如以前所述的长度和方向之外。
参照图2-3，第一伪阻挡肋图案掩模20可以包括多个内图案22和最外 面图案21。相对于内图案22，最外面图案21可以是第一伪阻挡肋图案掩模 20的最外面的图案。如图5-6所示，最外面图案21可以是第一伪阻挡肋图 案掩模20的最外面的图案，并可以具有宽度为"c"的线性体(linear body )。 如图5-6所示，多个内图案22可以具有宽度为"d"的线性体，宽度"d" 可以小于最外面图案21的宽度"c"。最外面图案21可以具有较大的宽度， 从而使最外面伪阻挡肋14具有增大的宽度。最外面伪阻挡肋14可以比内伪 阻挡肋14的每个更多地暴露到沙粒，所以与内伪阻挡肋14相比，可以去除 最外面伪阻挡肋14的较大部分。由此，由于最外面图案21的宽度"c"大 于内图案22的每个的宽度"d，，，所以由喷砂形成的最外面伪阻挡肋14的宽 度可以大于内伪阻挡肋14的每个的宽度。
如图2-3所示，内图案22和最外面图案21的每个可以包括第一端部21a 与第二端部21e之间的线性体21f。具体地，第一端部21a和第二端部21e 可以形成在线性体21f的各自的相对边缘，所以线性体21f可以在第一端部 21a与第二端部21e之间延伸。因而，当喷石少工艺进行时，包括最外伪阻挡 肋的多个伪阻挡肋14可以4皮此平行地形成，第一端部21a和第二端部21e可以分别地对齐。例如，如图2所示，多个内图案22和最外面图案21可以 沿水平方向延伸并可以互相平行，所以它们的第 一端部21 a可以纟皮对齐为形 成沿垂直方向的列。第一端部21a的列可以与内阻挡肋图案掩模10的边缘 对齐，如图2所示。
在另一示例中，如图5所示，内图案22和最外面图案21可以布置成交 替平行图案，从而第一端部21a可以以Z字形布置。换句话说，内图案22 和最外面图案21可以相对于彼此横向地偏移(offset),从而例如每个内图案 22可以相对于邻近其的两个内图案22在相同方向上碎黄向地偏移。在另 一示 例中，如图6所示，内图案22和最外面图案21可以布置成斜图案(diagonal pattern),从而第一端部21a可以沿斜线布置。通过以Z字形或斜线布置第 一端部21a，伪阻挡肋14可以彼此相对近的形成而没有其间的干扰，尽管第 一端部21a和第二端部21e的相对大的宽度。
如图3-4示出，第一端部21a和第二端部21e可以弯曲。具体地，第一 端部21a和第二端部21e可以具有任何合适的凸起结构(convex structure ), 也就是当从任何方向观察时,相对于线性体21f沿平行于前基板的平面向外 突出的结构。换句话说，图案21的第一端部21a和第二端部21e的宽度即 沿垂直于线性体21f的方向所测得的距离可以大于线性体21f的宽度。此外， 第一端部21a和第二端部21e可以沿水平方向向外突出。例如，如图3所示， 第一端部21a和第二端部21e可以是椭圆形的。在另一示例中，如图4所示， 第一端部21a和第二端部21e可以是圓形的。然而，本发明不限于此。
腔21b可以形成在第一端部21a中和/或第二端部21e中。如图3-4所示， 腔21b可以偏心地形成在第一端部21a和/或第二端部21e中。具体地，腔 21b可以形成得更靠近线性体21f而不是更靠近相应的端部21a或21e的外 边缘。例如，如图3-4还示出，腔21b与第一端部21a的外边缘之间的水平 距离"a"可以大于腔21b与线性体21f之间的水平距离"b"。应该指出，多 个内图案22和最外面图案21的结构细节可以基本上彼此类似，除了其宽度 即沿垂直于内图案22和最外面图案21的方向所测得的距离以外，如前面参 照图5-6所描述的。
图7A-7C示出通过根据本发明的实施例的伪阻挡肋图案掩模20形成伪 阻挡肋14的方法中的顺次的步骤。如图7A所示，伪阻挡肋图案掩模20可 以形成在阻挡肋材料14，上，从而多个内图案22和最外面图案21可以置于阻挡肋材料14，上。阻挡肋材料14，可以通过伪阻挡肋图案掩模20进行喷砂 去除阻挡肋材料14，的部分从而形成伪阻挡肋14。 一旦对应于图案21的多 个伪阻挡肋14形成(如图7B所示)，伪阻挡肋图案掩模20可以被去除(如 图7C所示)。
如图7C所示，每个伪阻挡肋14可以包括对应于各个图案21的端部21a 的端部14a。具体地，由于图案21的第一端部21a是凸起的，也就是向外弯 曲，所以在喷砂工艺期间阻挡肋材料14，可以被切割成具有对应于图案21的 第一端部21a的凸起部分。因而，最终的伪阻挡肋14可以不被底切。例如， 每个伪阻挡肋14的端部14a可以包括第 一 凸起部分14c和第二凸起部分14d， 如图7B所示。第一凸起部分14c和第二凸起部分14d可以在喷^Kx艺期间 被切削以向外突出，所以底切例如沿向内方向向端部14a的中心的切削不会 发生。
此外，如图7C所示，每个伪阻挡肋可以被形成为包括对应于图案21的 腔21b的腔14b。如果在喷砂工艺的早期移动基板，则伪阻挡肋14的端部 14a可以由于其的外围位置而暴露到较强的喷砂的撞击。伪阻挡肋14的端部 14a中的腔14b的形成可以促进沙粒的分散，所以喷砂对不是端部14a的部 分的撞击可以被防止或基本上最小化。换句话说，通过腔21b形成腔14b可 以防止伪阻挡肋14的弯曲端部14a的变形，也就是如果腔21b不存在，则 伪阻挡肋14的端部14a会变形。
端部14a中的腔14b可以对应于第一端部21a中的腔21b的位置，例如 可以根据由沙粒对伪阻挡肋14的端部14a的切削程度来决定。因此，伪阻 挡肋14的端部14a中的腔14b可以更靠近伪阻挡肋14的线性部分，即对应 于图案21的线性体21f的部分，而不是端部14a的外边缘。例如，伪阻挡肋 14的腔14b可以设置在伪阻挡肋14的端部14a的中心中或者可以离心向伪 阻挡肋14的线性部分。
因此，当进行喷砂工艺和烘烤时，腔14b可以形成在形状像椭圓形或圆 形的端部14a的中心中，所以伪阻挡肋14的耐久性可以被实质地提高。具 体地，在伪阻挡肋14的烘烤期间，伪阻挡肋14的所有部分即端部14a和线 性部分可以以基本相同的速率收缩，所以端部14a和线性部分的高度可以基 本一致。换句话说，相对于线性部分，端部14a可以不在向上的方向突出， 所以伪阻挡肋14的失效可以基本上被减少从而提高伪阻挡肋14的稳定性。示例l:第一PDP被制造，其具有根据本发明的实施例的阻挡肋即具有 弯曲端部的阻挡肋。具体地，第一 PDP的阻挡肋通过采用#4居本发明实施 例的第一伪阻挡肋图案掩模20和第二伪阻挡肋图案掩模25以及内阻挡肋图 案掩模10形成，所以伪阻挡肋形成为具有如前参照图7A-7C所述的弯曲端部。
对比示例l:第二PDP被制造，其具有矩形阻挡肋即没有弯曲端部。第 二 PDP的阻挡肋利用与第一 PDP的阻挡肋基本相同的方法形成，除了使用 不同的图案掩模之外。如图8A所示，第二 PDP的阻挡肋通过采用阻挡肋浆 料层3，上的矩形图案掩模5 ，即通过在每个平面内具有矩形截面的图案的掩 模形成。沿箭头方向进行喷砂，如图8B所示，在每个最终阻挡肋3中形成 底切部分3a,如图8C所示。因此，当烘烤阻挡肋3时，悬垂在每个阻挡肋 3的底切部分3a的上部3b^f皮向上"^是升以突出远离底切部分3a，如图8D所
引起阻挡肋3的部分而不是上部3b收縮，即由于底切部分3a，上部3b被提
升而不是收缩。
图9A-9B分别示出根据示例1形成的内阻挡肋和伪阻挡肋的截面的 SEM图像。图9A示出内阻挡肋的500倍放大的SEM图像，图9B示出伪阻 挡肋的IOO倍放大的SEM图像。图10A-10B分别示出根据对比示例1形成 的内阻挡肋和伪阻挡肋的SEM图像。
由图10A-10B可见，内阻挡肋的高度是120|am,伪阻挡肋的高度是 13(Him。换句话说，第二PDP的阻挡肋具有不一致的高度，因为伪阻挡肋的 端部向上突出(如区域E所示)从而增大了伪阻挡肋的高度。如图9A-9B 中可见，内阻挡肋的高度是118nm，伪阻挡肋的高度是117(im。换句话说， 第一 PDP的阻挡肋具有基本一致的高度，这意味着伪阻挡肋的端部在烘烤 期间没有向上提升。如图9B所示，中心部分I具有比外围部分O更浅的颜 色，从而表明部分O是凸起的。
如上所示，根据本发明的实施例的伪阻挡肋的形成可以有利于防止阻挡 肋的边缘沿向上的方向突出，从而改善了前面板与后面板彼此的接合，减小 PDP工作期间的振动和噪音。
在此已经公开了本发明的示范性实施例，尽管使用了特定的术语，但它们只以通常和描述的意义来使用和解释，而不是为了限制。因此，本领域的 普通技术人员应当理解，可以在形式和细节上做出各种变化而不背离如附加 的权利要书求中的本发明的的精神和范围。
本申请要求于2007年12月5日提交到韩国知识产权局的名称为"Plasma Display Panel and Method of Forming Barrier Rib(等离子体显示4反及形成阻挡 肋的方法)"的韩国专利申请No. 10-2007-0125758的优先权，其全部内容以 引用方式合并在此。
权利要求
1. 一种等离子体显示板，包括第一基板；第二基板，面对所述第一基板；内阻挡肋，在所述第一基板与所述第二基板之间的所述等离子体显示板的显示区域中限定放电单元；至少一个伪阻挡肋，在所述第一基板与所述第二基板之间的所述等离子体显示板的非显示区域中，所述非显示区域在所述显示区域外面，所述伪阻挡肋包括至少一个弯曲端部以及在所述弯曲端部中的腔；放电电极，在所述第一基板与所述第二基板之间以在所述放电单元中产生放电；以及在每个所述放电单元中的至少一个磷光体层。
2. 如权利要求1所述的等离子体显示板，其中所述伪阻挡肋的弯曲端部 具有椭圆形，所述腔在所述弯曲端部的中心。
3. 如权利要求1所述的等离子体显示板，其中所述伪阻挡肋的弯曲端部 具有椭圆形，所述腔偏离中心。
4. 如权利要求3所述的等离子体显示板，其中所述腔在所述弯曲端部的 中心与附着到所述弯曲端部的线性体之间。
5. 如权利要求1所述的等离子体显示板，其中所述伪阻挡肋的弯曲端部 具有圓形，所述腔在所述弯曲端部的中心或在所述中心与附着到所述弯曲端 部的线性体之间。
6. 如权利要求1所述的等离子体显示板，还包括互相平行的多个伪阻挡 肋，所述伪阻挡肋的弯曲端部水平或垂直地对齐。
7. 如权利要求1所述的等离子体显示板，还包括互相平行的多个伪阻挡 肋，所述伪阻挡肋的弯曲端部以Z字形布置。
8. 如权利要求1所述的等离子体显示板，还包括互相平行的多个伪阻挡 肋，所述伪阻挡肋的所述弯曲端部布置成斜线。
9. 如权利要求1所述的等离子体显示板，其中所述伪阻挡肋的弯曲端部 附着到线性体，所述弯曲端部的宽度大于所述线性体的宽度。
10. 如权利要求1所述的等离子体显示板，其中所述伪阻挡肋的弯曲端部附着到线性体，所述弯曲端部和所述线性体的高度基本相等。
11. 如权利要求1所述的等离子体显示板，还包括互相平行的多个伪阻 挡肋，最外面的所述伪阻挡肋的宽度大于其它的所述伪阻挡肋的每个的宽度。
12. —种形成等离子体显示板的阻挡肋的掩模，该掩模包括至少一个阻 挡肋图案，所述阻挡肋图案包括线性体；附着到所述线性体的至少一个弯曲端部；以及 在所述弯曲端部中的腔。
13. —种形成等离子体显示板的方法，包括在面对的第 一基板与第二基板之间的所述等离子体显示板的显示区域 中形成内阻挡肋以限定放电单元；在所述第 一基板与所述第二基板之间的所述等离子体显示板的非显示 区域中形成至少一个伪阻挡肋，所述非显示区域在所述显示区域的外面，所 述伪阻挡肋包括至少 一个弯曲端部以及在所述弯曲端部中的腔；在所述第一基板与所述第二基板之间形成放电电极；以及在每个所述放电单元中形成至少一个磷光体层。
14. 如权利要求13所述的方法，其中形成所述伪阻挡肋包括以条状图案 形成多个所述伪阻挡肋。
15. 如权利要求13所述的方法，其中形成所述伪阻挡肋包括 使所述伪阻挡肋的弯曲端部成形为具有椭圆形或圆形；以及 在所述弯曲端部的中心或在所述中心与附着到所述弯曲端部的线性体之间形成所述腔。
16. 如权利要求13所述的方法，其中形成所述伪阻挡肋包括在阻挡肋材 料上形成伪阻挡肋图案掩模，所述伪阻挡肋图案掩模包括至少一个弯曲端部 和在所述弯曲端部中的腔。
17. 如权利要求16所述的方法，其中形成所述伪阻挡肋还包括去除围绕所述伪阻挡肋图案掩模的所述阻挡肋材料的部分，从而所述阻 挡肋材料在所述伪阻挡肋图案掩模下的部分被成形为对应于所述伪阻挡肋 图案掩模；以及去除所述伪阻挡肋图案掩^f莫。
18. 如权利要求16所述的方法，其中形成所述伪阻挡肋图案掩模包括形 成具有弯曲端部的多个图案，所述弯曲端部垂直地或者水平地对齐，或者斜 线地或以Z字形布置。
19. 如权利要求16所述的方法，其中形成所述伪阻挡肋图案掩模包括形 成具有弯曲端部的多个图案，每个所述弯曲端部的宽度大于各自的所述图案 的任何其它部分的宽度。
20. 如权利要求16所述的方法，其中形成所述伪阻挡肋图案掩模包括形 成多个图案，所述多个图案的最外面图案的宽度大于任何其它图案的宽度。
全文摘要
本发明提供了一种阻挡肋、包括该阻挡肋的等离子体显示板及相关方法。等离子体显示板(PDP)包括第一基板；面对第一基板的第二基板；内阻挡肋，在第一基板与第二基板之间的PDP的显示区域中以限定放电单元；至少一个伪阻挡肋，在第一基板与第二基板之间的PDP的非显示区域中，非显示区域在显示区域外面，伪阻挡肋包括至少一个弯曲端部以及在弯曲端部中的腔；放电电极，在第一基板与第二基板之间以在放电单元中产生放电；以及每个放电单元中的至少一个磷光体层。
文档编号H01J9/02GK101452800SQ200810184860
公开日2009年6月10日 申请日期2008年12月5日 优先权日2007年12月5日
发明者洪种基 申请人:三星Sdi株式会社