专利名称：一种照明装置的制作方法
技术领域：
本发明属光刻设备领域，尤其涉及一种照明装置。
背景技术：
光刻机系统中用到很多的对准系统，如掩模精预对准和掩模CHUCK对 准，其对准精度需要实现微米级别，通常采用的方法如图1所示直接使用 LD激光器光源或LED光源照射到某个特定的标记上，在标记的正下方使用 四象限探测器探测光强，在标记运动的过程中，四象限探测器探测出光强的 变化，通过算法将光强的变化量转换成标记的位置变化量。这种方法的缺点 是照明均匀性差、光功率低，导致对准精度差。
有鉴于此，如何解决上述方法中照明均匀性差和光功率低的问题，是本 领域的技术人员亟待解决的技术问题。
发明内容
有鉴于此，本发明的主要目的在于提高照明面实际使用光功率，从而提 高对准精度要求。本发明的另 一 个目的在于提高对准系统中照明的均匀性， 从而提高对准精度要求。
为解决上述技术问题，本发明采用了如下技术方案
一种'照明装置，包括光源，还包括凹面反射镜和凸面反射镜，且所述凹 面反射镜和凸面反射镜同轴，所述凹面反射镜具有透光区和不透光区，所述 光源至少为两个且设于以所述光轴为中心轴的同一圆周上，所述至少两个光 源发出的光依次经所述凹面反射镜的不透光区和凸面反射镜反射后的出射光 分别穿越凹面反射镜的透光区并汇聚于照明面。将两个以上光源同时收集并 汇聚到一个指定大小的照明区域，可以提高照明面实际使用光功率，从而提 高对准精度要求。所述透光区位于凹面反射镜的中央。 所述透光区为圆形。
所述光源均布于以光轴为中心轴的同 一 圓周上。由于多光源均布设置， 因此，可以提高对准系统中照明的均匀性，从而进一步提高对准精度要求。
所述光源为LD激光光源或LED光源。 本发明的有益效果
本发明由于采用多光源汇集到照明面上，因此，可以提高照明面实际使 用光功率，从而提高对准精度要求。由于多光源均布设置，因此可以提高对 准系统中照明的均匀性，进而提高对准区域范围内的线性灵敏度，从而进一 步提高对准精度要求。
图l是现有的照明装置的示意图； 图2是本发明照明装置实施例1结构示意图； 图3是本发明照明装置实施例1的侧视示意图； 图4是本发明照明装置实施例2的侧视示意图中l-光源；2-凹面反射镜，21-(凹面反射镜的)透光区；22-(凹面反射 镜的)不透光区，3-凸面反射4竟；4-照明面。
具体实施例方式
下面结合附图对本发明作清楚、完整地说明 实施例1
请参阅图2和图3，这种照明装置，包括光源l、凹面反射镜2和凸面反 射镜3,且所述凹面反射镜2和凸面反射镜3同轴。所述凹面反射镜2具有透 光区21和不透光区22。所述光源1至少为两个且"i殳于以所述光轴为中心轴的 同一圆周上。所述光源1为LD激光光源或LED光源，同时也可以4吏用其他 照明的光源。本实施例中所述光源1为两个LD光源1。所述凹面反射镜2和 凸面反射镜3共同组成一个照明准直系统，根据实际对准系统的需求，调整 照明准直系统的焦距，从而可以获得凹面反射镜2和凸面反射镜3的曲率半
4径。所述两个LD光源l发出的光依次经所述凹面反射镜2的不透光区22和 凸面反射镜3反射后分别穿越凹面反射镜2的透光区21并汇聚于照明面4。 由于采用多光源1并将这些光源汇集到同一照明面4上，可以提高照明面4 的总光能，即提高照明面4的实际使用光功率，从而可以有效提高对准精度。
所述透光区21位于凹面反射镜2的中央。所述透光区21为圓形。所述 透光区21的直径需要满足足以使凸面反射镜3的反射光穿越，即不能遮挡从 凸面反射镜3反射回来的光束。
可以，将所述两个LD光源1均匀设置于以光轴为中心轴的同一圆周上， 即使得每个光源1与光源1之间的圆周长相等。由于多光源1均匀设置，且 将这些光源同时校直到同一个照明面4上，可以提高该对准系统中照明的均 匀性，进而提高对准区域范围内的线性灵敏度，从而提高对准精度。另外， 也可以利用单个光源1相对位置的调节(倾斜、偏心或旋转)来提高照明均 匀性，进而提高对准精度要求。
实施例2
请参阅图4，本实施例与实施例1的区别在于，光源1采用5个均布的 LED光源。光源1越多，汇集到照明面4的光能越多，可以提高照明面4实 际使用光功率。4个LED光源1均布同时准直到同一个照明面4上，可以提 高照明均匀性，从而提高对准精度要求。
本发明由于釆用多光源汇集到照明面上，因此，可以提高照明面实际使 用光功率，从而提高对准精度要求。由于多光源均布设置，因此可以提高对 准系统中照明的均匀性，进而提高对准区域范围内的线性灵敏度，从而进一 步提高对准精度要求。总之，这种照明装置可以实现较好的照明均匀性和较 大的光功率。
虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明。本发 明所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可 作各种的更动与润饰。因此本发明的保护范围当视权利要求书所界定者为准。
权利要求
1.一种照明装置，包括光源，其特征在于还包括凹面反射镜和凸面反射镜，且所述凹面反射镜和凸面反射镜同轴，所述凹面反射镜具有透光区和不透光区，所述光源至少为两个且设于以所述光轴为中心轴的同一圆周上，所述至少两个光源发出的光依次经所述凹面反射镜的不透光区和凸面反射镜反射后的出射光分别穿越凹面反射镜的透光区并汇聚于照明面。
2. 如权利要求1所述的照明装置，其特征在于所述透光区位于凹面反射镜 的中央。
3. 如权利要求2所述的照明装置，其特征在于所述透光区为圆形。
4. 如权利要求1任意一项所述的照明装置，其特征在于所述光源均布于以 光轴为中心轴的同 一 圆周上。
5. 如权利要求1所述的照明装置，其特征在于所述光源为LD激光光源或 LED光源。
全文摘要
本发明属光刻设备领域，尤其涉及一种照明装置。这种照明装置，包括光源，还包括凹面反射镜和凸面反射镜，且所述凹面反射镜和凸面反射镜同轴，所述凹面反射镜具有透光区和不透光区，所述光源至少为两个且设于以所述光轴为中心轴的同一圆周上，所述至少两个光源发出的光依次经所述凹面反射镜的不透光区和凸面反射镜反射后的出射光分别穿越凹面反射镜的透光区并汇聚于照明面。由于采用多光源汇集到同一照明面上，因此，可以提高照明面实际使用光功率，从而提高对准精度要求。由于多光源均布设置，因此可以提高对准系统中照明的均匀性，进而提高对准区域范围内的线性灵敏度，从而进一步提高对准精度要求。
文档编号F21V19/00GK101586748SQ20091004904
公开日2009年11月25日 申请日期2009年4月9日 优先权日2009年4月9日
发明者储兆祥 申请人:上海微电子装备有限公司