平板显示器的制造方法

专利名称：平板显示器的制造方法
技术领域：
本发明涉及等离子显示面板等的平板显示器的制造方法。
背景技术：
近年来，即使在平板显示器中，容易大画面化的等离子显示面板(以下，称为 “PDP”)也成为了主流之一。现有的PDP在对置配置的前面板与背面板之间形成了多个放电单元。前面板具 有前面侧的玻璃基板、由形成在该玻璃基板上的一对扫描电极和维持电极构成的显示电 极对、和覆盖这些电极的电介体层及保护层。背面板具有背面侧的玻璃基板、形成在该玻 璃基板上的数据电极、覆盖该数据电极的电介体层、隔壁和荧光体层。并且，按照显示电极 对和数据电极立体交叉的方式对置配置前面板和被面板并密封，在内部的放电空间中封入 了放电气体。在此，在显示电极对和数据电极对置的部分形成了放电单元。在由此构成的 PDP的各放电单元内产生气体放电并使红色、绿色、蓝色各种颜色的荧光体励起发光，从而 进行彩色显示。扫描电极及维持电极是在宽度宽的条纹状的透明电极上层叠宽度窄的条纹状的 总线电极而形成的。透明电极是通过光刻法将在玻璃基板的整个面上利用溅射法等形成 的铟锡氧化物(以下，设为“ΙΤ0”)薄膜构图为条纹状而形成的。此时，同时形成后续工序 (步骤)所需的曝光掩模的对位用的对准标记(Alignment marks) 0总线电极是在形成有 透明电极及对准标记的玻璃基板上印刷导电性的感光性膏，在对位曝光掩模并进行了曝光 之后进行蚀刻而形成的(例如，参照专利文献1)但是，为了形成透明电极，需要用于利用溅射等形成ITO薄膜的大规模的真空装 置或高价的ITO靶物(target material)。进而，也需要用于对ITO薄膜进行构图的曝光机 或曝光掩模，从而不仅产生了生产设备大型化的问题还存在PDP生产率降低的问题。因此，作为不形成透明电极而制造PDP的方法，公开了一种利用导电性的总线电 极形成了扫描电极和维持电极的PDP(例如，参照专利文献2)。但是，在未形成透明电极的 PDP中，却需要利用其他方法形成对准标记。作为形成对准标记的方法，例如公知由印刷、激 光刻印等形成的方法(例如，参照专利文献3)或利用与总线电极相同材料形成的方法等。平板显示器的对准标记的位置精度、形状精度及视认性是重要的。特别是，在近年 来逐渐成为主流的高精细度PDP中，特别要求高的位置精度及形状精度。但是却存在如下 的问题为了制造未利用透明电极的电极构成的PDP而必须通过其他方法形成对准标记， 从而制造线需要改造，制造工时增加了。例如，虽然公开了利用现有的感光性膏等形成对准标记的方法，但是却需要在形 成显示电极对前的阶段另外设置曝光、显影工序，故制造工时大幅度增加。另外，在利用现有的感光性导电膏等形成显示电极对时能够与显示电极对同时形 成对准标记。但是，在进行多次曝光而形成显示电极对的情况下无法适用该方法。实际上， 在形成显示电极对时，为了抑制由曝光掩模的损伤或废物附着引起的曝光不良而进行了 2次曝光。此时，为了防止第一次曝光和第二次曝光的位置偏移，从而用于至少2次对位曝光 掩模的对准标记是不可缺少的。

发明内容
本发明是鉴于上述课题进行的，其提供一种不用改造制造线、也不会较大增加工 时、能简单地形成具有高精度及良好视认性的对准标记，进而能够低成本制造生产率好的 平板显示器的平板显示器制造方法。专利文献1 日本特开2000-156158号公报专利文献2 日本特开2004-127951号公报专利文献3 日本特开2004-130789号公报本发明的平板显示器的制造方法具有在基板上形成感光性膜的步骤、通过曝光感光性膜来形成对准标记的步骤、和通过以显影感光性膜前的状态识别对准标记来检测基 板的位置的步骤。通过该方法从而不用改造制造线、也不会增加工时、能简单地形成具有高精度及 良好视认性的对准标记进而能够低成本制造生产率好的平板显示器。


图1是本发明的实施方式1中的PDP的分解立体图。图2A是表示该PDP的前面板的详细的图。图2B是表示该PDP的前面板的详细的图。图3A是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图3B是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图3C是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图3D是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图3E是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图3F是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图3G是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图3H是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图4A是表示该PDP的对准标记的图。图4B是表示该PDP的对准标记的图。图5A是表示该PDP的对准标记的详细的图。图5B是表示该PDP的对准标记的详细的图。
图5C是表示该PDP的对准标记的详细的图。图6A是用于说明该PDP的背面板的制造方法的图。图6B是用于说明该PDP的背面板的制造方法的图。图6C是用于说明该PDP的背面板的制造方法的图。图6D是用于说明该PDP的背面板的制造方法的图。图6E是用于说明该PDP的背面板的制造方法的图。图7A是用于说明本发明的实施方式2中的PDP的前面板的制造方法的图。
图7B是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图7C是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图7D是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。
图7E是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图7F是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。

图7G是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图7H是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图71是用于说明该PDP的前面板的制造方法的图。图8是表示本发明的实施方式1或2中的PDP的显示电极对的其他形状的详细的 图。图9A是表示本发明的实施方式1或2中的PDP的其他形状的对准标记的详细的图。图9B是表示该PDP的其他形状的对准标记的详细的图。图9C是表示该PDP的其他形状的对准标记的详细的图。图中10-PDP，20-前面板，21-(前面侧的)玻璃基板，22、62_扫描电极，23、63_维 持电极，24-显示电极对，26-电介体层，27-保护层，30-背面板，31-(背面侧的)玻璃基 板，32-数据电极，33-电介体层，34-隔壁，35-荧光体层，41、45、71-(第一)曝光掩模，42、 46-(第二)曝光掩模，47-第三曝光掩模，51、56、57、81-对准标记，221、222、231、232、621、 622、623、631、632、633-总线电极，221b、222b、231b、232b_ 黑色层，221bx、222bx、231bx、 232bx-黑色层的前体，221c、222c、231c、232c-导电层，221cx、222cx、231cx、232cx-导电层 的前体，bx-黑色感光性膜，ex-导电性感光性膜，MG-放电间隙。
具体实施例方式以下，利用附图以PDP的制造方法为例对本发明实施方式中的平板显示器的制造 方法进行说明。(实施方式1)图1是本发明的实施方式1中的PDPlO的分解立体图。PDPlO是通过对置配置前 面板20和背面板30并利用低熔点玻璃(未图示)密封周边部而构成的，在内部形成了多 个放电单元。背面板30具有背侧面的玻璃基板31、数据电极32、电介体层33、隔壁34和荧光体 层35。在玻璃基板31上相互平行地形成了多个数据电极32。并且，按照覆盖数据电极32 的方式形成了电介体层33，而且在其上形成了由纵隔壁34a和横隔壁34b构成的井状的隔 壁34，在电介体层33的表面和隔壁34的侧面形成了红、绿、蓝各种颜色的荧光体层35。并且，按照显示电极对24和数据电极32立体交叉的方式对置配置前面板20和背 面板30，在显示电极对24和数据电极32对置的部分形成了放电单元。在形成有放电单元 的图像显示区域的外侧位置，利用低熔点玻璃密封了前面板20和背面板30，在内部的放电 空间封入了放电气体。图2A和图2B是表示本发明的实施方式1中的PDPlO的前面板20的详细的图。图 2A是前面板20的正面的放大图，图2B是前面板20的截面的放大图。
扫描电极22具有总线电极221和总线电极222。维持电极23也具有总线电极231 和总线电极232。并且，在总线电极221与总线电极231之间形成了放电间隙MG。总线电极221、222分别由黑色层221b、222b和导电层221c、222c构成，总线电极 231、232也由黑色层231b,232b和导电层231c,232c构成。黑色层221b、222b、231b、232b是 为了从显示面侧观看PDPlO时使扫描电极22、维持电极23看起来黑而设置的。例如，在玻 璃基板21上将氧化钌等黑色材料形成为宽度窄的条纹状。并且，导电层221c、222c、231c、 232c是为了提高扫描电极22及维持电极23的导电性而设置的，是在黑色层221b、222b、 231b,232b上层叠含有银的导电性的材料后形成的。在本实施方式中，特别是作为在前面板20的制造中使用的各种膏，利用了黑色的 感光性膏(以下，设为“黑色感光性膏”)、导电性的感光性膏(以下，设为“导电性感光性 膏”)及电介体膏。以下，对各膏的制作方法进行说明。(黑色感光性膏) 黑色感光性膏是用于通过在玻璃基板21上涂覆并干燥形成第一感光性膜(以下， 设为“黑色感光性膜”)，然后对其曝光，形成黑色层221b、222b、231b、232b及对准标记的感 光性膏。黑色感光性膏由无机材料成分和有机材料成分构成，其中所述无机材料成分含有 作为固体成分的黑色材料和玻璃粉末，所述有机材料成分包括感光性聚合物、感光性单体 和光聚合引发剂(photo polymerization initiator)，上述黑色材料的粒径为1 μ m以下。黑色感光性膏是将由构成黑色材料和玻璃粉末构成的无机材料、和光固化性聚合 物等的感光性聚合物、感光性单体、光聚合引发剂及溶剂等各种有机材料调和为规定的组 成并均勻混合分散后形成的。作为黑色材料，例如能够利用氧化钌、氧化铁、氧化钴、氧化镍、氧化铜、二氧化锰 等的氧化物的至少一个。在此，为了提高对准标记的精度，将黑色颜料的平均粒径设定在 1 μ m以下，更优选设定在0. 01 μ m 0. 5 μ m。通过使膏中含有5wt% 40wt%的这些黑色 材料，从而能够形成良好的黑色层221b、222b、231b、232b及对准标记。由于在黑色材料比 5wt%少时颜色变淡，故对比度会降低。另夕卜，在比40wt%大时膏的软化点上升，另外难以匹 配玻璃基板21和热膨胀系数。进而，在曝光时紫外线不会到达下部、会产生黑色层的形成 不良，故不优选。作为玻璃粉末而言，能够利用以氧化铋为主要成分的玻璃粉末。玻璃粉末的平均 粒径优选0.3μπι Ι.Ομπι。在玻璃粉末的平均粒径大于Ι.Ομπι的情况下，会影响黑色 感光性膜bx的表面粗糙度，如后述使对准标记的识别精度变差。另一方面，在玻璃粉末 的平均粒径小于0. 3μπι的情况下，存在玻璃粉末凝集的情况且凝集体的粒径变大。艮口、 会影响黑色感光性膜bx的表面粗糙度，使对准标记的识别精度变差。且有，只要最大粒 子径在2. Ομπι以下就优选。玻璃粉末的组成优选分别含有30wt% 85wt%的氧化铋、 5wt% 30wt%的氧化硅、5wt% 20wt%的氧化硼、0. Iwt % IOwt %的氧化锆、2wt % 20wt%的氧化锌、lwt% 5wt%&氧化铝。为了提高对玻璃基板的粘结性，优选使膏中含有 25wt % 40wt %的玻璃粉末。另外，作为黑色感光性膏的无机材料，还可以包括导电性材料。作为导电性材料而 言，能够利用例如将平均粒径设在ι μ m以下，更优选0. 01 μ m 0. 5 μ m的银、钼、钯、钴、
镍、锰、钼、钌等的金属微粒子。
作为黑色感光性膏的有机材料而言，优选利用分子内具有羧基和不饱和双键的重量平均分子量500 100000的低聚体或聚合物，作为感光性聚合物。另外，作为感光性单 体而言，能够利用含有碳一碳不饱和键的化合物。通过将这些各种有机材料成分的含有量 设定在20wt% 60wt%，从而能够制作印刷特性良好的黑色感光性膏。另外，作为有机材 料，除了感光性聚合物、感光性单体、光聚合引发剂及溶剂以外，还能够根据需要加入粘合 齐IJ、紫外线吸光剂、敏化剂(sensitizer)、敏化辅助剂、聚合禁止剂、可塑剂、增稠剂、有机溶 齐U、氧化防止剂、分散剂、沉淀防止剂、均化剂等的添加剂。优选黑色感光性膏的粘度在2000cps 20000cps的范围内调整。例如，为了 利用丝网印刷法涂覆一次后得到膜厚5 μ m 20 μ m的黑色感光性膜，优选50000cps 200000cps。另外，为了利用刮刀涂布法或压模涂法(diecoater method)等得到黑色感光 性膜，优选1500cps 20000cpS。黑色感光性膏的粘度通过无机粉末、增稠剂、有机溶剂、可 塑剂、沉淀防止剂等的添加比例能够在上述的范围内调整。在本实施方式中，作为黑色材料而调和10wt%的平均粒径为0. Ιμπι的氧化钌、 26wt%的四氧化钴，作为玻璃粉末而调和12wt%的以氧化铋为主要成分的在市场上出售的 玻璃料，作为有机材料而调和22wt%的在市场上出售的光固化性聚合物、感光性单体和光 聚合引发剂的总和、以及30wt%的溶剂。接着，对用三根辊均勻混合分散这些物质后制作出 黑色感光性膏。(导电性感光性膏)导电性感光性膏是用于通过在黑色感光性膜上涂覆并干燥形成第二感光性膜 (以下，设为“导电性感光性膜”)然后对其曝光，形成导电层221c、222c、231c、232c的材料。 导电性感光性膏是将由以银为主要成分的导电性材料和玻璃粉末构成的无机材料成分、和 光固化性聚合物等的感光性聚合物、感光性单体、光聚合引发剂及溶剂等各种有机材料成 分调和为规定的组成之后均勻混合分散后形成的。作为导电性材料而言，为了更精细地形成导电层221c、222c、231c、232c，优选平均 粒径为0. 1 μ m 2. 0 μ m的银粉末，通过使膏中含有45wt%以上的银粉末从而能够形成优 选的导电层用图案。作为玻璃粉末而言，能够利用以氧化铋为主要成分的玻璃粉末。玻璃粉末的平均 粒径优选0. 3 μ m 1. 0 μ m，只要最大粒子径在2. 0 μ m以下就优选。作为玻璃粉末的组成 优选分别含有30wt % 85wt %的氧化铋、5wt % 30wt %的氧化硅、5wt % 20wt %的氧化 硼、0. lwt% 10wt%的氧化锆、2wt% 20wt%的氧化锌、lwt% 5wt%的氧化铝。另外， 为了提高对玻璃基板的粘结性，优选使膏中含有0.5wt% 5wt%的玻璃粉末。另外，上述 的各种有机材料通过在膏中含有20wt% 45wt%，从而能够形成具有良好印刷特性的导 电性感光性膏。在本实施方式中，调和69wt%的平均粒径0. 8 μ m的银粉末、3wt %的以氧化铋为 主要成分的在市场上出售的玻璃料、13wt%的同样在市场上出售的光固化性聚合物、感光 性单体和光聚合引发剂的总和、以及15wt%的溶剂，用三根辊均勻混合分散这些溶剂后制 作出导电性感光性膏。(电介体膏)电介体膏是用于形成电介体层26的材料。电介体膏是含有从氧化硼、氧化硅、氧化锌、碱土类氧化物、碱金属氧化物、氧化铋、氧化铝、氧化钼、氧化钨、氧化铈等中含有几个 的软化点520°C 590°C的电介体玻璃的膏。在本实施方式的电介体层26中，制作了含有电介体玻璃的电介体膏，所述电介 体玻璃含有35wt%的氧化硼、1.4wt%的氧化硅、27. 2wt%的氧化锌、3. 3wt%的氧化钡、 25wt%的氧化铋、1. Iwt %的氧化铝、4. Owt %的氧化钼、3. Owt %的氧化钨。由此制作出的电 介体玻璃的软化点约为570°C。其次，对PDPlO的制造方法进行说明。 图3A、图3B、图3C、图3D、图3E、图3F、图3G和图3H是用于说明本发明的实施方 式1中的PDPlO的前面板20的制造方法的图。将前面板20的制造工序划分为以下的5个 步骤，并对每一个步骤进行详细地说明。(第一步骤)在第一步骤中，作为基板而将基板21用于前面侧，在玻璃基板21上涂覆并干燥黑 色感光性膏后形成作为第一感光性膜的黑色感光性膜bx。首先，用碱洗净玻璃基板21。若 为42英寸的PDP，则玻璃基板21例如为大小为980mmX 554mm、厚度为1. 8mm的玻璃基板。其次，如图3A所示，利用丝网印刷法等的公知技术在玻璃基板21的整个面上涂覆 并干燥黑色感光性膏后形成黑色感光性膜bx。此时，在玻璃基板21上的未形成显示电极对 24的预定区域、且形成对准标记的区域预先涂覆黑色感光性膏。在本实施方式中，相当于玻 璃基板21四角的区域。但是，形成对准标记的区域并不现定于上述，也可以为玻璃基板21 长边侧的未形成显示电极对24的区域、或玻璃基板21短边侧的未形成显示电极对24的区 域。其次，如图3B所示，在黑色感光性膜bx上的未形成对准标记的预定区域形成作为 第二感光性膜的导电性感光性膜CX。导电性感光性膜CX是利用丝网印刷法等公知技术在 玻璃基板21的黑色感光性膜bx上涂覆并干燥导电性感光性膏而形成的。此时，在黑色感 光性膜bx上的未形成显示电极对的预定区域、且形成对准标记的区域未涂覆导电性感光 性膏。在本实施方式中，相当于玻璃基板21四角的区域。(第二步骤)在第二步骤中，利用第一曝光掩模对黑色感光性膜bx曝光后形成对准标记。在第 一曝光掩模41形成了用于形成总线电极221、222、231、232的图案、和用于形成对准标记51 的图案。如图3C所示，利用第一曝光掩模41进行第一次曝光。此时的曝光强度例如为 300mJ/cm2。于是在黑色感光性膜bx的表面浮起凹凸的图案，由这些形成对准标记51。由 此，进行了用于在被涂覆在玻璃基板21四角的区域的黑色感光性膜bx上形成对准标记51 并且在玻璃基板21的图像显示区域形成扫描电极22、维持电极23的第一次曝光。其中，由 于是在黑色感光性膜bx的显影前，故对准标记51作为浮在黑色感光性膜bx上的凹凸的图 案而出现。图4A和图4B是表示本发明的实施方式1中的PDPlO的对准标记51的图。图4A 是玻璃基板21的形成有对准标记51的部分的放大俯视示意图。图4B是玻璃基板21的形 成有对准标记51的部分的放大剖面图。另外，图5A、图5B及图5C是表示本发明的实施方 式1中的PDPlO的对准标记51的详细的图。图5A是用相机拍摄对准标记51的图像的示意图。图5B是表示第一曝光掩模41和玻璃基板21的对准标记51的关系的图。图5C是 表示用表面粗糙度计测定沿着图5A的A-A线的表面的形状的结果的图。由此，对准标记51是通过形成在玻璃基板21上涂覆并干燥黑色感光性膏后形成 的黑色感光性膜bx，并在黑色感光性膜bx的表面上至少设置凹部及凸部中的其中一个而 形成的。
在本实施方式中，如图5C所示，在与黑色感光性膜bx的表面，以相邻设置凹部和 凸部的凹凸形成了对准标记51，这些凹凸是通过曝光形成的。对准标记51的形状例如为纵 及横的长度分别为3mm、宽度为160 μ m的十字形状。凸部被认为是曝光后的区域，是通过黑 色感光性膜bx所包括的感光性单体因曝光聚合硬化后引起体积膨胀所形成的。另外，在曝 光后的区域和未曝光的区域的交界生出的相邻的凸部和凹部被认为如下生出。在曝光区域 中，感光性单体由曝光聚合硬化后液状单体的浓度变低。于是，在非曝光区域与曝光区域的 交界生出液状单体大的浓度梯度，且液状单体从非曝光区域向曝光区域扩散。通过该扩散 在交界附近的非曝光区域侧体积减少而生出凹部，另一方面在曝光区域侧通过扩散的液状 单体膨胀而生出凸部。由此，在非曝光区域与曝光区域的交界的曝光区域侧生出凸部，在非 曝光区域侧生出凹部，在黑色感光性膜bx的表面形成了可光学检测的对准标记51。且有，在曝光之后，黑色感光性膜bx的表面的凹凸比较小，且随着时间经过凹凸 会变大。因此，在本实施方式中，在第一次曝光之后设置了 30min 60min的放置时间。本发明者们利用表面粗糙度计测定了曝光后又经过了 60min后的对准标记51附 近的表面的形状。结果，如图5C所示确认了 曝光区域和非曝光区域的交界的凹部和凸 部的高低差(step difference)的振幅(amplitude)(=最大值_最小值)为0. 5 μ m 1. 0 μ m左右，能够作为对准标记充分地使用。另外，虽然由上述的扩撒、膨胀的程度只能生成凹部或凸部的情况存在，但是只要 高度差的振幅满足上述的程度就能被识别为对准标记。认为在照明照射到定位标记时，由于凹部或凸部的存在故由反射光中生出对比 度并被相机拍摄，从而能够检测形状。且有，除此之外，也考虑通过干燥体积缩小后在非曝光区域和曝光区域的交界生 出高低差的要因。实际上，通过在曝光之后使玻璃基板干燥，从而能够在短时间内形成对准 标记。(第三步骤)在第三步骤中，如图3D所示，以显影黑色感光性膜bx前的状态识别对准标记51， 进行用于形成扫描电极22及维持电极23的第二曝光掩模42的对位，从而进行黑色感光性 膜bx的第二次曝光。此时，将光照射到形成在黑色感光性膜bx的表面上的对准标记51，并 用相机拍摄对准标记51，从而进行第二曝光掩模的对位。在第二曝光掩模42中形成了用于 形成总线电极221、222、231、232的图案。但是，形成在第二曝光掩模42的图案设计得比第 一曝光掩模41的图案的宽度略窄。在本实施方式中，在第二曝光掩模42中形成了比形成 在第一曝光掩模41的总线电极221、222、231、232的图案的宽度窄20%左右的图案。此时， 若照射对准标记51的光过于扩散，则难以高精度地拍摄对准标记51。由此，优选通过利用 同轴落射照明系统(coaxial epi-illumination)将直线状的光照射到对准标记51上并拍 摄反射光的浓淡来识别对准标记51。且有，在高低差的振幅小于0. 5 μ m的情况下，即使利用同轴落射照明系统也存在不能充分识别对准标记的情况。另外，第二次曝光强度例如为 200mJ/cm2。由此，通过2次反复进行用于形成总线电极221、222、231、232的曝光，从而能够将 由曝光掩模41、42的损伤或垃圾附着引起的曝光不良实际抑制得几乎为零。另外，此时，为 了防止第一次曝光和第二次曝光的位置偏差，利用第一次曝光形成的对准标记进行第二次 的曝光掩模42的对位。而且，由于第二曝光掩模42的电极图案被设计得比第一曝光掩模 41的电极图案的宽度略窄，故即使在发生了一些位置偏差的情况下也不会较大地损害所形 成的电极的形状。(第四步骤)在第四步骤中，显影黑色感光性膜bx而形成扫描电极22及维持电极23。具体地 说，如图3E所示，进行黑色感光性膜bx的显影后形成黑色层221b、222b、231b、232b的前体 221bx、222bx、231bx、232bx 及导电层 221c、222c、231c、232c 的前体 221cx、222cx、231cx、 232cx。且有，显影后不一定在玻璃基板21上残存对准标记51。但是，在利用第二曝光掩模 42进行第二次曝光时，由于通过第二曝光掩模42的定位用的孔，对准标记51也被曝光，故 通常在玻璃基板21上残存对准标记51。其次，如图3F所示，烧制形成有这些黑色层221b、222b、231b、232b的前体221bx、222bx、231bx、232bx 及导电层 221c、222c、231c、232c 的前体 221cx、222cx、231cx、232cx 的玻璃基板21，形成总线电极221、222、231、232。此时的烧制的峰值温度优选为550°C 600°C，在本实施方式中为580°C。另外，总线电极221、222、231、232的厚度优选为Iym 6μπι，在本实施方式中为4μπι。且有，在本发明中，所谓“前体”称为涂覆黑色感光性膏等的构成部件用膏并进行 热处理，直到去除了含有的有机成分，而未熔融无机成分的状态的物质。(第五步骤)在第五步骤中，如图3G所示，在形成有总线电极221、222、231、232的玻璃基板21 上通过丝网印刷法、压模涂法等涂覆并干燥电介体膏后形成电介体层26的前体(未图示)。 然后，烧制电介体层26的前体(未图示)后形成厚度20 μ m 50 μ m的电介体层26。在本 实施方式中，约以590°C烧制电介体层26的前体(未图示)，而形成了厚度约40 μ m的电介 体层26。其次，如图3H所示，通过真空蒸镀法等公知技术在电介体层26上形成了以氧化镁 为主要成分的保护层27。由此，完成了前面板20。其次，对背面板30的制造方法进行说明。图6A、图6B、图6C、图6D、图6E是用于 说明本发明的实施方式1中的PDPlO的背面板30的制造方法的图。首先，如图6A所示，用碱洗净背面侧的玻璃基板31。其次，如图6B所示，利用丝网印刷法、光刻法等在玻璃基板31上以一定间隔条纹 状地形成以银为主要成分的导电性感光性膏，形成数据电极32的前体(未图示)。其次，烧 制形成有数据电极32的前体(未图示)的玻璃基板31，形成数据电极32。数据电极32的 厚度例如为2μπι 10 μ m，在本实施方式中为3 μ m。接着，如图6C所示，在形成有数据电极32的玻璃基板32上涂覆电介体膏，然后进行烧制，形成电介体层33。电介体层33的厚度例如约为5 μ m 15 μ m，在本实施方式中为 10 μ m。
接着，如图6D所示，在形成有电介体层33的玻璃基板31上涂覆了感光性电介体 膏之后，进行烧制，形成隔壁34的前体(未图示)。然后，利用曝光掩模进行感光、显影，形 成隔壁34。由此形成的隔壁的高度例如为ΙΟΟμπ! 150 μ m，在本实施方式中为120 μ m。然后，如图6E所示，在隔壁34的壁面及电介体层33的表面涂覆含有红色荧光体、 绿色荧光体、蓝色荧光体中的其中一种的荧光体墨。然后进行干燥、烧制，形成荧光体层35。作为红色荧光体而言，例如能够利用(Y，Gd)BO3:Eu, (Y，V)PO4:Eu等，作为绿色荧 光体而言，例如能够利用Zn2SiO4IMn, (Y，Gd)BO3:Tb, (Y，Gd)Al3(BO3)4:Tb等，作为蓝色荧光 体而言，例如能够利用 BaMgAlltlO17:Eu、Sr3MgSi2O8 = Eu 等。由此，完成了背面板33。然后，按照显示电极对24和数据电极32立体交叉的方式对置配置前面板20和背 面板30，在形成有放电单元的图像显示区域的外侧位置利用低熔点玻璃进行密封。然后，在 内部的放电空间封入含有氙的放电气体，从而完成了 PDP10。由此，在本实施方式中，具有在玻璃基板21上，形成黑色感光性膜bx的第一步 骤、通过曝光黑色感光性膜bx来形成对准标记51的第二步骤、和通过以显影黑色感光性膜 bx前的状态识别对准标记51来检测玻璃基板21的位置的第三步骤。通过该方法，不用改造制造线、也不会较大增加工时、能够简单地形成具有高精度 及良好视认性的对准标记进而能够低成本地制造生产率好的PDP。另外，只变更在形成显示电极对24时利用的第一曝光掩模41的图案就能够与第 一次曝光同时地形成对准标记51。因此，无需新的曝光掩模而能够更低成本地制造PDP。(实施方式2)实施方式2中的PDP的构造与图1、如2A及图2B所示的构造相同。另外，使用的 各种膏也与实施方式1相同。实施方式2与实施方式1不同的地方在于，在玻璃基板21上 涂覆并干燥黑色感光性膏之后，进行用于形成对准标记的曝光，然后涂覆导电性感光性膏。图7A、图7B、图7C、图7D、图7E、图7F、图7G、图7H、图71是用于说明本发明的实 施方式2中的PDPlO的前面板20的制造方法的图。将前面板20的制造工序划分为以下的 5个步骤，并对各步骤进行详细地说明。(第一步骤)在第一步骤中，在前面侧的玻璃基板21上涂覆并干燥黑色感光性膏，形成作为第 一感光性膜的黑色感光性膜bx。首先，用碱洗净玻璃基板21。其次，如图7A所示，在玻璃基板21上形成黑色感光 性膜bx。黑色感光性膜bx是利用丝网印刷法等公知技术在玻璃基板21的整个面上涂覆并 干燥黑色感光性膏而形成的。此时，在玻璃基板21上的未形成显示电极对24的预定区域、且形成对准标记区 域，预先涂覆黑色感光性膏。在本实施方式中，相当于玻璃基板21四角的区域。到此与第 一实施方式1相同。(第二步骤)在第二步骤中，如图7B所示，曝光黑色感光性膜bx，至少形成第一对准标记和第二对准标记。具体地说，利用对准标记专用的第一曝光掩模45进行用于形成第一对准标记56 和第二对准标记57的曝光。此时，对应于在形成电极时进行2次曝光，针对玻璃基板21的 四角的各位置形成各2个的对准标记56、57。由此形成的第一对准标记56及第二对准标记 57以浮在黑色感光性膜bx上的状态出现。此时的曝光强度例如为300mJ/cm2。其次，如图7C所示，在未形成第一对准标记及第二对准标记的黑色感光性膜bx上 的区域形成作为第二感光性膜的导电性感光性膜CX。导电性感光性膜CX是利用丝网印刷 法等公知技术在玻璃基板21的黑色感光性膜bx上涂覆并干燥上述的导电性感光性膏而形 成的。此时，在形成有对准标记的区域中未涂覆导电性感光性膏。如上述，在对准标记的曝光之后，黑色感光性膜bx的表面的凹凸较小，需要经过 某一程度的时间直到可作为对准标记使用。但是，在实施方式2中，在进行了用于形成对准 标记的曝光之后，由于在形成导电性感光性膜cx时使玻璃基板21干燥，故在短时间内形成 对准标记。(第三步骤)在第三步骤中，如图7D所示，识别第一对准标记56后对位第二曝光掩模46，并进 行用于形成扫面电极22及维持电极23的第一次曝光。具体地说，将光照射到形成在黑色 感光性膜bx的表面上的第一对准标记56，并用相机拍摄第一对准标记56，从而进行第二曝 光掩模46的对位。此时也优选利用同轴落射照明。在第二曝光掩模46形成了用于形成总 线电极221、222、231、232的图案。此时的曝光强度例如为200mJ/cm2。然后，如图7E所示，识别第二对准标记57后对位第二曝光掩模47，并进行用于形 成扫描电极22及维持电极23的第二次曝光。具体地说，用相机读取形成在黑色感光性膜 bx的表面上的第二个对准标记57，进行第三曝光掩模47的对位。此时也优选利用同轴落 射照明。在第三曝光掩模47形成了用于形成总线电极221、222、231、232的图案。但是，形 成在第三曝光掩模47上的图案设计得比第二曝光掩模46的图案的宽度略窄。此时的曝光 强度例如为200mJ/cm2。(第四步骤)在第四步骤中，如图7F所示，通过进行显影处理来形成黑色层221b、222b、231b、 232b 的前体 221bx、222bx、231bx、232bx 及导电层 221c、222c、231c、232c 的前体 221cx、 222cx、231cx、232cx。其次，如图7G所示，烧制形成有这些黑色层221b、222b、231b、232b的前躯体 221bx、222bx、231bx、232bx 及导电层 221c、222c、231c、232c 的前体 221cx、222cx、231cx、 232cx的玻璃基板21，形成总线电极221、222、231、232。(第五步骤)在第五步骤中，如图7H所示，通过丝网印刷法、压模涂法等公知技术在形成有总 线电极221、222、231、232的玻璃基板21上涂覆并干燥电介体膏，形成电介体层26的前体。 然后，烧制电介体层26的前体(未图示)，形成厚度20μπι 50μπι的电介体层26。其次，如图71所示，通过真空蒸镀法等公知技术在电介体层26上形成了以氧化镁 为主要成分的保护层27。接着，按照显示电极对24和数据电极32立体交叉的方式对置配置前面板 20和与实施方式1同样制作出的背面板30，在形成有放电单元的图像显示区域的外侧位置利用低 熔点玻璃进行密封。然后，在内部的放电空间封入含有氙的放电气体，从而完成了 PDP10。由此，在实施方式2中，虽然形成第一对准标记56和第二对准标记57的工序增加 了，但是其优点在于不用设置放置时间来进行曝光。实施方式2中的制造方法在制造在相 邻的显示电极对24之间设置黑条纹的PDP的情况下特别有益。由于通过在用于形成黑条 纹的曝光掩模上设置对准标记的图案，从而能够与黑条纹的曝光同时形同对准标记，故不 会增加工时来制造PDP。
另外，在本发明的实施方式1或2中，如图2A及图2B所示，显示电极22由总线电 极221和总线电极222构成。另外，维持电极23也由总线电极231和总线电极232构成。 但是，本发明并不限定于此。图8是表示在本发明的实施方式1或2中制造的PDP的显示电极对的其他形状的 详细的图。扫面电极62具有相当于梯子形状的长的纵木料的一方且对放电间隙MG进行 限定的总线电极621、相当于梯子形状的长的纵木料的另一方且用于提高扫描电极62的导 电性的总线电极622、和相当于梯子形状的横木且用于降低总线电极621与总线电极622之 间的电阻的总线电极623。维持电极63也同样具有相当于梯子形状的长的纵木料的一方 且用于对放电间隙MG进行限定的总线电极631、相当于梯子形状的长的纵木料的另一方且 用于提高维持电极63的导电性的总线电极632、和相当于梯子形状的横木且用于降低总线 电极631与总线电极632之间的电阻的总线电极633。通过将扫描电极62及维持电极63构成为这种形状，从而能够降低总线电极621 与总线电极622之间的电阻以及总线电极631与总线电极632之间的电阻，且能够产生更 稳定的放电。图8示出了针对各放电单元各设置一个总线电极623、633的例子。但是，总 线电极623、633例如可针对3个放电单元设置一个等，只要根据需要适当地设置即可。图9A、图9B、图9C是表示本发明的实施方式1或2中的其他形状的对准标记81 的详细的图。图9A是用相机拍摄了对准标记81的图像的示意图。图9B是表示第一曝光 掩模71和玻璃基板21的对准标记81的关系的图。图9C是表示用表面粗糙度计测定沿着 图9A的A-A线的表面的形状的结果的图。对准标记81的特征在于以十字形状的轮廓作为 未曝光部。如图9B所示，若利用以十字形状的轮廓作为未曝光部的第一曝光掩模71进行 曝光，则如图9C所示成为十字形状的轮廓深的凹部。因此，在用相机拍摄对准标记81时能 够得到鲜明的对准标记81的图像。特别是，在利用同轴落射照明将直线状的光照射到对准 标记81上时，在对准标记81的侧壁等的倾斜部中不会正反射照明光。因此，反射光的浓淡 变得鲜明，且容易识别对准标记81。另外，在本发明的实施方式1或2中，虽然以利用1片PDP大小的玻璃基板按照每 片PDP来制造前面板20及背面板30的PDP的制造方法为例进行了说明，但是本发明并不 限定于此。例如，也适用于利用4片PDP或6片PDP等多片PDP大小的玻璃基板一次制造 多片前面板20及背面板30的所谓多片制造方法的PDP制造方法。且有，在实施方式1或2中利用的具体的各数值只不过是一个例子，优选根据PDP 的规格等将这些数值设定为最适的值。产业上的可用性根据本发明的平板显示器的制造方法，不用改造制造线、也不会较大增加工时、能够简单地形成具有高精度及良好视认性的对准标记 、作为等离子显示面板等平板显示器的 制造方法是有用的。根据本发明，是有用的发明。
权利要求
一种平板显示器的制造方法，具有在基板上形成感光性膜的步骤；通过曝光所述感光性膜来形成对准标记的步骤；和通过以显影所述感光性膜前的状态识别所述对准标记来检测所述基板的位置的步骤。
2.根据权利要求1所述的平板显示器的制造方法，其中，所述平板显示器的制造方法，在形成所述对准标记的步骤与检测所述基板的位置的步 骤之间还具有使所述基板干燥的步骤。
3.根据权利要求1所述的平板显示器的制造方法，其中， 所述对准标记为凹部或凸部。
4.根据权利要求3所述的平板显示器的制造方法，其中， 所述凹部或凸部的高低差的振幅在0. 5 y m以上。
5.根据权利要求1所述的平板显示器的制造方法，其中，通过以显影所述感光性膜前的状态识别所述对准标记来检测所述基板的位置的步骤 包括通过利用同轴落射照明系统将直线状的光照射到所述对准标记，来识别反射光的浓 淡，由此识别对准标记的步骤。
6.根据权利要求1所述的平板显示器的制造方法，其中， 形成所述感光性膜的步骤包括将包括固体成分、平均粒径为0. 3 y m以上1 y m以下的玻璃粉末、感光性聚合物、感光 性单体、和光聚合引发剂的感光性膏涂覆在所述基板上的步骤。
7.根据权利要求1所述的平板显示器的制造方法，其中， 形成所述感光性膜的步骤包括将包括含有率为5重量％以上40重量％以下的固体成分、玻璃粉末、感光性聚合物、感 光性单体、和光聚合引发剂的感光性膏涂覆在所述基板上的步骤。
8.一种平板显示器的制造方法，具有 在玻璃基板上形成第一感光性膜的步骤；在第一感光性膜的不形成对准标记的预定区域形成第二感光性膜的步骤； 通过利用第一曝光掩模曝光所述第一感光性膜来形成所述对准标记的步骤； 通过识别所述对准标记来检测所述玻璃基板的位置的步骤； 使所述玻璃基板和第二曝光掩模对位的步骤； 利用所述第二曝光掩模曝光所述第二感光性膜的步骤；和 显影所述第一感光性膜及所述第二感光性膜的步骤。
9.根据权利要求8所述的平板显示器的制造方法，其中，所述平板显示器的制造方法，在形成所述对准标记的步骤与检测所述玻璃基板的位置 的步骤之间，还具有使所述玻璃基板干燥的步骤。
10.一种平板显示器的制造方法，具有 在玻璃基板上形成第一感光性膜的步骤；通过利用第一曝光掩模曝光所述第一感光性膜来形成第一对准标记及第二对准标记 的步骤；在未形成所述第一对准标记及所述第二对准标记的区域形成第二感光性膜的步骤; 通过识别所述第一对准标记来检测所述玻璃基板的位置的步骤； 使所述玻璃基板和第二曝光掩模对位的步骤； 利用所述第二曝光掩模曝光所述第二感光性膜的步骤； 通过识别所述第二对准标记来检测所述玻璃基板的位置的步骤； 使所述玻璃基板和第三曝光掩模对位的步骤； 利用所述第三曝光掩模曝光所述第二感光性膜的步骤；和 显影所述第一感光性膜及所述第二感光性膜的步骤。
全文摘要
一种平板显示器的制造方法，具有在基板上形成感光性膜的工序、利用曝光掩模(41)曝光感光性膜来形成对准标记(51)的工序、和以显影感光性膜前的状态识别对准标记(51)来进行对位的工序。从而，不用改造制造线、也不会较大增加工时、能简单形成具有高精度及良好视认性的对准标记、进而能低成本地制造生产率好的平板显示器。
文档编号H01J17/49GK101861636SQ200980100860
公开日2010年10月13日 申请日期2009年11月12日 优先权日2008年11月14日
发明者大谷俊哉, 山本聪治, 村社智宏, 松原功幸, 濑濑井严士, 瓜生英一, 藤原俊明, 谷口基浩 申请人:松下电器产业株式会社