专利名称：用于制造平板显示器的设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于制造平板显示器的设备，并且更特别地，涉及一种有机薄膜可以淀积在用于有机发光显示器的平板上的用于制造平板显示器的设备。
背景技术：
在制造平板显示器(FPD)的工艺中，多次重复进行诸如用于在基板上淀积薄膜的淀积工艺的基板处理工艺；光刻工艺；蚀刻工艺；用于去除在所述工艺中产生的残余物的洗漆、干燥等清洁工艺；各种表面处理工艺；等等。每个工艺在处理室(processchamber, PM)中进行。这种处理室与传递室一起构成群集(cluster)。在一般群集中，多个处理室连接到一个传递室。就是说，该群集通常包括:处理室，在该处理室中进行基板处理工艺；和传递室，通过该传递室从处理室传递已处理的基板。同时,存在一种用于有机发光显示(organic light emitting display, 0LED)器的平板，该平板作为可以制造成具有前述结构的常规群集的其中一种平板。有机发光显示器是使用以下原理的自发光显示器:当电流在荧光或磷光有机薄膜中流动时，在电子和空穴在有机层中结合时发出光线。随着最近智能电话的广泛传播，用于以低功率操作的有机发光显示器的平板的使用已经增加。因此，提高用于有机发光显示器的平板的生产率的需求增加。在制造用于有机发光显示器的平板时，在基板上淀积有机薄膜的淀积工艺是必要的。为进行淀积工艺，必须预先进行基板传递到处理室中的工艺、掩模与基板对齐的工艺等等。然而，常规制造设备不可能在传递基板和对齐掩模时进行该淀积工艺。换句话说，由于淀积工艺与传递基板的工艺和对齐掩模的工艺分别进行，存在整个工艺时间增加的问题。
发明内容
因此，本发明用于解决前述问题，并且本发明的一方面提供一种用于制造平板显示器的设备，其中一个处理室容纳两个基板，因此在另一个基板进行淀积工艺时一个基板被传递且对齐，从而最小化在基板上淀积有机薄膜的总工艺时间。根据本发明的一方面，提供一种用于制造平板显示器的设备，该设备包括:多个形成有内部空间的处理室，在所述内部空间中处理至少两个基板；传递室，该传递室沿第一方向布置在所述多个处理室之间，并且所述传递室包括传递机器人，该传递机器人在沿垂直于所述第一方向的第二方向直线往复运动时将未处理的基板供给所述处理室或者从所述处理室运出已处理的基板；加载室，该加载室连接到所述传递室的一侧并且容纳将要供给所述传递室的基板；以及卸载室，该卸载室连接到所述传递室的另一侧并且容纳从所述传递室运出的基板，所述传递机器人在沿所述第二方向直线往复运动时控制所述基板顺序地供给所述处理室或者从所述处理室运出，并且在所述处理室中，一个基板受到处理气体的淀积，并且同时沿所述第二方向被传递且对齐另一个基板。
处理室可以包括:本体构件，该本体构件具有内部空间，该内部空间包括第一区域和邻近所述第一区域的第二区域，并且所述本体构件在一侧打开以与所述传递室连通；支撑单元，该支撑单元分别安装在所述第一区域和所述第二区域中，以支撑和对齐传递到所述本体构件的基板；淀积源，该淀积源布置在所述本体构件的内部空间中并且将处理气体喷射到基板上；驱动单元，该驱动单元驱动所述淀积源沿所述第二方向直线往复运动；以及控制器，该控制器控制所述驱动单元，以驱动所述淀积源在所述第一区域和所述第二区域之间往复运动。所述控制器可以控制所述驱动单元，以重复在所述第一区域内沿所述第二方向从所述第一区域的初始位置移动所述淀积源时处理一个基板的工艺以及在所述第二区域内沿所述第二方向朝向所述第二区域移动所述淀积源并返回所述初始位置时处理另一个基板的工艺，以及在所述第一区域的基板和所述第二区域的基板都被处理之后，所述传递机器人可以从所述第一区域和所述第二区域运出已处理的基板，并且将新的基板供给所述第一区域和所述第二区域。所述控制器可以控制所述驱动单元，以重复在所述淀积源沿所述第二方向顺序地移动到所述第一区域和所述第二区域时处理所述第一区域中的基板和所述第二区域中的基板的工艺以及在所述淀积源沿所述第二方向顺序地移动到所述第二区域和所述第一区域时处理所述第二区域中的基板和所述第一区域中的基板的工艺，以及在处理所述第一区域中的基板之后并且正在处理所述第二区域中的基板时，所述传递机器人可以从所述第一区域运出已处理的基板并且将新的基板供给所述第一区域，然后在处理所述第二区域中的基板之后并且正在处理所述第一区域中的基板时，所述传递机器人可以从所述第二区域运出已处理的基板并且将新的基板供给所述第二区域。所述传递机器人可以通过所述传递室将基板从所述加载室供给所述多个处理室中的第一处理室，通过所述传递室将在所述第一处理室中完成处理的基板从所述第一处理室运出且供给所述多个处理室中的第二处理室，并且通过所述传递室将在所述第二处理室中完成处理的基板从所述第二处理室运出到所述卸载室。所述淀积源可以包括分别对应于将同时淀积的一种或者多种材料的一个或者多个蒸发源。所述淀积源可以布置为多个并且沿所述第二方向间隔开。所述多个处理室可以彼此间隔开并且沿所述第二方向布置在所述传递室的横向侧。所述传递室可以包括两个传递机器人，并且所述传递机器人可以沿第一方向彼此间隔开并且布置成沿第二方向直线往复运动。
结合附图从下面对示例性实施例的描述，本发明的上述和/或其它方面将变得显而易见且更容易理解，其中:图1是示意性地示出根据示例性实施例的用于制造平板显示器的设备的平面图；图2是示出用于制造图1的平板显示器的设备中的处理室的内部的侧视图；图3示出用于制造图1的平板显示器的设备中的处理室的外部；
图4a_图4g示出在用于制造图1的平板显示器的设备中处理基板的同时传递基板的顺序进行的工艺；图5示意性地示出用于制造图1的平板显示器的设备中的处理室的另一个例子；图6是示意性地示出根据本发明的另一个示例性实施例的用于制造平板显示器的设备的平面图；以及图7是示意性地示出根据本发明的示例性实施例的用于制造平板显示器的设备的平面图。
具体实施例方式下面，将参考附图详细描述根据本发明的用于制造平板显示器的设备的示例性实施例。图1是示意性地示出根据示例性实施例的用于制造平板显示器的设备的平面图，图2是示出用于制造图1的平板显示器的设备中的处理室的内部的侧视图，图3示出用于制造图1的平板显示器的设备中的处理室的外部，图4a-图4g示出在用于制造图1的平板显示器的设备中处理基板的同时传递基板的顺序进行的工艺，以及图5示意性地示出用于制造图1的平板显示器的设备中的处理室的另一个例子。参考图1-图5，根据实施例的用于制造平板的设备100包括处理室110、传递室120、加载室130和卸载室140，对于用于有机发光显示器的平板在其中可以执行有机薄膜的淀积处理。处理室110形成有用于处理至少两个基板10的内部空间，从而处理基板10。在处理室110中，用于制造有机发光显示器所需的有机薄膜淀积在基板10上。传递室120与多个处理室110连接且沿第一方向LI放置在多个处理室110之间。传递室120包括传递机器人123,该传递机器人沿垂直于第一方向LI的第二方向L2往复运动，同时将未处理的基板10供给处理室110或从处理室110运出已处理的基板10。传递室120可以保持为真空。下面将描述这个传递室120。加载室130连接到传递室120的一侧且容纳将供给传递室120的未处理的基板
10。加载室130的内部空间容纳多个基板10，将在处理室110中进行的处理工艺还未施加于该多个基板10，并且该多个基板10在加载室130中处于准备状态。卸载室140连接到传递室120的另一侧且容纳完成处理且从传递室120中运出的基板10。卸载室140的内部空间容纳多个基板10，该多个基板在卸载室140中处于准备状态，以便在前一个处理室110中处理后在后一个处理室110中处理。根据本发明的实施例，用于制造平板显示器的设备100的处理室110对至少两个基板10进行处理。而且，处理室110设置为沿第一方向LI供给和运出至少两个基板10，使得处理气体可以淀积在一个基板10上，同时可以沿垂直于第一方向LI的第二方向L2传递和对齐另一个基板10。为此目的，处理室110贯穿形成有至少两个开口 115，每个开口 115大到基板10可以穿过。参考图2和3，处理室110包括本体构件111、支撑单元112、淀积源113、驱动单元114和控制器(未示出)。本体构件111形成有内部空间。内部空间包括第一区域A和邻近第一区域A的第二区域B。这里，第一区域A和第二区域B可以分别对应于当本体构件11的内部空间精确地竖直分成两半时的空间。如上面描述的，本体构件111可以在一侧形成有至少两个开口115。开口 115可以平行地布置在离本体构件111的底部的相同高度。通过开口 115，基板10可以进入和离开传递室120。支撑单元112支撑和对齐传递到本体构件111中的基板10。这里，一个支撑单元112放置在第一区域A中，并且另一个支撑单元112放置在第二区域B中。两个支撑单元112可以沿第二方向L2布置成尽可能彼此靠近。这将通过减小支撑单元112占据的空间最小化处理室110的尺寸，并且通过最小化驱动单元114运行的行程而允许驱动单元114(将在后面描述)快速地传递，将淀积源113从第一区域A移动到第二区域B。如果在支撑单元112之间存在许多空间或者如果存在淀积源113停留一定时间段的空间，由于处理室110的尺寸增加到与该空间一样大的空间，则生产成本可能增加，并且由于基板的处理延迟与驱动单元114驱动淀积源113穿过该空间的时间一样长的时间，处理基板花费的时间可能增加。相反，根据本发明的示例性实施例，用于制造平板显示器的设备100的处理室110在支撑单元112之间没有浪费的空间，使得淀积源113可以在第一区域A和第二区域B之间快速移动，因此快速实现处理气体的淀积处理。淀积源113放置在本体构件111的内部空间中并且将处理气体喷射在基板10上。例如，淀积源113可以是线性淀积源113。在这个示例性实施例中，从淀积源113喷射出的处理气体是用于制造有机发光显示器的有机材料。参考图2，单个淀积源113放置在本体构件111的内部空间中，但不限于此。替代地，如图5中所示，多个淀积源113可以放置在处理室110’中并且沿第二方向L2间隔开。相应的淀积源113在相同时间喷射处理气体，因此增加喷射在处理室110’中的处理气体的量，从而缩短淀积处理花费的时间。而且,每个淀积源113可以包括一个或多个蒸发源(evaporation sources) 113a,该一个或多个蒸发源113a分别容纳一种或多种材料，以便在处理室110’中将一种或多种材料同时淀积在基板10上。从相应的蒸发源113a喷射的材料混合以构成处理气体。驱动单元114驱动淀积源113沿第二方向L2直线往复运动。例如，驱动单元114可以包括线性电机和直线运动引导件。线性电机提供驱动力以使淀积源113直线往复运动，并且淀积源113接收驱动力并且沿直线运动弓I导件在第二方向L2上直线往复运动。这种构造对于本领域技术人员来说是熟知的，并且省略其详细描述。控制器控制驱动单元114，以驱动淀积源113在第一区域A和第二区域B之间往复运动。控制器控制驱动单元114，以在一个基板10在第一区域A中通过淀积源113处理之后，没有停留地将淀积源113移动到第二区域B，并且在另一个基板10在第二区域B中通过淀积源113处理之后，没有停留地将淀积源113返回到第一区域A。因此，控制器可以快速地处理两个基板10，而在淀积源113通过驱动单元114在第一区域A和第二区域B之间移动时没有延迟时间。参考图1，传递室120包括传递机器人123，该传递机器人123沿第二方向直线往复运动并且传递基板10，并且传递机器人123包括传递单元121和机器人手臂122。传递单元121沿第二方向L2直线往复运动。传递单元121在加载室130和卸载室140之间直线往复运动。
机器人手臂122在传递单元121上可旋转地连接到传递单元121，并且沿第一方向LI将基板10供给处理室110或沿第一方向LI从处理室110运出基板10。在基板10安置在机器人手臂122的顶部上的状态中，机器人手臂122滑动运动，以将基板10供给处理室110或从处理室110运出基板10。通过具有这种构造的传递室120，基板10可以在处理室110中同时处理、供给和运出。传递机器人123在沿第二方向L2直线往复运动时，允许基板10顺序地供给处理室110或从处理室110运出。传递机器人123通过处理室110的一个开口 115传递已处理的基板10和未处理的基板10，沿第二方向L2直线往复运动以改变在传递室120中的位置，并且通过另一个开口 115传递已处理的基板10和未处理的基板10。就是说，传递机器人123在传递室120内重复地直线往复运动并且与处理室110交换基板10。下面将描述通过控制器和传递机器人123处理基板10的方法。根据示例性实施例，控制器控制驱动单元114，以重复在第一区域A内沿第二方向L2从第一区域A的初始位置移动淀积源113时处理一个基板10的工艺以及在第二区域B内沿第二方向L2朝向第二区域B移动淀积源113并返回初始位置时处理另一个基板10的工艺。这里，第一区域A的初始位置指的是第一区域A中的邻近处理室110的侧壁的位置，以作为在第一区域A内开始基板10的淀积的位置。这时，在第一区域A的基板和第二区域B的基板都被处理之后，传递机器人123从第一区域A和第二区域B运出已处理的基板10，并且将新的基板供给第一区域A和第二区域B。在完成所有基板10的处理之后，顺序进行已处理的基板10的运出和新的基板10的供给。根据另一个示例性实施例，控制器控制驱动单元114，以重复在淀积源113沿第二方向L2顺序地移动到第一区域A和第二区域B时处理第一区域A中的基板和第二区域B中的基板的工艺以及在淀积源113沿第二方向L2顺序地移动到第二区域B和第一区域A时处理第二区域B中的基板和第一区域A中的基板的工艺。这时，传递机器人123在处理第一区域A中的基板之后，从第一区域A运出已处理的基板10并且将新的基板10供给第一区域A，同时处理第二区域B中的基板，然后在处理第二区域B中的基板之后，从第二区域B运出已处理的基板10并且将新的基板10供给第二区域B，同时处理第一区域A中的基板。以如下方式同时进行基板的处理和传递，即一个基板10完成处理并且在处理另一个基板10时供给新的基板10，使得每单位时间处理的基板的数量可以多于设置在用于制造平板显示器的传统设备中的处理室处理的基板的数量，从而提高生产率。通过这种构造，将参考图1-图5描述根据本发明的实施例的用于制造平板显示器的设备100的操作。如果处理室110的第一区域A中的基板IOb如图4a中所示通过淀积源113完成处理，则放置在加载室130中的未处理的基板IOa如图4b中所示通过传递机器人123传递到处理室110。在第一区域A中完成处理的基板IOb通过传递机器人123向外运出，并且将被处理的基板IOa被安置在第一区域A的支撑单元112中。支撑单元112与掩模对齐，使得从淀积源113喷射出的处理气体可以均匀地淀积在基板10上。同时，淀积源113通过驱动单元114快速移动到第二区域B并且当在第二区域B内直线往复运动时喷射将要淀积在基板10上的处理气体。此外，如图4c和图4d中所示，传递机器人123将基板10传递到卸载室140以便将其运出。如图4e到图4g中所示，传递机器人123移动到加载室130并且当基板IOb在第二区域B中处理时将基板IOa传递到第二区域B，运出在第二区域B中完成处理的基板10b，以及将需要处理的基板IOa供给第二区域B。就是说，淀积源113在第一区域A和第二区域B之间往复运动时连续地处理基板10a，并且放置在加载室130中的基板IOa通过传递机器人123交替地供给处理室110的第一区域A和第二区域B。这些操作不断地重复。在这个示例性实施例中，在处理室110中处理的基板10被传递到卸载室140，但不限于此。替代地，在一个处理室110中处理的基板10被传递到另一个处理室110并且在另一个处理室110中处理，然后被传递到卸载室140。就是说，基板10通过传递室120从加载室130供给多个处理室110中的第一处理室110(例如，放置在传递室的右侧的处理室)，并且在第一处理室110中完成处理的基板10从第一处理室Iio运出并且通过传递室120供给多个处理室110中的第二处理室110 (例如，放置在传递室的左侧的处理室)。然后，在第二处理室110中完成处理的基板10通过传递室120从第二处理室110运出到卸载室140。如上所述，在根据本发明的实施例的用于制造平板显示器的设备100中，一旦对基板10完成处理，淀积源113就没有延迟地从第一区域A移动到第二区域B，并且连续地处理第二区域B中的另一个基板10，从而缩短处理时间并且提高生产率。而且，如上所述，在根据本发明的实施例的用于制造平板显示器的设备100中，两个支撑单元112布置成在它们之间留下较小的空间，使得处理室110即使容纳两个基板10也可以最小化，因此减小处理室110的制造成本。同时，参考图6，根据另一个示例性实施例的用于制造平板显示器的设备200包括多个处理室110，该多个处理室110布置在传递室120的横向侧并且沿第二方向L2彼此间隔开。通过这种构造，单位时间内可以处理更多基板，因此生产率可以比用于制造平板显示器的图1的设备100的生产率进一步提高。在存在多个处理室IlOa的情况下，传递室120可以包括如图7中所示的两个传递机器人123，并且传递机器人123沿第一方向LI彼此间隔开并布置成沿第二方向L2直线往
复运动。一个传递机器人123将基板10供给连接到传递室120的一侧的处理室IlOa或从处理室IlOa运出基板10，另一个传递机器人123将基板10供给连接到传递室120的另一侧的处理室IlOb或从处理室IlOb运出基板10。通过这种构造，不仅可以提高从处理室110运出已处理的基板10的速度，而且可以提高将基板10供给处理室110的速度。在根据本发明的实施例的用于制造平板显示器的设备中，同时进行基板的处理和传递，并且每单位时间可以处理更多基板，从而提高生产率。而且，在根据本发明的实施例的用于制造平板显示器的设备中，处理室内的用于处理基板的两个区域彼此邻近，使得处理室的尺寸可以最小化，从而减小设备的总尺寸，并且传递淀积源的距离和时间可以减小，从而缩短总处理时间。此外，在根据本发明的实施例的用于制造平板显示器的设备中，即使多个处理室成排布置，也能够设置在处理室之间直线往复运动的传递机器人，使得处理室的数量和布置的各种组合可以根据工厂的内部情况构造。
虽然已经示出且描述了本发明的数个示例性实施例，本领域技术人员可以理解的是，在不偏离本发明的原理和精神的情况下，可以对这些实施例作出改变，本发明的范围在所附权利要求和它们的等同物中限定。
权利要求
1.一种用于制造平板显示器的设备，该设备包括: 多个形成有内部空间的处理室，在所述内部空间中处理至少两个基板； 传递室，该传递室沿第一方向布置在所述多个处理室之间，并且所述传递室包括传递机器人，该传递机器人在沿垂直于所述第一方向的第二方向直线往复运动时将未处理的基板供给所述处理室或者从所述处理室运出已处理的基板； 加载室，该加载室连接到所述传递室的一侧并且容纳将要供给所述传递室的基板；以及 卸载室，该卸载室连 接到所述传递室的另一侧并且容纳从所述传递室运出的基板，所述传递机器人在沿所述第二方向直线往复运动时控制所述基板顺序地供给所述处理室或者从所述处理室运出，并且 在所述处理室中，一个基板受到处理气体的淀积，并且同时沿所述第二方向传递和对齐另一个基板。
2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述处理室包括: 本体构件，该本体构件具有内部空间，该内部空间包括第一区域和邻近所述第一区域的第二区域，并且所述本体构件在一侧打开以与所述传递室连通； 支撑单元，该支撑单元分别安装在所述第一区域和所述第二区域中，以支撑和对齐传递到所述本体构件的基板； 淀积源，该淀积源布置在所述本体构件的所述内部空间中并且将处理气体喷射到基板上； 驱动单元，该驱动单元驱动所述淀积源沿所述第二方向直线往复运动；以及控制器，该控制器控制所述驱动单元，以驱动所述淀积源在所述第一区域和所述第二区域之间往复运动。
3.根据权利要求2所述的设备，其中，所述控制器控制所述驱动单元，以重复在所述第一区域内沿所述第二方向从所述第一区域的初始位置移动所述淀积源时处理一个基板的工艺以及在所述第二区域内沿所述第二方向朝向所述第二区域移动所述淀积源并返回所述初始位置时处理另一个基板的工艺，以及 在所述第一区域的所述基板和所述第二区域的所述基板都被处理之后，所述传递机器人从所述第一区域和所述第二区域运出已处理的基板，并且将新的基板供给所述第一区域和所述第二区域。
4.根据权利要求2所述的设备，其中，所述控制器控制所述驱动单元，以重复在所述淀积源沿所述第二方向顺序地移动到所述第一区域和所述第二区域时处理所述第一区域中的所述基板和所述第二区域中的所述基板的工艺以及在所述淀积源沿所述第二方向顺序地移动到所述第二区域和所述第一区域时处理所述第二区域中的所述基板和所述第一区域中的所述基板的工艺，以及 在处理所述第一区域中的所述基板之后并且正在处理所述第二区域中的所述基板时，所述传递机器人从所述第一区域运出已处理的基板并且将新的基板供给所述第一区域，然后在处理所述第二区域中的所述基板之后并且正在处理所述第一区域中的所述基板时，所述传递机器人从所述第二区域运出已处理的基板并且将新的基板供给所述第二区域。
5.根据权利要求1所述的设备，其中，所述传递机器人通过所述传递室将基板从所述加载室供给所述多个处理室中的第一处理室，通过所述传递室将在所述第一处理室中完成处理的基板从所述第一处理室运出且供给所述多个处理室中的第二处理室，并且通过所述传递室将在所述第二处理室中完成处理的基板从所述第二处理室运出到所述卸载室。
6.根据权利要求2所述的设备，其中，所述淀积源包括分别对应于将同时淀积的一种或者多种材料的一个或者多个蒸发源。
7.根据权利要求6所述的设备，其中，所述淀积源布置为多个并且沿所述第二方向间隔开。
8.根据权利要求1所述的设备，其中，所述多个处理室彼此间隔开并且沿所述第二方向布置在所述传递室的横向侧。
9.根据权利要求8所述的设备，其中，所述传递室包括两个传递机器人，并且 所述传递机器人沿所述第一方向彼此间隔开并且布置成沿所述第二方向直线往复运动。`
全文摘要
本发明公开了一种用于制造平板显示器的设备，该设备包括多个处理室、传递室、加载室和卸载室。所述多个处理室均形成有内部空间，在该内部空间中处理至少两个基板。所述传递室沿第一方向布置在多个处理室之间，并且所述传递室包括传递机器人，该传递机器人在沿垂直于第一方向的第二方向直线往复运动时将未处理的基板供给处理室或者从处理室运出已处理的基板。所述加载室连接到传递室的一侧并且容纳将要供给传递室的基板。所述卸载室连接到传递室的另一侧并且容纳从传递室运出的基板。所述传递机器人在沿第二方向直线往复运动时控制基板顺序地供给处理室或者从处理室运出。
文档编号H01L21/77GK103107132SQ20121044824
公开日2013年5月15日 申请日期2012年11月9日 优先权日2011年11月11日
发明者李亨培, 赵晃新, 安祐正, 宋基哲 申请人:Snu精密股份有限公司