专利名称：发光模块的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种发光模块，尤其涉及该发光模块的结构。
背景技术：
现阶段之发光模块中，含有线性凹沟或凸条之微结构图案在导光板系统中，其一面间隔地配置有多个线性凹沟或凸条之微结构图案(如ν或us)。由于导光板发光时，出光面对应各线性凹沟或凸条之位置，会显示出多条对应之线性亮纹，导致出光面整体之出光不均勻，必须使用更多的光学覆盖片来弥补，相当耗费材料成本，有待加以进一步改良。为此，若能提供一种发光模块的设计，可满足上述之需求，或至少为具有此缺陷提供一种解决之道，即成为亟待解决之一重要课题。
发明内容本实用新型需要解决的技术问题是提供了一种发光模块，旨在解决上述的问题。为了解决上述技术问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的本实用新型包括一第一光源；以及一导光板；所述的导光板包括一出光面；该出光面包括多个线性立体单元平行且间隔地配置于该出光面上；一反射面；该反射面与该出光面相互对立；一第一入光面；该第一入光面介于该出光面及该反射面之间，且该第一光源朝该第一入光面发光；多个第一微结构网点群；该多个第一微结构网点群分别充分地位于该些线性立体单元对应于该反射面之一垂直投影位置内，每一该些第一微结构网点群是由多个第一网点所组成，该些第一网点包括多种第一亮度影响变量，该些第一亮度影响变量至少其中之一是随着该些第一网点与该第一入光面之距离大小成正比；以及一第二微结构网点群；该第二微结构网点群位于该反射面上除了该些第一微结构网点群之其它区域，该第二微结构网点群是由多个第二网点所组成，该些第二网点包括多种第二亮度影响变量，该些第二亮度影响变量至少其中之一是随着该些第二网点与该第一入光面之距离大小成正比，该第一微结构网点群的该些第一网点不同于该第二微结构网点群的该些第二网点。与现有技术相比，本实用新型的有益效果是可改善导光板出光面非预期的线性亮纹，均勻化导光板出光面的出光亮度。
第IA图绘示本实用新型发光模块于一实施例下之侧视图。第IB图绘示第IA图之发光模块之俯视图。第IC图绘示第IA图之发光模块之仰视图。第2A图是绘示第IC图沿2-2剖面线于一变化下之剖面图。[0017]第2B图是绘示第IC图沿2-2剖面线于另一变化下之剖面图。第2C图是绘示第IC图沿2-2剖面线于又一变化下之剖面图。第3A图是绘示第IC图沿3-3剖面线于一变化下之剖面图。第;3B图是绘示第IC图沿3-3剖面线于另一变化下之剖面图。第3C图是绘示第IC图沿3-3剖面线于又一变化下之剖面图。第4A图是绘示第IC图沿4-4剖面线于一变化下之剖面图。第4B图是绘示第IC图沿4-4剖面线于另一变化下之剖面图。第4C图是绘示第IC图沿4-4剖面线于又一变化下之剖面图。第5A图绘示本实用新型发光模块于另一实施例下之侧视图。第5B图绘示第5A图之发光模块之俯视图。第5C图绘示第5A图之发光模块之仰视图。第6A图是绘示第5C图沿6-6剖面线于一变化下之剖面图。第6B图是绘示第5C图沿6-6剖面线于另一变化下之剖面图。第6C图是绘示第5C图沿6-6剖面线于又一变化下之剖面图。第6D图是绘示第5C图沿6-6剖面线于又一变化下之剖面图。第6E图是绘示第5C图沿6-6剖面线于又一变化下之剖面图。第6F图是绘示第5C图沿6-6剖面线于又一变化下之剖面图。第7A图绘示本实用新型发光模块于又一实施例下之侧视图。第7B图绘示第7A图之发光模块之俯视图。第7C图绘示第7A图之发光模块之仰视图。第8A图是绘示第7C图沿8-8剖面线于一变化下之剖面图。第8B图是绘示第7C图沿8-8剖面线于另一变化下之剖面图。第8C图是绘示第7C图沿8-8剖面线于又一变化下之剖面图。第8D图是绘示第7C图沿8-8剖面线于又一变化下之剖面图。第8E图是绘示第7C图沿8-8剖面线于又一变化下之剖面图。第8F图是绘示第7C图沿8-8剖面线于又一变化下之剖面图。第9图绘示本实用新型发光模块于再一实施例下之仰视图。第IOA图-第IOD图绘示本实用新型发光模块之线性立体单元之多种外型变化示意图。
具体实施方式
以下结合附图与具体实施方式
对本实用新型作进一步详细描述本实用新型所提供之一种发光模块，包含一第一光源及一导光板。导光板包含一第一入光面、一出光面、一反射面、多个第一微结构网点群及一第二微结构网点群。出光面包含多个线性立体单元平行且间隔地配置于出光面上。反射面与出光面相互对立。第一入光面介于出光面及反射面之间，且第一光源朝第一入光面发光。第一微结构网点群分别充分地位于线性立体单元对应于反射面之一垂直投影位置内。各第一微结构网点群是由多个第一网点所组成，第一网点包含多种第一亮度影响变量，第一亮度影响变量至少其中之一是随着第一网点与第一入光面之距离大小成正比。第二微结构网点群位于反射面上除了第一微结构网点群之其它区域。第二微结构网点群是由多个第二网点所组成，第二网点包含多种第二亮度影响变量，第二亮度影响变量至少其中之一是随着第二网点与第一入光面之距离大小成正比。第一微结构网点群之第一网点不同于第二微结构网点群之第二网点。请参照第IA图至第IC图所示，第IA图绘示本实用新型发光模块100于一实施例下之侧视图；第IB图绘示第IA图之发光模块100之俯视图；以及第IC图绘示第IA图之发光模块100之仰视图。本实用新型之一实施例中，发光模块100包含一第一光源200及一导光板300。第一光源200例如是发光二极管灯条(LED light bar)，包含多个发光二极管组件(图中未示)。导光板300包含相互对立之一出光面320及一反射面330 (第IA图)，以及环绕其出光面320与反射面330之多个侧边，其中任一侧边的面积小于出光面320或反射面330之面积，且介于出光面320及反射面330之间。其中一侧边可当作一第一入光面310，以使第一光源200配置于第一入光面310之一旁，而可供朝第一入光面310发光。出光面320上平行且间隔地配置有多个线性立体单元321。线性立体单元321于此实施例中是呈凹沟，然而，本实用新型于此实施例中并不限线性立体单元为凸条或凹沟。线性立体单元321具有一垂直落差V，即凸条之垂直最高高度或凹沟之垂直最深深度。此些线性立体单元321共同之一长轴走向(X轴方向)与该第一入光面310之长轴走向(Y轴方向)成正交，且各线性立体单元321之一垂直落差V皆一致。导光板300更包含多个第一微结构网点群400及一第二微结构网点群500(第IC图)。此些第一微结构网点群400分别充分地遍布于此些线性立体单元321对应于反射面330之一垂直投影位置330P内。各第一微结构网点群400系由多个第一网点410所组成。此些第一网点410具有多种第一亮度影响变量，亮度影响变量意指可影响反射光线于反射面330之亮度的因子。此些第一亮度影响变量其中之一是随着第一网点410与第一入光面310之距离大小成正比，意即，第一网点410与第一入光面310之距离越大，此第一亮度影响变量之值越大，可供反射光线之亮度越大。第一亮度影响变量之种类例如包含此些第一网点410在反射面330上之分布密度、深度及口径。请参照第2A图所示，第2A图是绘示第IC图沿2_2剖面线于一变化下之剖面图。此些第一网点410在反射面330上所呈现出之分布密度是随着第一网点410与第一入光面310之距离大小成正比，意即，第一网点410与第一入光面310之距离越大，此分布密度之值越大。例如第2A图中，较接近第一入光面310之其中二个第一网点410之间距Dl大于较远离第一入光面310之其中二个第一网点410之间距D2，而此间距D2大于更远离第一入光面310之其中二个第一网点410之间距D3。请参照第2B图，第2B图是绘示第IC图沿2_2剖面线在另一变化下之剖面图。此些第一网点410在反射面330上所呈现出之深度系随着第一网点410与第一入光面310之距离大小成正比，意即，第一网点410与第一入光面310之距离越大，此深度之值越大。例如第2B图中，较接近第一入光面310之一个第一网点410之深度Hl小于较远离第一入光面310之其中一个第一网点410之深度H2，而此深度H2小于更远离第一入光面310之其中一个第一网点410之深度H3。[0057]请参照第2C图所示，第2C图是绘示第IC图沿2_2剖面线于又一变化下之剖面图。此些第一网点410于反射面330上所呈现出之口径是随着第一网点410与第一入光面310之距离大小成正比，意即，第一网点410与第一入光面310之距离越大，此口径之值越大。例如第2C图中，较接近第一入光面310之一个第一网点410之宽度Wl小于较远离第一入光面310之其中一个第一网点410之宽度W2，而此宽度W2小于更远离第一入光面310之其中一个第一网点410之宽度W3。复请参照第IA图至第IC图所示，第二微结构网点群500位于反射面330上除了此些第一微结构网点群400之其它区域。第二微结构网点群500系由多个第二网点510所组成。此些第二网点510具有多种第二亮度影响变量，亮度影响变量意指可影响反射光线于反射面330之亮度的因子。此些第二亮度影响变量其中之一是随着第二网点510与第一入光面310之距离大小成正比，意即，第二网点510与第一入光面310之距离越大，此第二亮度影响变量之值越大，可供反射光线之亮度越大。第二亮度影响变量之种类例如包含此些第二网点510于反射面330上之分布密度、深度及口径。请参照第3A图所示，第3A图是绘示第IC图沿3_3剖面线于一变化下之剖面图。此些第二网点510于反射面330上所呈现出之分布密度是随着第二网点510与第一入光面310之距离大小成正比，意即，第二网点510与第一入光面310之距离越大，此分布密度之值越大。例如第3A图中，较接近第一入光面310之其中二个第二网点510之间距D4大于较远离第一入光面310之其中二个第二网点510之间距D5，而此间距D5大于更远离第一入光面310之其中二个第二网点510之间距D6。请参照第:3B图所示，第;3B图是绘示第IC图沿3-3剖面线于另一变化下之剖面图。此些第二网点510于反射面330上所呈现出之深度是随着第二网点510与第一入光面310之距离大小成正比，意即，第二网点510与第一入光面310之距离越大，此深度之值越大。(第3B图)。例如第;3B图中，较接近第一入光面310之一个第二网点510之深度H4小于较远离第一入光面310之其中一个第二网点510之深度H5，而此深度H5小于更远离第一入光面310之其中一个第二网点510之深度H6。请参照第3C图所示，第3C图是绘示第IC图沿3_3剖面线于又一变化下之剖面图。此些第二网点510于反射面330上所呈现出之口径是随着第二网点510与第一入光面310之距离大小成正比，意即，第二网点510与第一入光面310之距离越大，此口径之值越大。例如第3C图中，较接近第一入光面310之一个第二网点510之宽度W4小于较远离第一入光面310之其中一个第二网点510之宽度W5，而此宽度W5小于更远离第一入光面310之其中一个第二网点510之宽度W6。此外，第一微结构网点群400之第一网点410不同于第二微结构网点群500之第二网点510，意即，第一微结构网点群400之第一网点410之第一亮度影响变量不同于第二微结构网点群500之第二网点510之对应之第二亮度影响变量。具体来说，此些第一网点410于反射面330上所呈现出之分布密度、深度及口径至少其中之一与此些第二网点510在反射面330上所呈现出之分布密度、深度及口径至少其中之一不同，如以下组合(1)第一微结构网点群400之此些第一网点410之分布密度不同于第二微结构网点群500之此些第二网点510之分布密度(比较第2A图与第3A图)；以及/或者(2)第一微结构网点群400之此些第一网点410之深度不同于第二微结构网点群500之此些第二网点510之深度(比较第2B图与第:3B图)，以及/或者(3)第一微结构网点群400之此些第一网点410之口径不同于第二微结构网点群500之此些第二网点510之口径(比较第2C图与第3C图)。如此，本实用新型便可改善导光板300出光面320非预期之线性亮纹，均勻化导光板300出光面320之出光亮度。复请参照第IB图以及第4A图至第4C图所示，第4A图是绘示第IC图沿4_4剖面线于一变化下之剖面图；第4B图是绘示第IC图沿4-4剖面线于另一变化下之剖面图；以及第4C图是绘示第IC图沿4-4剖面线于又一变化下之剖面图。(1)反射面330上与第一入光面310具有相同距离之所有第一网点410及第二网点510中，此些第一网点410之分布密度小于此些第二网点510之分布密度(第4A图)，例如第4A图中，其中二个第一网点410之间距D7大于其中二个第二网点510之间距D8 ；以及/或者(2)反射面330上与第一入光面310具有相同距离之所有第一网点410及第二网点510中，此些第一网点410之深度小于此些第二网点510之深度(第IA图、第4B图)，例如第4B图中，其中一个第一网点410之深度H7小于其中一个第二网点510之深度H8 ；以及/或者(3)反射面330上与第一入光面310具有相同距离之所有第一网点410及第二网点510中，此些第一网点410之口径小于此些第二网点510之口径(第4C图)，例如第4C图中，其中一个第一网点410之宽度W7小于其中一个第二网点510之宽度W8。请参照第5A图至第5C图所示，第5A图绘示本实用新型发光模块101于另一实施例下之侧视图；第5B图绘示第5A图之发光模块101之俯视图；以及第5C图绘示第5A图之发光模块101之仰视图。另一实施例中，发光模块101包含一第一光源200及一导光板300。第一光源200例如是发光二极管灯条(LED light bar)，包含多个发光二极管组件(图中未示)。导光板300包含相互对立之一出光面320及一反射面330，以及环绕其出光面320与反射面330之多个侧边，其中任一侧边的面积小于出光面320或反射面330之面积，且介于出光面320及反射面330之间。其中一侧边可当作一第一入光面310，以使第一光源200配置于第一入光面310之一旁，而可供朝第一入光面310发光。出光面320上平行且间隔地配置有多个线性立体单元322。线性立体单元322不限或凹沟。线性立体单元322于此实施例中是呈凸条，然而，本实用新型于此实施例中并不限线性立体单元322为凸条或凹沟。线性立体单元322具有一垂直落差V，即凸条之垂直最高高度或凹沟之垂直最深深度。此些线性立体单元322共同之一长轴走向(Y轴方向)与该第一入光面310之长轴走向(Y轴方向)相平行，且各线性立体单元322之一垂直落差V不需仅限一致，其变化也可以随着其与第一入光面310之距离大小成正比，意即越远离第一入光面310之线性立体单元322，其垂直落差V越大。导光板300更包含多个第一微结构网点群400及一第二微结构网点群500。此些第一微结构网点群400分别充分地遍布于此些线性立体单元322对应于反射面330之一垂直投影位置330P内。各第一微结构网点群400是由多个第一网点410所组成。此些第一网点410具有多种第一亮度影响变量，亮度影响变量意指可影响反射光线于反射面330之亮度的因子。此些第一亮度影响变量其中之一是随着第一网点410与第一入光面310之距离大小成正比，意即，第一网点410与第一入光面310之距离越大，此第一亮度影响变量之值越大，可供反射光线之亮度越大。第一亮度影响变量之种类例如包含此些第一网点410于反射面330上之分布密度、深度及口径。第二微结构网点群500位于反射面330上除了此些第一微结构网点群400之其它区域。第二微结构网点群500是由多个第二网点510所组成。此些第二网点510具有多种第二亮度影响变量，亮度影响变量意指可影响反射光线于反射面330之亮度的因子。此些第二亮度影响变量其中之一是随着第二网点510与第一入光面310之距离大小成正比，意即，第二网点510与第一入光面310之距离越大，此第二亮度影响变量之值越大，可供反射光线之亮度越大。第二亮度影响变量之种类例如包含此些第二网点510于反射面330上之分布密度、深度及口径。请参照第6A图至第6C图所示，第6A图是绘示第5C图沿6_6剖面线于一变化下之剖面图；第6B图是绘示第5C图沿6-6剖面线于另一变化下之剖面图；以及第6C图是绘示第5C图沿6-6剖面线于又一变化下之剖面图。此另一实施例中，当此些线性立体单元322共同之一长轴走向(Y轴方向)与第一入光面310之长轴走向(Y轴方向)相互平行，且各线性立体单元322之一垂直落差V皆一致时，具有以下变化(1)任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之分布密度彼此一致，且任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之分布密度小于此第一微结构网点群400之两相对侧位置之第二微结构网点群500之此些第二网点510之分布密度(第6A图)，例如第6A图中，各线性立体单元322之一垂直落差V皆一致，且其中二个第一网点410之间距D9大于此第一微结构网点群400之邻近侧之第二微结构网点群500之其中二个第二网点510之间距D10;以及/或者(2)任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之深度彼此一致，且任一第一微结构网点群400之此些第一网点410之深度小于第一微结构网点群400之两相对侧位置之第二微结构网点群500之此些第二网点510之深度(第6B图)。例如第6B图中，各线性立体单元322之一垂直落差V皆一致，且其中一个第一网点410之深度H9小于此第一微结构网点群400之邻近侧之第二微结构网点群500之其中一个第二网点510之深度HlO ；以及/或者(3)任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之口径彼此一致，且任一第一微结构网点群400之此些第一网点410之口径小于第一微结构网点群400之两相对侧位置之第二微结构网点群500之此些第二网点510之口径(第6C图)。例如第6C图中，各线性立体单元322之一垂直落差V皆一致，且其中一个第一网点410之宽度W9小于此第一微结构网点群400之邻近侧之第二微结构网点群500之其中一个第二网点510之宽度W10。请参照第6D图至第6F图所示，第6D图是绘示第5C图沿6_6剖面线于又一变化下之剖面图；第6E图是绘示第5C图沿6-6剖面线于又一变化下之剖面图；以及第6F图是绘示第5C图沿6-6剖面线于又一变化下之剖面图。此另一实施例中，当此些线性立体单元322共同之一长轴走向(Y轴方向)与第一入光面310之长轴走向(Y轴方向)相互平行，且各线性立体单元322之垂直落差V之变化随着其与第一入光面310之距离大小成正比时，具有以下变化(1)任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之分布密度彼此一致，且任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之分布密度小于此第一微结构网点群400之两相对侧位置之第二微结构网点群500之此些第二网点510之分布密度(第6D图)，例如第6D图中，各线性立体单元322之垂直落差V1-V3随着远离第一入光面310，其值越大(即Vl < V2 < V3)，且其中二个第一网点410之间距Dll小于此第一微结构网点群400之邻近侧之第二微结构网点群500之其中二个第二网点510之间距D12 ；以及/或者(2)任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之深度彼此一致，且任一第一微结构网点群400之此些第一网点410之深度小于第一微结构网点群400之两相对侧位置之第二微结构网点群500之此些第二网点510之深度(第6E图)，例如第6E图中，各线性立体单元322之垂直落差V1-V3随着远离第一入光面310，其值越大(即Vl < V2 < V3)，且其中一个第一网点410之深度Hll小于此第一微结构网点群400之邻近侧之第二微结构网点群500之其中一个第二网点510之深度H12 ；以及/或者(3)任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之口径彼此一致，且任一第一微结构网点群400之此些第一网点410之口径小于第一微结构网点群400之两相对侧位置之第二微结构网点群500之此些第二网点510之口径(第6F图)。例如第6F图中，各线性立体单元322之垂直落差V1-V3随着远离第一入光面310，其值越大(即Vl < V2 < V3)，且其中一个第一网点410之宽度Wll小于此第一微结构网点群400之邻近侧之第二微结构网点群500之其中一个第二网点510之宽度W12。请参照第7A图至第7C图所示，第7A图绘示本实用新型发光模块102于又一实施例下之侧视图；第7B图绘示第7A图之发光模块102之俯视图；以及第7C图绘示第7A图之发光模块102之仰视图。又一实施例中，发光模块102包含一导光板300、一第一光源210及一第二光源220。第一光源210与第二光源220例如是发光二极管灯条(LEDlight bar)，包含多个发光二极管组件(图中未示)。导光板300包含相互对立之一出光面320及一反射面330，以及环绕其出光面320与反射面330之多个侧边，其中任一侧边的面积小于出光面320或反射面330之面积，且介于出光面320及反射面330之间(第7A图)。其中两相对侧边可当作一第一入光面311以及第二入光面312。第一光源210配置于第一入光面310之一旁，而可供朝第一入光面311发光。第二光源220配置于第二入光面312之一旁，而可供朝第二入光面312发光。出光面320上平行且间隔地配置有多个线性立体单元321。线性立体单元321于此实施例中是呈凹沟，然而，本实用新型于此实施例中并不限线性立体单元为凸条或凹沟。线性立体单元321具有一垂直落差V，即凸条之垂直最高高度或凹沟之垂直最深深度。此些线性立体单元321共同之一长轴走向(Y轴方向)与第一入光面311、第二入光面312之长轴走向(Y轴方向)相平行，且各线性立体单元321之一垂直落差V不需仅限一致，其变化也可由出光面320之一中央位置C分别朝第一入光面311与第二入光面312之方向逐渐递减，意即越接近第一入光面311与第二入光面312之线性立体单元321，其垂直落差V越小。导光板300更包含多个第一微结构网点群400及一第二微结构网点群500 (第5C图)。此些第一微结构网点群400分别充分地遍布于此些线性立体单元321对应于反射面330之一垂直投影位置330P内。各第一微结构网点群400系由多个第一网点410所组成。此些第一网点410具有多种第一亮度影响变量，亮度影响变量意指可影响反射光线于反射面330之亮度的因子。随着越远离第一入光面311以及第二入光面312之第一网点410，其第一亮度影响变量至少其中之一之值越大，意即，越接近反射面330上介于第一入光面311与第二入光面312之间的中心点P之第一网点410，其第一亮度影响变量之值越大，可供反射光线之亮度越大，反之，越接近第一入光面311或第二入光面312之第一网点410，其第一亮度影响变量之值越小，可供反射光线之亮度越小。第一亮度影响变量之种类例如包含此些第一网点410于反射面330上之分布密度、深度及口径。第二微结构网点群500位于反射面330上除了此些第一微结构网点群400之其它区域。第二微结构网点群500系由多个第二网点510所组成。此些第二网点510具有多种第二亮度影响变量，亮度影响变量意指可影响反射光线于反射面330之亮度的因子。越远离第一入光面311以及第二入光面312之第二网点510，其第二亮度影响变量至少其中之一之值越大，意即，越接近反射面330上介于第一入光面311与第二入光面312之间的中心点P之第二网点510，其第二亮度影响变量之值越大，可供反射光线之亮度越大，反之，越接近第一入光面311或第二入光面312之第二网点510，其第二亮度影响变量之值越小，可供反射光线之亮度越小。第二亮度影响变量之种类例如包含此些第二网点510于反射面330上之分布密度、深度及口径。请参照第8A图至第8C图所示，第8A图是绘示第7C图沿8-8剖面线于一变化下之剖面图；第8B图是绘示第7C图沿8-8剖面线于另一变化下之剖面图；以及第8C图是绘示第7C图沿8-8剖面线于又一变化下之剖面图。此变化中，当此些线性立体单元321共同之一长轴走向(Y轴方向)与第一入光面311之长轴走向(Y轴方向)相互平行，且各线性立体单元321之垂直落差V皆一致时，具有以下变化(1)任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之分布密度彼此一致，且任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之分布密度小于此第一微结构网点群400之两相对侧位置之第二微结构网点群500之此些第二网点510之分布密度(第8A图)。例如第8A图中，各线性立体单元321之一垂直落差V皆一致，且其中二个第一网点410之间距D13大于此第一微结构网点群400之邻近侧之第二微结构网点群500之其中二个第二网点510之间距D14;以及/或者(2)任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之深度彼此一致，且任一第一微结构网点群400之此些第一网点410之深度小于第一微结构网点群400之两相对侧位置之第二微结构网点群500之此些第二网点510之深度(第8B图)。例如第8B图中，各线性立体单元321之一垂直落差V皆一致，且其中一个第一网点410之深度H13小于此第一微结构网点群400之邻近侧之第二微结构网点群500之其中一个第二网点510之深度H14;以及/或者(3)任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之口径彼此一致，且任一第一微结构网点群400之此些第一网点410之口径小于第一微结构网点群400之两相对侧位置之第二微结构网点群500之此些第二网点510之口径(第8C图)。例如第8C图中，各线性立体单元321之一垂直落差V皆一致，且其中一个第一网点410之宽度W13小于此第一微结构网点群400之邻近侧之第二微结构网点群500之其中一个第二网点510之宽度W14。请参照第8D图至第8F图所示，第8D图是绘示第7C图沿8-8剖面线于一变化下之剖面图；第8E图是绘示第7C图沿8-8剖面线于另一变化下之剖面图；以及第8F图是绘示第7C图沿8-8剖面线于又一变化下之剖面图。此变化中，当此些线性立体单元321共同之一长轴走向(Y轴方向)与第一入光面311之长轴走向(Y轴方向)相互平行，且各线性立体单元321之垂直落差V之变化由出光面320之中央位置C分别朝第一入光面311与第二入光面312之方向逐渐递减时，具有以下变化(1)任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之分布密度彼此一致，且任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之分布密度小于此第一微结构网点群400之两相对侧位置之第二微结构网点群500之此些第二网点510之分布密度(第8D图)；例如第8D图中，中间之线性立体单元321之垂直落差Vl最大，此线性立体单元321两侧线性立体单元321之垂直落差V2小于中间之线性立体单元321之垂直落差VI，且其中二个第一网点410之间距D15大于此第一微结构网点群400之邻近侧之第二微结构网点群500之其中二个第二网点510之间距D16 ；以及/或者(2)任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之深度彼此一致，且任一第一微结构网点群400之此些第一网点410之深度小于第一微结构网点群400之两相对侧位置之第二微结构网点群500之此些第二网点510之深度(第8E图)；例如第8E图中，中间之线性立体单元321之垂直落差Vl最大，此线性立体单元321两侧线性立体单元321之垂直落差V2小于中间之线性立体单元321之垂直落差VI，且其中一个第一网点410之深度H15小于此第一微结构网点群400之邻近侧之第二微结构网点群500之其中一个第二网点510之深度H16 ；以及/或者(3)任一第一微结构网点群400内之所有第一网点410之口径彼此一致，且任一第一微结构网点群400之此些第一网点410之口径小于第一微结构网点群400之两相对侧位置之第二微结构网点群500之此些第二网点510之口径(第8F图)。例如第8F图中，中间之线性立体单元321之垂直落差Vl最大，此线性立体单元321两侧线性立体单元321之垂直落差V2小于中间之线性立体单元321之垂直落差VI，且其中一个第一网点410之宽度W15小于此第一微结构网点群400之邻近侧之第二微结构网点群500之其中一个第二网点510之宽度W16。请参照第9图所示，第9图绘示本实用新型发光模块103在再一实施例下之仰视图。[0113]又一实施例中，发光模块103包含一导光板300、一第一光源211、一第二光源221、一第三光源231及第四光源241。第一光源211、一第二光源221、一第三光源231及第四光源241例如是发光二极管灯条(LED lightbar)，包含多个发光二极管组件(图中未示)。导光板300包含相互对立之一出光面320及一反射面330，以及环绕其出光面320与反射面330之四个侧边，称为第一入光面311、第二入光面312、第三入光面313及第四入光面314。其中任一侧边的面积小于出光面320或反射面330之面积，且介于出光面320及反射面330之间。其中第一光源211配置于第一入光面311之一旁，以便第一入光面311接受第一光源211之发光、第二光源221配置于第二入光面312之一旁，以便第二入光面312接受第二光源221之发光、第三光源231配置于第三入光面313之一旁，以便第三入光面313接受第三光源231之发光，以及第四光源241配置于第四入光面314之一旁，以便第四入光面314接受第四光源241之发光。出光面320上平行且间隔地配置有多个线性立体单元321 (参考第7C图)。线性立体单元321在此实施例中系呈凹沟，然而，本实用新型在此实施例中并不限线性立体单元为凸条或凹沟。此些线性立体单元321共同之一长轴走向(Y轴方向)与第一入光面311、第二入光面312之长轴走向(X轴方向)成正交，与第三入光面313、第四入光面314之一长轴走向(Y轴方向)平行。导光板300更包含多个第一微结构网点群400及一第二微结构网点群500。此些第一微结构网点群400分别充分地遍布于此些线性立体单元321对应于反射面330之一垂直投影位置330P(参考第7A图)内。各第一微结构网点群400系由多个第一网点410所组成。此些第一网点410具有多种第一亮度影响变量，亮度影响变量意指可影响反射光线于反射面330之亮度的因子。越接近反射面330上的中心点P之第一网点410，其第一亮度影响变量之值越大，可供反射光线之亮度越大，反之，越接近第一入光面311、第二入光面312、第三入光面313或第四入光面314之第一网点410，其第一亮度影响变量之值越小，可供反射光线之亮度越小。第一网点410同时越远离第一入光面311及第二入光面312，此第一亮度影响变量之值越大，可供反射光线之亮度越大。第一亮度影响变量之种类例如包含此些第一网点410于反射面330上之分布密度、深度及口径。第二微结构网点群500位于反射面330上除了此些第一微结构网点群400之其它区域。第二微结构网点群500是由多个第二网点510所组成。此些第二网点510具有多种第二亮度影响变量，亮度影响变量意指可影响反射光线于反射面330之亮度的因子。第二微结构网点群500中位于该反射面330上之一中心位置之该些第二网点510之第二亮度影响变量是大于第二微结构网点群500中邻近第一入光面311、第二入光面312、第三入光面313或第四入光面314之该些第二网点510之第二亮度影响变量。意即，越接近反射面330上的中心点P之第二网点510，其第一亮度影响变量之值越大，可供反射光线之亮度越大，反之，越接近第一入光面311、第二入光面312、第三入光面313或第四入光面314之第二网点510，此第二亮度影响变量之值越小，可供反射光线之亮度越小。第二亮度影响变量之种类例如包含此些第二网点510于反射面330上之分布密度、深度及口径。复请参阅第4A图、第5A图及第IOA图-第IOD图所示，第IOA图-第IOD图绘示本实用新型发光模块100、101、102或103之线性立体单元之多种外型变化示意图。[0121]此些线性立体单元322区分为凸出线性立体单元322 (第5A图)与凹陷之线性立体单元321 (第4A图)。凸出线性立体单元例如可为一 V型凸条322 (第5A图)或U型凸条323C (第IOC图)，然而，本实用新型不限于此。凹陷之线性立体单元例如可一 V型凹沟 321 (第4A图)或U型凹沟323D (第IOD图)，然而，本实用新型不限于此。此外，复请参阅第IOA图所示，V型凹沟323A之两相对内壁呈凸弧状，或着，复请参阅第IOB图所示，本实用新型线性立体单元323A之另一种外型，例如V型凸条32 之两相对侧壁呈凹弧状。需定义的是(1)此些第一网点(或第二网点)在反射面上所呈现出之分布密度，系指单位面积下所具有相同数量之网点彼此之疏密程度，当此些第一网点(或第二网点)于反射面上之分布密度越大，此些第一网点(或第二网点)彼此之间越拥挤，彼此间之距离越小；反之，当此些第一网点(或第二网点)于反射面上之分布密度越小，此些第一网点(或第二网点) 彼此之间越疏远，彼此间之距离越大。(2)此些第一网点(或第二网点)在反射面上所呈现出之深度，是指此些第一网点 (或第二网点)自反射面表面朝其最远凹/凸点之垂直距离。(3)此些第一网点(或第二网点)在反射面上所呈现出之口径，是指此些第一网点 (或第二网点)在反射面表面之直径大小。(4)此外，上述第一网点或第二网点可为凹入状或凸出状。(5)上述出光面之中央位置是指出光面上与长轴方向垂直之一中心线，且此中心线分别至第一入光面与第二入光面之距离一致。(6)上述出光面之中心点是指出光面上可形成一最大圆形面积的中心点，大约为此导光板之一重心。本实用新型所揭露如上之各实施例中，并非用以限定本实用新型，任何熟习此技艺的，在不脱离本实用新型之精神和范围内，当可作各种之更动与润饰，因此本实用新型之保护范围当视后附的权利要求保护范围所界定的为准。
权利要求1.一种发光模块，包括一第一光源；以及一导光板；其特征在于所述的导光板包括一出光面；该出光面包括多个线性立体单元平行且间隔地配置于该出光面上；一反射面；该反射面与该出光面相互对立；一第一入光面；该第一入光面介于该出光面及该反射面之间，且该第一光源朝该第一入光面发光；多个第一微结构网点群；该多个第一微结构网点群分别充分地位于该些线性立体单元对应于该反射面之一垂直投影位置内，每一该些第一微结构网点群是由多个第一网点所组成，该些第一网点包括多种第一亮度影响变量，该些第一亮度影响变量至少其中之一是随着该些第一网点与该第一入光面之距离大小成正比；以及一第二微结构网点群；该第二微结构网点群位于该反射面上除了该些第一微结构网点群之其它区域，该第二微结构网点群是由多个第二网点所组成，该些第二网点包括多种第二亮度影响变量，该些第二亮度影响变量至少其中之一是随着该些第二网点与该第一入光面之距离大小成正比，该第一微结构网点群的该些第一网点不同于该第二微结构网点群的该些第二网点。
2.根据权利要求1所述的发光模块，其特征在于每一该些线性立体单元具有一垂直落差，该些第一亮度影响变量包含该些第一网点在该反射面上之分布密度、深度及口径；该些第二亮度影响变量包含该些第二网点在该反射面上之分布密度、深度及口径；该第一微结构网点群之该些第一网点之分布密度不同于该第二微结构网点群之该些第二网点之分布密度、该第一微结构网点群之该些第一网点之深度不同于该第二微结构网点群之该些第二网点之深度，或者，该第一微结构网点群之该些第一网点之口径不同于该第二微结构网点群之该些第二网点之口径。
3.根据权利要求2所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面之长轴走向成正交，且每一该些线性立体单元之该垂直落差皆一致； 与该第一入光面具有相同距离之该些第一网点及该些第二网点中，该些第一网点之分布密度小于该些第二网点之分布密度。
4.根据权利要求2所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面之长轴走向成正交，且每一该些线性立体单元之该垂直落差皆一致；与该第一入光面具有相同距离之该些第一网点及该些第二网点中，该些第一网点之深度小于该些第二网点之深度。
5.根据权利要求2所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面之长轴走向成正交，且每一该些线性立体单元之该垂直落差皆一致；与该第一入光面具有相同距离之该些第一网点及该些第二网点中，该些第一网点之口径小于该些第二网点之口径。
6.根据权利要求2所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面之长轴走向相平行，且每一该些线性立体单元之该垂直落差皆一致，任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之分布密度彼此一致，且任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之分布密度小于该第一微结构网点群之两相对侧位置之该些第二网点之分布密度。
7.根据权利要求2所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面之长轴走向相平行，且每一该些线性立体单元之该垂直落差皆一致，任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之深度彼此一致，且任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之深度小于该第一微结构网点群之两相对侧位置之该些第二网点之深度。
8.根据权利要求2所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面之长轴走向相平行，且每一该些线性立体单元之该垂直落差皆一致，任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之口径彼此一致，且任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之口径小于该第一微结构网点群之两相对侧位置之该些第二网点之口径。
9.根据权利要求2所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面之长轴走向相平行，且该些线性立体单元之垂直落差之变化系随着其与该第一入光面之距离大小成正比，任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之分布密度彼此一致，且任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之分布密度小于该第一微结构网点群之两相对侧位置之该些第二网点之分布密度。
10.根据权利要求2所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面之长轴走向相平行，且该些线性立体单元之垂直落差之变化系随着其与该第一入光面之距离大小成正比，任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之深度彼此一致，且任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之深度小于该第一微结构网点群之两相对侧位置之该些第二网点之深度。
11.根据权利要求2所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面之长轴走向相平行，且该些线性立体单元之垂直落差之变化系随着其与该第一入光面之距离大小成正比，任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之口径彼此一致，且任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之口径小于该第一微结构网点群之两相对侧位置之该些第二网点之口径。
12.根据权利要求2所述的发光模块，其特征在于更包括一第二光源，且该导光板更包括一第二入光面，其中该第二入光面相对该第一入光面，且该第二光源朝该第二入光面发光。
13.根据权利要求12所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面及该第二入光面之长轴走向相互平行，且每一该些线性立体单元之该垂直落差皆一致，任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之分布密度彼此一致，且任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之分布密度小于该第一微结构网点群之两相对侧位置之该些第二网点之分布密度。
14.根据权利要求12所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面及该第二入光面之长轴走向相互平行，且每一该些线性立体单元之该垂直落差皆一致，任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之分布密度彼此一致，且任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之深度小于该第一微结构网点群之两相对侧位置之该些第二网点之深度。
15.根据权利要求12所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面及该第二入光面之长轴走向相互平行，且每一该些线性立体单元之该垂直落差皆一致，任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之分布密度彼此一致，且任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之口径小于该第一微结构网点群之两相对侧位置之该些第二网点之口径。
16.根据权利要求12所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面与该第二入光面之长轴走向相平行，且该些线性立体单元之垂直落差之变化是由该出光面之中央位置分别朝该第一入光面与该第二入光面之方向逐渐递减，任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之分布密度彼此一致，且任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之分布密度小于该第一微结构网点群之两相对侧位置之该些第二网点之分布密度。
17.根据权利要求12所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面与该第二入光面之长轴走向相平行，且该些线性立体单元之垂直落差之变化是由该出光面之中央位置分别朝该第一入光面与该第二入光面之方向逐渐递减，任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之分布密度彼此一致，且任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之深度小于该第一微结构网点群之两相对侧位置之该些第二网点之深度。
18.根据权利要求12所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面与该第二入光面之长轴走向相平行，且该些线性立体单元之垂直落差之变化是由该出光面之中央位置分别朝该第一入光面与该第二入光面之方向逐渐递减，任一该些第一微结构网点群之该些第一网点之口径小于该第一微结构网点群之两相对侧位置之该些第二网点之口径。
19.根据权利要求12所述的发光模块，其特征在于还包括一第三光源及第四光源，且该导光板还包括相对之一第三入光面及一第四入光面，其中该第一入光面、该第二入光面、 该第三入光面及该第四入光面分别位于该导光板之四周，且该第三光源朝该第三入光面发光、该第四光源朝该第四入光面发光。
20.根据权利要求19所述的发光模块，其特征在于该些线性立体单元共同之一长轴走向与该第一入光面之一长轴走向成正交、与该第三入光面之一长轴走向相平行，该第二微结构网点群中位于该反射面上之一中心位置之该些第二网点之分布密度、深度或口径是大于该第二微结构网点群中邻近该第一入光面、该第二入光面、该第三入光面或该第四入光面之该些第二网点之分布密度、深度或口径。
21.根据权利要求2所述的发光模块，其特征在于每一该些线性立体单元为一V型凹沟或U型凹沟。
22.根据权利要求21所述的发光模块，其特征在于该V型凹沟之两相对内壁呈凸弧状。
23.根据权利要求2所述的发光模块，其特征在于每一该些线性立体单元为一V型凸条或U型凸条。
24.根据权利要求23所述的发光模块，其特征在于该V型凸条之两相对侧壁呈凹弧状。
专利摘要本实用新型涉及一种发光模块，包含一光源及一导光板；导光板包含入光面、出光面及反射面；光源朝入光面发光；出光面上平行且间隔地配置有多个线性立体单元；反射面包含多个第一微结构网点群及一第二微结构网点群；此些第一微结构网点群分别对准此些线性立体单元；各第一微结构网点群系由多个第一网点所组成，第一网点之亮度影响变量例如密度分布、深度及口径，是随着第一网点与第一入光面之距离大小成正比；第二微结构网点群是由多个第二网点所组成。此些第二网点不同于第一网点，其亮度影响变量系随着第二网点与第一入光面之距离大小成正比；本实用新型的有益效果是可改善导光板出光面非预期的线性亮纹，均匀化导光板出光面的出光亮度。
文档编号F21V13/02GK202327725SQ201120446209
公开日2012年7月11日 申请日期2011年11月11日 优先权日2011年11月11日
发明者叶钧皓 申请人:苏州向隆塑胶有限公司