具有场防漏涂层的彩色阴极射线管的制作方法

文档序号:2964139阅读:213来源:国知局
专利名称:具有场防漏涂层的彩色阴极射线管的制作方法
技术领域
本发明涉及一种具有场防漏涂覆膜的彩色阴极射线管,更具体地说,涉及一种在屏面部分的表面上粘附包括导电的高折射的第一层和低折射的第二层的双涂层膜的具有场防漏涂层膜的彩色阴极射线管。
迄今,为了防止在荧光屏上的眩光,防止充电以便防止触及荧光屏时发生电击和强对比度的显示图象,在屏面部分的荧光屏的外表面上粘附包括高折射的第一层和低折射的第二层的双涂层膜的阴极射线管已是公知的。
在此,具有通常的双涂层膜的阴极射线的抗反射功能是通过双涂层膜产生的光干涉实现的。
通过减少导电的高折射第一层的表面层电阻(以后缩写为表面电阻)为104至108Ω/□来实现具有双涂层膜的阴极射线管的防止电击的防止充电功能,这是使导电高折射第一层混入例如氧化锡(SnO2)和氧化锑(Sb2O3)组合的导电颗粒或者氧化锡(SnO2)和氧化铟(In2O3)组合的导电颗粒作为由高折射第一层和低折射第二层构成的双涂层膜中的高折射第一层来实现。
另外,通过在双涂层膜中的高折射第一层混放一定量的具体颜色的颜料,实现在具有通常双涂层膜的阴极射线管中高对比度显示图象的功能。
作为在阴极射线管的屏面部分的荧光屏的外表面上形成的表面处理膜,已经公知,1)通过溅射,蒸发或类似的方法形成具有大约1×103Ω/□的电阻的导电膜以防止充电,和形成在低折射膜和高折射膜叠置的多层膜上,以抑制泄漏电磁波,2)用CVD或类似的方法在CRT屏面的外表面形成NESA涂层膜作为导电层,和叠置在高折射层上,或者3)通过用旋转涂覆的方法将具有低电阻率的银颗粒(Ag)扩散到溶液中以形成导电膜和用旋转涂覆或类似的方法在其上形成氧化硅(SiO2)构成的低折射层。
应当注意到,实现上述功能的技术装置已经在公开的日本专利Hei 3-93136,Hei 5-113505,Hei 5-343008,和Hei 7-312710中披露了。
除此之外,还知道阴极射线管防止在其中产生的电场从屏面部分的荧光屏的外表面泄漏出去,也就是在屏面部分的荧光屏的外表面上粘附和形成由高折射第一层和低折射第二层构成的双涂层膜使得阴极射线管具有防止场泄漏涂层膜,和使用混入金属颗粒的导电高折射第一层作为高折射第一层,以使得导电高折射第一层的表面电阻减少到,少于1×103Ω/□,例如,在杂志″工业材料″第44卷第9期第68-71页中有描述(1966年8月)。
顺便要说,上述的具有双涂层膜的阴极射线管具有这样的问题,虽然氧化锡(SnO2,)和氧化锑(Sb2O3)结合作为导电颗粒,或者氧化锡(SnO2)和氧化铟(In2O3)结合作为导电颗粒混入的导电高折射第一层用作高折射第一层,由于导电高折射第一层的表面层电阻是1×104至108Ω/□,不能防止在该阴极射线管中产生的电场从导电高折射第一层上的屏面部分的荧光屏的外表面泄漏出去。
现有技术中的具有防止场泄漏的涂层膜的阴极射线管还有这样的问题,虽然由于导电高折射第一层的表面层的电阻小于1×103Ω/□,它可以被用来作为完全具有防止泄漏场的功能的阴极射线管,由于它的表面层处于激活的状态,和由于混入导电高折射第一层的导电金属颗粒具有小于100nm的大小,容易被氧化。该导电高折射第一层引起表面层电阻的老化降低,具有防止场泄漏的涂层膜的现有技术的阴极射线管还有另外的问题,虽然抑制导电的高折射第一层和低折射的第二层构成的双涂层膜由于混入导电高折射第一层的金属颗粒的光吸收率的显著,在荧光屏内部的外部光的反射的增加方向上使得由于抑制阴极射线管的黑色体色而允许获得高对比度的图象,由于混入的金属颗粒层的光谱透射率根据波长的不同而不同,着上的阴极射线管体色不是黑色的颜色。例如,当混入的金属颗粒层的光谱是420nm波长那么低,和显示出吸收的峰值,由高折射第一层和低折射第二层构成的双涂层膜原来是显示色调不足的琥珀色。
具有如上所述的结构1)的现有技术彩色阴极射线管有这样的问题,虽然它有效地防止了眩光和充电,以及抑制了电磁波的泄漏,但是它的生产成本是显著的高。具有如上所述的结构2)的彩色阴极射线管有这样的问题,需要形成NESA涂层和多层膜的一些步骤和所需要的性能不能完全得到。具有如上所述的结构3)的彩色阴极射线管还有这样的问题,虽然生产成本是低的,但是在一个长的时期很难保持最初的性能。
因比,本发明的基本目的是提供一种有防止场泄漏的涂层膜的阴极射线管,它阻止由导电高折射第一层和低折射第二层构成的双涂层膜中的导电高折射第一层的表面层的电阻老化损坏。
本发明的第二目的是提供一种有防止场泄漏的涂层膜的阴极射线管,它防止由导电高折射第一层和低折射第二层构成的双涂层膜中的导电高折射第一层的表面层电阻的老化损坏,和防止阴极射线管的体色被着色。
为了实现第一目的,本发明的具有防止场泄漏的涂层膜的阴极射线管装备第一装置,其通过混入贵金属元素金(Au),银(Ag),或铂(Pt)中的一种或多种的颗粒于由导电的高折射第一层,即包含有金属颗粒的,和低折射第二层粘附形成的双涂层膜中,以形成导电的高折射第一层。
根据该第一装置,由于化学稳定的贵金属元素中的金(Au),银(Ag)或铂(Pt)中的一种或多种颗粒用作导电的高折射第一层中的金属颗粒,该导电的高折射第一层的表面层电阻减少到1×103Ω/□,它将起到防止场泄漏的功能,和在相同的时间不产生导电的高折射第一层的表面层电阻的老化下降。
另外,为了实现第二目的,具有防止场泄漏的涂层膜的一种发明的阴极射线管提供第二种装置,这是通过在屏面部分的荧光屏的外表面粘附由混有金属颗粒的导电的高折射第一层和低折射第二层构成的双涂层膜,通过混入贵金属元素金(Au),银(Ag)或铂(Pt)中的一种或多种颗粒形成导电的高折射第一层,和通过加入诸如颜料和染料的着色物质于低折射第二层,以起到波长选择吸收的特性。
根据第二种装置,除了起到防止场泄漏功能的小于1×103Ω/□的低电阻的导电的高折射第一层和类似上述的第一种装置出现的表面层电阻的老化和下降外,通过加入与阴极射线管体色的颜色互补的的着色物质于低折射第二层中,阴极射线管的体色可以变为消色差颜色。
本发明的彩色阴极射线管的特征在于,和现有技术中的一个相比较,它使用一种除去银的化学稳定的贵金属颗粒的溶液或者银的比例下降的混合贵金属扩散的溶液在荧光屏的外表面形成低电阻的导电膜。
除去银的贵金属具有比银高的电阻率。因此,为了得到需要的表面电阻,根据本发明,加厚该膜以减少表面电阻,由于增加了厚度,金属材料固有的光吸收特性产生的视觉范围内的光透射率的下降由于使用高透射率的荧光屏而得以解决。
也就是根据本发明的第一方面的彩色阴极射线管的真空外壳包括至少一种颜色的荧光物质形成的荧光膜在其内表面的屏面部分,放置电子枪的颈部,和联接屏面部分和颈部分的锥部分。该彩色阴极射线管还有由在屏面部分的外表面上形成的导电高折射膜和在它的上面形成的低折射膜构成的多层表面处理膜。该表面处理膜的视觉范围内的平均光透射率是50%至70%,它的表面电阻小于1×103Ω/□。用上述的构造,电磁波的泄漏完全可以抑制,也可以完全实现抗反射和防止充电的功能。
根据本发明的第二方面的阴极射线管的特征在于在本发明的第一方面的阴极射线管中的导电高折射膜包括除了银以外的一种或多种贵金属颗粒的混合物,或者银颗粒混合于贵金属颗粒中的混合物。
由于前述的构造,导电膜的电阻可以降低,完全可以抑制电磁波的泄漏,抗反射和防止充电功能可以完全实现。
另外,根据本发明的第三方面,在本发明的第二方面中的彩色阴极射线管中的贵金属颗粒是铂,铑,铷,钯,铱和锇中的一种。
由于上述的结构,导电膜的电阻可以降低,所以可以完全抑制电磁波的泄漏和完全可以实现抗反射和防止充电的功能。
根据本发明第四方面,在本发明的第一,第二或第三方面中的阴极射线管中的低折射膜有光的散射特性。
由于根据上述的结构导电膜的电阻可以降低,可以完全抑制电磁波的泄漏,很容易明白TCO的国际标准,和完全实现抗反射和防止充电的功能。
另外,由于非银的上述贵金属的具体电阻是大的,为了使导电膜有所希望的电阻,厚度可以增加。由于增厚了该膜,导电膜的透射率减少了。于是,由于使用透射率是大的显示屏,或者更具体地说,如本发明第五方面的阴极射线管中所示,显示屏使用的玻璃衬底的吸收系数是0.001至0.03mm-1,整个透射率可以设定为需要的值。
荧光屏的透射系数可以任意地设定,通过选择上述的导电膜的厚度或者显示屏玻璃的吸收系数,可以构成具有所希望的对比度的显示屏。另外,通过加厚导电膜和随光的波长而变化的透射率引起的着色,可以使外部反射曲线平坦,荧光物质的体色的反射可以减少,充许得到高质量的彩色阴极射线管。
和其它的目的一样,本发明的具体本质,和它的用途和优点从随后的描述和随后的附图可以清楚地看到,在附图中相同的数码表示相同的部件。


图1是本发明的具有防止场泄漏涂层膜的阴极射线管的优选实施例的结构剖面示意图;图2是用于第一实施例的阴极射线管的双涂层膜的部分的剖面结构示意图;图3是用于第二实施例的阴极射线管的双涂层膜的部分的剖面结构示意图;图4是用于第三实施例的阴极射线管的双涂层膜的部分的剖面结构示意图;图5是用于第四实施例的阴极射线管的双涂层膜的部分的剖面结构示意图;图6是在荧光屏上涂覆和形成的第一实施例的双涂层膜的步骤的流程图;图7是在荧光屏上涂覆和形成的第二实施例的双涂层膜的步骤的流程图;图8是在荧光屏上涂覆和形成的第三实施例的双涂层膜的步骤的流程图;图9是在荧光屏上涂覆和形成的第四实施例的双涂层膜的步骤的流程图;图10是表示具有第一实施例的双涂层膜的彩色阴极射线管的具体透射率的特性曲线图;图11是表示具有第四实施例的双涂层膜的彩色阴极射线管的具体透射率的特性曲线图;图12是表示具有第五实施例的双涂层膜的彩色阴极射线管的具体透射率的特性曲线图;图13是根据本发明的第六和第七实施例,在可视范围内表面处理膜的透射率和它的表面电阻间的关系的曲线图;图14是表示根据本发明的第六,第七和第八实施例,彩色阴极射线管的表面处理膜的表面电阻测量的结果和电磁波的泄漏量的曲线图;图15是解释本发明的第六,第七和第八实施例的彩色阴极射线管的表面处理膜的防止电磁波的泄漏作用和国际标准(瑞典的TCO)作数字比较的表;图16是解释形成本发明的第六,第七和第八实施例的阴极射线管的表面处理膜的成本和形成溅射膜和NESA涂层的成本比较表;图17是解释阴极射线管的显示屏的透射率的剖面示意图;图18是解释构成显示屏的不同玻璃材料的透射率,形成在它上面的处理膜的透射率和处理膜和玻璃总的透射率的表;图19是解释现有技术的阴极射线管的透射率的表。
根据本发明的实施例,具有防止场泄漏涂层膜的阴极射线管在于,双涂层膜粘附在屏面部分的荧光屏的外表面,该双涂层是由主要成份是金属颗粒的导电高折射第一层和主要成份是氧化硅(SiO2)或氟化镁(MgF2)的低折射第二层构成的,和金(Au),银(Ag)或铂(Pt)的贵金属元素中的一种或多种金属可用于导电高折射第一层中的金属颗粒。
根据本发明的一个方面,上述实施例的导电高折射第一层的安排,以至具有光吸收特性和在可视范围,光的透射率是从50%至90%。
根据本发明的另一方面,上述实施例的低折射第二层的安排,以至通过加入着色物质诸如颜料或染料使之具有选择波长的吸收特性。
根据本发明的优选实施例,通过施加溶液形成上述的本发明的双涂层膜,在该溶液中形成导电的高折射第一层的金属颗粒扩散到了屏部分的荧光屏的外表面,通过干燥该施加过的表面形成导电的高折射第一层,通过施加乙醇溶液形成在导电高折射第一层上的低折射第二层,和在温度160至175摄氏度范围烧结该施加过的表面,以形成低折射第二层。
根据本发明的另一个优选实施例,通过施加在屏部分的屏外表面上形成导电高折射第一层的金属颗粒的溶液形成上述的本发明的双涂层膜,在70至130摄氏度的范围加热和干燥该施加的表面,以粘合和形成导电的高折射第一层膜,通过导电高反射第一层上施加形成低折射第二层的乙醇溶液,和在160至175摄氏度范围内烧结该施加的层,以形成低折射第二层。
根据本发明上述的实施,由于金(Au),银(Ag)和铂(Pt)化学稳定贵金属中的一种或多种颗粒,在粘合由金属颗粒构成的导电高折射第一层和低折射第二层构成的双涂层膜在阴极射线管的屏面部分的荧光屏表面上的过程中,用作在导电高折射第一层中使用的金属颗粒,该导电高折射第一层的表面层电阻可以减少到小于1×103Ω/□那么小,以及在长的时间周期不会发生导电的高折射第一层的表面电阻的恶化(减少)。
根据本发明的另一个实施例,与阴极射线管体色互补的着色物质诸如颜料或染料加入到低折射第二层,以至阴极射线管的体色的着色可以互补,和可以变成消色差颜色。
不面将参照附图解释本发明的实施例。
图1是解释本发明的阴极射线管的剖面图,它包括屏面部分1,荧光屏1A,颈部分2,锥部分3,荧光膜4,双涂层膜5,荫罩6,内部磁屏蔽7,偏转线圈8,色纯控制磁铁9,中心电子束静态会聚控制磁铁10,边缘电子束静态会聚控制磁铁11,电子枪12,电子束13,荫罩框架16,荫罩悬置机构17,内部导电层18,屏蔽帽19,接触弹簧20(在图1中未示出),吸气剂21和销钉22。
也就是阴极射线管包括由屏面部分1,颈部分2和联接屏面部分1和颈部分2的锥部分3形成的真空外壳,形成在屏面部分的内表面上和由三种荧光物质构成的荧光膜4,在颈部分2内安装的电子枪12和套在锥部分至颈部分的过渡区的偏传线圈8。应当注意到色纯控制磁铁9,中心电子束静态会聚控制磁铁10和旁边电子束静态会聚控制磁铁11平行放置在颈部分2的外面。
彩色选择电极固定在荫罩框架16上的荫罩被悬置,由在屏面部分内的荫罩悬置装置17将其固定在接近荧光膜4的屏面部分1边缘的内壁。应当注意到屏蔽电子束13不受外部磁场影响的内部屏蔽磁铁7固定在荫罩框架16上。由电子枪12发射的三个电子束(在图1中仅示出一束)受偏转线圈8的预定方向的偏转,然后电子束通过荫罩6未示出的孔射到荧光膜4上。
诸如石墨膜的内部导电层18加到屏面部分1至颈部分2的区域,提供通过未示出的阳极帽加的阳极电压给锥部分3及形成在荧光膜4的背面的未示出的导电薄膜和电子枪12的阳电极。通过附在屏蔽帽19上的接触弹簧20,阳极电压加到电子枪12上。
具有防止外部光反射,防止充电和抑制电磁波辐射的功能的双涂层膜5形成在构成屏部分的荧光屏的表面的屏面1A上。
该双涂层膜5有加强图象对比度,防止外光反射,防止充电和抑制电磁波辐射功能的双层结构。
由于上述结构的彩色阴极射线管的工作,也就是图象显示工作和已知的彩色阴极射线管的图象显示工作完全相同,它的解释就省略了。(第一实施例)图2是用于图1所示的本实施例的彩色阴极射线管的双涂层膜5的第一实施例的部分的剖面结构图。在图2中,和除了用相同的标识数字表示的图1中的部件以外,双涂层膜5包括导电高折射第一层14和低折射第二层15。
也就是双涂层膜5包括涂覆和形成在屏面部分1的屏面1A上的主要成份是银颗粒的导电高折射第一层和涂覆和形成在导电的高折射第一层14上的由氧化硅(SiO2)构成的低折射第二层15。导电高折射第一层14的厚度约40nm,低折射第二层的厚度约70nm。
图6是在屏面1A上涂覆和形成本发明的双涂层膜5工艺的流程图。使用该流程图解释形成本实施例的该双涂层膜5的步骤。
首先,在步骤S1将加强部件联接在彩色阴极射线管的屏面部分1的周围。然后,在步骤S2用磨料将彩色阴极射线管的屏面部分1的屏面1A抛光。
接下来,在步骤S3用自来水或纯净水喷淋漂洗。在步骤S4将漂洗过的屏面部分1的屏面1A干燥。
然后,在步骤S5将屏面部分1的表面温度设定在40摄氏度左右。
然后,由具有银(Ag)颗粒固体成份的高沸点溶剂组成的水扩散溶液(金属颗粒扩散溶液)在步骤S6中旋转涂覆在屏面部分1的屏面1A上,以涂覆导电的高折射第一层14。
接下来,在步骤S7中,加热屏面1A在100摄氏度左右,以干燥涂覆成的导电高折射第一层14。
再者,在步骤S8中,烷氧基硅的乙醇溶液旋转涂覆在导电的高折射第一层14上,以涂覆低折射第二层15,同时,设定屏面部分1的表面温度为40摄氏度左右。
接下来,在步骤S9中通过加热屏面1A为165摄氏度左右,烧结低折射第二层15,以便双涂层膜5形成在屏面部分1的屏面1A上。
图10是通过前面所述步骤制造得到的本发明的具有双涂层膜5的彩色阴极射线管的光谱透射率的特性曲线图。其中,垂直轴是用%表示的光透射率,和水平轴用nm表示光的波长。
如图10所示,虽然本发明具有双涂层膜5的彩色阴极射线管在420nm附近光波长处有轻微的吸收率,但是在视觉范围几乎是平坦的。当本发明的具有双涂层膜的彩色阴极射线管的透光颜色是根据JIS C8729中的″L′a′b′彩色规范系统和L′u′v′彩色规范系统的显示彩色的方法″表现的,a′=-2至+2和b′=至+4,和屏部分1的屏面1A的外观用裸眼来评价接近消色差颜色。另外,本发明的具有双涂层膜5的彩色阴极射线管具有500Ω/□左右的表面层电阻,在FLEF(5Hz至2KHz的频带)中0.5V/m的泄漏场强,在VLEF(2KHz至400KHz的频带)中0.5V/m的泄漏场强,和满足最严格的场强泄漏的TCO标准。
除此之外,由于优异的抗反射效果,本实施例的具有双涂层膜5的彩色阴极射线管具有0.7%的视觉反射率和在视觉范围内的72%的光透射率,以及消除了彩色阴极射线管的黑色的体色。(第二实施例)图3是表示图1所示的彩色阴极射线管的双涂层膜5的第二实施例的剖面图。在图3中同时示出了低折射第三层15A,在图1和2中相同的元件用相同的标识数来表示。
在这种情况下,双涂层膜5包括导电的高折射第一层14,低折射第二层15和低折射第三层15A,层14的主要成份是涂覆和形成在屏部分1的屏面1A上的银颗粒,层15是由涂覆和形成在导电的高折射第一层14上的氧化硅(SiO2)构成的,和层15A是由部分形成在低折射第二层15上的氧化硅(SiO2)构成的。以致具有不规则的表面。导电的高折射第一层14的厚度是40nm左右,低折射第二层15的厚度是70nm左右,和低折射第三层15A的最厚的部分的厚度是10nm。
由于在实施例的具有双涂层膜5的彩色阴极射线管中提供了不规则的低折射第三层15A,该低折射第三层15A稍微散射外部的光,它允许减少镜面反射,该反射靠双涂层膜5的抗反射作用是不能完全消除的。
图7是在屏面1A上涂覆和形成第二实施例的双涂层膜5的工艺流程图。下面将使用该流程图解释形成该实施例的双涂层膜5的工艺。
步骤S1至S8与在实施例1中描述的形成双涂层膜5的步骤是相同的。
然后,在步骤S10中,屏面1A加热摄氏60度,以干燥低折射第二层15。
接下来,在步骤11中,其成份不同于在步骤8中使用的乙醇溶液的烷氧基硅的乙醇溶液部分旋转涂覆在低折射第二层15上,以涂覆低折射第三层15A,同时设定屏部分1的温度为50摄氏度左右。
然后,在步骤12中通过加热屏面1A在165摄氏度左右,分别烧结低折射第二层15和低折射第三层15A来形成在屏面1A上的双涂层膜5。
具有本实施例的双涂层膜5的彩色阴极射线管的光谱透射率几乎与图10中所示的具有双涂层膜5的阴极射线管的相同。另外,具有本实施例的双涂层膜5的彩色阴极射线管的透射光颜色是a′=2至+2,和b′=0至+4,它与具有第一实施例的双涂层膜5的彩色阴极射线管的几乎相同。屏部分1的屏面A的外观由裸眼来评价接近消色差颜色。况且,具有本实施例的双涂层膜5的彩色阴极射线管具有200Ω/□的表面层电阻,在ELEF中的0.4V/m的漏场强,在VLEF中0.6V/m的漏场强,和完全满足TCO标准。
除此之外,由于优异的抗反射作用,具有本实施例的双涂层膜5的彩色阴极射线管具有0.8%的视觉反射,和在视觉范围内60%的光透射率,以及取消了彩色阴极射线管的黑色体色。(第三实施例)图4是表示图1所示彩色阴极射线管的双涂层膜5的第三实施例的剖面图。在图4中同时表示了导电的高折射第一层的凸起部分14A,与图1和2相同的元件用相同的参考号表示。
在本实施例中,双涂层膜5包含涂覆和形成在屏部分1的屏面1A上的其主要成份是银颗粒和部分具有导电高折射第一层14A的导电高折射第一层14以及涂覆和形成在包括凸起部分14A的导电高折射第一层14上的由氧化硅(SiO2)构成的低折射第二层15。在平坦部分的导电高折射第一层14的厚度是30nm左右,凸起部分14A的最厚部分的厚度是15nm,和低折射第二层的厚度是70nm左右。
由于凸起部分14A部分提供在本实施例的具有双涂层膜5的彩色阴极射线管中的导电高折射第一层14上,这些凸起部分14A轻微地散射外部的光,允许减少镜面反射,该镜面反射是只靠类似第二实施例的具有双涂层膜5的彩色阴极射线管的双涂层膜5的抗反射作用是不能完全消除的。
图8示出了在屏面1A上涂覆和形成本实施例的双涂层膜5的步骤的流程图。下面将使用该流程图解释形成本实施例的双涂层膜5的步骤。
步骤S1至S4与在第一实施例中描述的形成双涂层膜5的步骤是相同的。
然后,在步骤S13中,屏部分1的表面温度设定在55摄氏度左右。
接下来,在步骤S14中由包含银颗粒(Ag)的固体成份的高沸点溶剂组成的水扩散溶液(金属颗粒扩散溶液)旋转涂覆在屏1的屏面1A上,以涂覆部分具有凸起部分14A的导电的高折射第一层14。
随后,在步骤S15中,加热屏面1A约75摄氏度,以干燥涂覆成的和具有凸起的部分14A的导电的高折射第一层14。
再者,在步骤S16中,烷氧基硅的乙醇溶液部分地旋转涂覆在具有凸起部分14A的导电的高折射第一层14上,以涂覆低折射第二层15,同时,设定屏面部分1的表面温度为40摄氏度左右。
接下来,在步骤S17中通过加热屏面1A为165摄氏度左右,烧结低折射第二层15,以便双涂层膜5形成在屏面部分1的屏面1A上。
具有本实施例的双涂层膜5的彩色阴极射线管的光谱透射率几乎与图10所示的第一实施例具有双涂层膜5的彩色阴极射线管的一样。另外,具有本发明的双涂层膜5彩色阴极射线管的透射光颜色是a′=-1至+1,和b′=1至+1,它几乎与具有第二实施例的双涂层膜5的彩色阴极射线管的一样。用裸眼观看,屏1部分的屏面1A的外观接近消色差颜色。再者,具有本实施例的双涂层膜5的彩色阴极射线管具有约800Ω/□ 的表面电阻,在ELEF中0.8V/m和在VLEF中0.8V/M的场泄漏强度,完全满足TCO标准。
除此之外,由于优异的抗反射作用,具有本实施例的双涂层膜5的彩色阴极射线管具有0.8%的视觉反射,和在视觉范围内65%的光透射率,以及取消了彩色阴极射线管的黑色体色。[第四实施例]图5是表示图1所示彩色阴极射线管的双涂层膜5的第四实施例的剖面图。在图5中,与图1和2相同的元件用相同参考号数表示。
在本实施例中,双涂层膜5包含涂覆和形成在屏部分1的屏面1A上的其主要成份是银颗粒的导电高折射第一层14以及涂覆和形成在导电高折射第一层14上的由氧化硅(SiO2)构成的低折射第二层15。导电高折射第一层14的厚度是40nm左右,低折射第二层的厚度是70nm左右。
图9示出了在屏面1A上涂覆和形成本实施例的双涂层膜5的步骤的流程图。下面将使用该流程图解释形成本实施例的彩色阴极射线管中的双涂层膜5的步骤。
步骤S1至S6与在第一实施例中描述的形成双涂层膜5的步骤是相同的。
然后,在步骤S18中,屏面1A加热约摄氏50度以干燥导电的高折射第一层14。
其次,在步骤S19中,烷氧基硅的乙醇溶液旋转涂覆在导电的高折射的第一层15上同时,设定屏部分1的温度为约40摄氏度。
于是,在步骤S20中,通过在约165摄氏度加热屏面1A,烧结低折射第二层15,以使本实施例的双涂层膜5形成在屏部分1的屏面1A上。
图11是通过上述生产步骤得到具有双涂层膜5的彩色阴极射线管的光谱透射率特性曲线,其中,垂直轴用%表示光的透射率,水平轴用nm表示光的波长。
如图11所示,虽然示出了具有本实施例的双涂层膜5的阴极射线管在邻近420nm的光波长处的光吸收率,它稍微大于具有第一至第三实施例的双涂层膜5的彩色阴极射管的,它在视觉范围内几乎是平坦的。另外,具有本实施例的双涂层膜5的彩色阴极射线管的透光颜色是a′=-3至+3,和b′=+8至+15,它几乎与具有第一至第三实施例的双涂层5的彩色阴极射线管的一样,尽管透光颜色b表示的值稍微大于具有第一至第三实施例的双涂层膜5的彩色阴极射线管的透光颜色b′。用裸眼评价屏部分1的屏面1A的外观是淡黄的。再者,具有本实施例的双涂层5的彩色阴极射线管有500Ω/□ 的表面层电阻,在ELEF中的0.5V/m和在VLEF中的0.4V/m的泄漏场强,完全满足TCO标准。
除此之外,由于优异的抗反射作用,本实施例的彩色阴极射线管有0.7%的视觉反射率和在视觉范围内有70%的光透射率,和抵消了彩色阴极射线管的黑色的体色。(第五实施例)可以通过扩散蓝颜色,即蒽醌蓝色颜料进入第四实施例的双涂层膜5的低折射第二层15来获得第五实施例的双涂层膜5。在具有本实施例的双涂层膜5的彩色阴极射线管中,加入淡黄色的互补色的蓝颜色,以防止具有第四实施例的双涂层膜5的彩色阴极射线管的屏面呈现淡黄色。
在涂覆和形成本实施例中的双涂层膜5的步骤S19中,除了使用其中有烷氧基硅固体成份的5至15%的蒽醌蓝色颜料的乙醇溶液以外,涂覆和形成本实施例的双涂层膜5的步骤与图9中所示的第四实例的彩色阴极射线管的情形一样。
图12表示本实施例的彩色阴极射线管的光谱透射率特性曲线,其中,垂直轴用%表示光的透射率,水平轴用nm表示光的波长。
如图12所示,除了本实施例的彩色阴极射线管表示在420nm波长附近的光吸收率稍微大于类似第四实施例的第一至第三实施例的彩色阴极射线管的外,在视觉范围内的光吸收率稍微大于第一至第四实施例的彩色阴极射线管的。另外,本实施例的透光颜色是a′=-4至+2,和b′=+5至+10,和透光颜色a′和b′具有小于第四实施例的彩色阴极射线管的透光颜色a′和b′的值。用裸眼评价屏部分1的屏面1A的外观几乎是消色差颜色的。再者,本实施例的彩色阴极射线管具有约300Ω/□的表面层电阻,在ELEF中0.4V/m和在VLEF中0.4V/m的泄漏场强,完全满足TCO标准。
除此之外,由于优异的抗反射作用,本实施例的彩色阴极射线管有0.6%的视觉反射率和在视觉范围内有68%的光透射率,抵消了彩色阴极射线管的黑色的体色。
要注意到,虽然银(Ag)颗粒混入作为第一至第五实施例的彩色阴极射线管中的双涂层膜5的导电的高折射的第一层14中的情形已经在前面描述过,本发明不限定导电高折射第一层的主要成份是银颗粒,除银外,金(Au),钌(Ru),铑(Rh),钯(Pd),锇(Os),铱(Ir),铂(Pt)和类似的颗粒,或者两种或多种贵金属的颗粒的混合也可以使用。
另外,虽然第一至第五实施例的彩色阴极射线管双涂层膜5中的低折射第二层15的主要成份是氧化硅(SiO2)的情形已经解释,本发明不限定低折射第二层15主要是由氧化硅(SiO2)所组成的情形,除了氧化硅外,还可以使用氟化镁(MgF2)。
另外,在第一至第五实施例的彩色阴极射线管中的屏面1A上形成双涂层膜5的步骤中,每个步骤中引用的温度,即在步骤S7和S15中干燥导电的高折射第一层14中加热的温度,在步骤S18中干燥导电的高折射第一层14中的温度,在步骤S9,S12,S17和S20中烧结的温度都仅仅是具体的温度,本发明在屏面1A上形成双涂层膜5中不限定在这些具体的温度。
在这个情况下,在步骤S7和S15中干燥导电的高折射第一层中的加热温度可以是70至130摄氏度之间的任何温度,如图6至图8中的括号中所叙,在步骤S18中干燥导电的高折射第一层14中的温度可以是图9中的括号中所叙的45和60摄氏度之间的任何温度。还有,在步骤S9,S12,S17和S20中烧结温度如在图6至图9中的括号中所叙,可以是160至75摄氏度之间的任何温度。
除了这些,虽然在本发明的第五实施例已经解释了加入到低折射第二层15中的颜料是蒽醌蓝色颜料,本发明不限定该颜料是蒽醌蓝颜料的情形,和诸如二恶烷颜料,酞青颜料或者染料,或除了颜料和染料外,硅烷偶联剂或类似的材料可以加入。
在以上所叙的实施例中,主要由金属颗粒构成的导电的高折射第一层14通过在屏面1A上施加扩散有金属颗粒的溶液,和在由预加热步骤控制屏面1A的表面温度以后通过干燥步骤将施加在屏面1A上的溶液干燥。然后,通过施加烷氧基硅的乙醇溶液来形成低折射第二层15。这时,烷氧基硅的乙醇溶液充满以前形成的导电的高折射第一层14的金属颗粒间的空隙和达到屏面1A的表面。于是,在随后的烧结步骤中,当烷氧基硅起反应时,产生的氧化硅(包括氢氧化硅)固化导电的高折射第一层14和金属颗粒间,金属颗粒和屏面1A间,以及金属颗粒和低反射第二层间的粘合剂。
因此,作为双涂层膜的最后的结构,导电的高折射第一层14包含金属颗粒和作为粘合剂的氧化硅,和低折射第二层15是由氧化硅构成的。
也就是,当施加了在其中扩散金属颗粒的溶液时,在该步骤形成仅有金属颗粒构成的层,由金属颗粒和氧化硅(包括氢氧化硅)构成的导电的高折射第一层14最后形成了(烧结以后),当施加烷氧基硅的乙醇溶液时,乙醇溶液充满其间。这时的氧化硅起粘合剂的作用,和增加金属颗粒的紧密(增加接触点),因此,加强了导电性。它减少了金属颗粒间的间隙,和填充了该间隙,因此进一步加强了导电的高折射第一层14的折射率和改善了抗反射作用。
由于化学稳定和很难氧化的贵金属元素金(Au),银(Sg)和铂(Pt)中的多于一种的金属颗粒用作上述结构的本发明的具有防止场泄漏的涂层膜的彩色阴极射线管中的导电的高折射第一层14的金属颗粒,该导电的高折射第一层14可以减少到小于1×103Ω/□的低电阻,和在长的时间周期以后导电的高折射第一层的表面电阻将不会下降。
另外,由于互补阴极射线管体色着色的诸如颜料或染料的着色物质可以加入上述构造的本实施例的具有防止泄漏场的涂层膜的阴极射线管中的低折射第二层15,可以互补该阴极射线管的体色的着色,和该体色可以转变为消色差颜色。[第六实施例]将使用图2解释本实施例。在图2中,包括低阻导电高折射膜14和由硅石或类似材料形成在导电的高折射膜14上的低折射膜15构成的表面处理膜5被示出。和图1中相同的参考号对应相同的元件。
在本实施例中,作为形成在由玻璃制成的屏部分1的外表面上的表面处理膜,形成在屏部分1上和其中银和铂的颗粒按2∶8的比例混合的低阻导电高折射膜14和在导电的高折射膜14上旋转涂覆硅石形成的低折射膜15的多层结构被采用。具有这样结构的表面处理膜5的视觉范围的光透射率小于70%。[第七实施例]
使用图2解释本实施例。其中每个参考号与第六实施例中的一样。在本实施例中,作为形成在由玻璃制成的屏部分1的外表面上的表面处理膜,由屏部分1上和其中银和铑的颗粒比例为1∶9的低阻导电高折射膜14和在导电的高折射膜14上旋转涂覆硅石形成的低折射膜15的多层结构被采用。类似第六实施例,具有这样结构的表面处理膜的视觉范围光的透射率小于70%。(第八实施例)将使用图3解释本实施例,在图3中,有在由旋转涂覆形成的低折射膜15上通过喷涂硅石不规则地形成的低折射膜15A。与图2中相同的参考号对应相同的部分和元件。在本实施例中,作为形成在由玻璃制成的屏部分1的外表面上的表面处理膜,由形成在屏部分1上和其中银和铑颗粒按1∶9的比例混合的低阻导电高折射膜14和在导电的高折射膜14上旋转涂覆硅石形成的低折射膜15和在低折射膜15上喷涂硅石不规则形成的低折射第三层15A的多层结构被采用。
图13是表示在视觉范围内表面处理膜的光透射率与根据本发明的第六和第七实施例的表面电阻之间的关系曲线,其中曲线A表示银和铂颗粒按2∶8的比例混合制成的低阻导电高折射膜的特性,曲线B表示银和铑颗粒按1∶9的比例混合制成的低阻导电高折射膜的特性。
从图13中的曲线A和B可以看到,当在视觉范围内光的透射率小于70%时,表面处理膜5的表面电阻小于1×103Ω/□。
使用在下面形成低阻导电高折射膜14和在其上叠置低折射膜15的表面处理膜5使得外部光的反射被减少,防止充电,以及电磁波的泄漏显著地减少,和使得容易满足严格限制电磁波泄漏的国际准则(TCO)容易批准。
应当注意,发现这时的视觉反射率(适合人眼特性的反射率)小于1.2%。
图14是表示具有构成本发明的彩色阴极射线管的低阻导电高折射膜的表面处理膜的表面电阻测量结果和电磁波泄漏量的曲线。
该测量结果表明,当第六至第八实施例的表面处理膜形成的彩色阴极射线管组装在装置中,和低阻导电的高折射膜联接到地时,距离屏表面30cm处的场强。在图14中,直线C表示频率是5至2KHz和以下的场强ELEF(V/m),直线D表示频率是2至400KHZ的场强VLEF(V/m)。
如图14所示,使用第六实施例至第八实施例的低阻导电高折射膜作为形成在彩色阴极射线管屏外表面的表面处理膜,使得电磁波的泄漏程度远低于10V/m的瑞典标准TCO的国际标准。
图15是一个表,它解释与国际标准(瑞典的TCO)作数字比较的第六,第七和第八实施例的表面处理膜的防止泄漏电磁波的作用。
在图15中,可以看到第六和第七实施例的防止泄漏电磁波的作用二者都小于10V/m的准则。具体地说,第六实施例的ELEF和VLEF二者小于该标准的一半,这表明第六实施例有相当大的屏蔽电磁波的泄漏的作用。
接不来,将解释第六至第八实施例的彩色阴极射线管中表面处理膜的形成方法。(形成处理膜的方法的第一实例)在用通常的阴极射线管的制造方法制造有效对角线长度为51cm,屏的视觉范围内平均透射率是76%的彩色显象管以后,用研磨料等清洁屏的表面,用下面″组成1″的溶液喷射和用转速180rpm的旋转摇均60秒钟来形成第一层,以至具有小于0.1微米的厚度和同时保持屏的外表面向上以及保持表面温度为50摄氏度。
再次加热干燥。然后类似以上所述,喷射50ml的具有下面″组成2″的溶液在上述的第一层上,和保持屏的表面上的温度为50摄氏度,用转速的175rpm旋转摇均,以及用170摄氏度加热30分钟。
结果,得到了具有表面电阻为2×102Ω/□,58%的视觉范围内的平均透射率和1.2%的视觉反射率的化学稳定和机械强度强的处理膜。″组合物1″银和铂(Ag/Pt=2/8)颗粒分散溶液颗粒… 1.1wt%乙醇… 6wt%分散剂…0.01wt%纯水… 剩余″组合物2″有机硅烷乙醇溶液乙氧基硅烷…0.08wt%盐酸… 0.001wt%
甲醇… 剩余(形成处理膜的方法的第二实例)具有有效对角线长度51cm的显象管类似上述第一实例那样制造出来,用喷射具有下面″组成3″的溶液清洁屏的表面,用转速180rpm的旋转摇均60秒钟以形成厚度小于0.1μn第一层,同时保持该表面温度为50摄氏度。
这被干燥,和类似第一实例,喷射具有″组合物2″的溶液50ml,同时保持表面温度为50摄氏度,用转速170rpm的旋转摇均50秒钟和加热摄氏170度30分钟。
结果,得到了具有表面电阻为1×103Ω/□,70%的视觉范围内的平均透射率和0.8%的视觉反射率的化学稳定和机械强度强的处理膜。″组合物3″银和铑(Ag/Rh=1/9)颗粒扩散溶液颗粒…0.9wt%异丙醇… 10wt%分散剂… 0.005wt%纯水…剩余(形成处理膜的方法的第三实例)用与上述形成处理膜的第二实例的方法相同的方法形成双涂层膜以后,屏的表面加热60摄氏度,使用两射流嘴喷枪喷射具有下面″组合物4″的溶液在整个屏上。通过在具有″组合物4″的溶液的1.8l/h的流速,180l/h的空气流速,对屏的表面成30度的喷射角,从喷枪到屏的表面的距离为30cm,和500mm/分的扫描速度的条件下一次扫描整个表面来完成。
通过喷射形成的膜在170摄氏度加热30分钟。
结果,得到了具有表面电阻为1×103Ω/□,70%的视觉范围内的平均透射率和0.9%的视觉反射率和具有类似低折射蒸发膜或溅射膜的化学稳定和机械强度强的处理膜。″组合物4″有机硅烷乙醇溶液乙氧基硅烷… 1.7wt%硝酸…0.5wt%纯水…8wt%
乙醇… 剩余应当注意到,使用铂,和铑或银混合的颗粒的情形已经在第六至第八实施例和形成第一至第三实例的处理膜的方法中解释了,本发明不仅仅限定这些情形铷,钯,铱,锇和类似的元素的单一的一种物质,或两或多种这些物质的混合物,或者铷,钯,铱,锇,等和银的混合的颗粒可以使用。
由于铷,钯,铱和锇这些贵金属的电阻在10-5至10-6Ω.cm范围,这是银的几至十多倍,当它们和银混合时,混合的比例根据该电阻来决定。然而,从实用稳定的角度看,银的混合比例最好定在10%。
根据上述的本发明的第六至第八实施例,在屏的外表面上形成处理膜的成本与溅射或NESA涂覆形成方法相比较是相当的低。
图16是解释形成本发明第六至第八实施例的表面处理膜的成本和形成溅射膜和NESA涂覆的成本的比较表。
如该表所示,当假设形成溅射膜的成本是100,NESA涂覆的成本是50,和本发明第六至第八实施例的低电阻导电高折射膜的成本是25。也就是可以以低的成本得到高性能的表面处理膜。
其次,通过与现有技术的彩色阴极射线管比较,解释本发明第六至第八实施例的彩色阴极射线管的透射率。
图17是解释由玻璃构成的屏部分1和在其外表面上形成的处理膜5所构成的彩色阴极射线管的屏的透射率的剖面图。
这里,屏部分1的玻璃的透射率是T0,处理膜的透射率是T1,形成了处理膜的整个屏的透射率可以用T=T0×T1来表示。这里,具有处理膜的整屏的透射率T和底屏的透射率T0可以用参比空气来测量,处理膜的透射率T1用具有处理膜的屏的透射率参比底屏来测量。
同时,每个透射率可以用下面的方程和吸收系数来表示,下面将结合实际测量的透射率来表示。
T0=(1-R1)×(1-R1)×EXP(-K1×t1)T=(1-R1)×(1-R2)×EXP(-K1×t1)×EXP(-K2×t2)T1=(1-R1)×(1-R2)×EXP(-K1×t1)×EXP(-K2×t2)/(1-R1)×(1-R2)×EXP(-K1×t1)其中,
T0是底屏的透射率,T是附有处理膜的底屏的透射率,T1是处理膜的透射率,R1是屏玻璃的反射率,R2是表面处理膜的反射率,K1是屏玻璃的吸收系数(mm-1),K2是表面处理膜的吸收系数(mm-1),t1是屏玻璃的厚度,和t2是表面处理膜的厚度。
图18是解释构成屏的各种玻璃材料的透射率,在屏上仅形成处理膜的透射率,和处理膜和玻璃的总和透射率。
当它的吸收系数是0.0058mm-1,和当它有13mm的清澈的底层玻璃时,屏的透射率是85%,当具有50%的透射率的处理膜形成在其上时,其总的透射率是43%。
当它的吸收系数是0.0014mm-1,和当它有13mm厚的半清澈底层,玻璃屏的透射率是76%,当有50%的透射率的处理膜形成在其上时,总的透射率是38%。另外,当有60%的透射率的处理膜形成在半清澈的底层玻璃上时,总的透射率是46%,和当有66%的透射率的处理膜同样形成在半清澈的底层玻璃上时,总的透射率是50%。
当它的吸收系数是0.0022mm-1,和当它具有13mm厚的灰色底玻璃时,屏的透射率是69%,当有62%的透射率的处理膜形成在其上时,总透射率是43%,当有67%的透射率的处理膜形成在灰色底屏上时,总的透射率是46%。
同时,目前的彩色阴极射线管使用着色的屏,或者黑色着色的屏作为屏玻璃,具有86%至100%的透射率的处理膜形成在它的外表面上。
图19是解释现有技术的高对比度彩色阴极射线管的透射率的表。当屏是由着色玻璃制成的时,当着色的玻璃的透射率是50%,和具有透射率86至92%的处理膜形成在着色玻璃上时,总的透射率是43至46%。当屏是由黑着色玻璃制成的,当黑着色玻璃的透射率是38%,和具有透射率100%的处理膜形成在黑色着色玻璃上时,总透射率是38%。
然而,46%的总透射率是这种现有技术的彩色阴极射线管的一般标准,具有46%左右的总透射率的彩色阴极射线管可以通过在图18中所示的清澈屏,半清澈屏或灰色屏上形成上述发明的处理膜来构成。
因此,本发明的实施例允许可以和国际标准比较的防止外部光的反射,充电以及显著减少电磁波泄漏的彩色阴极射线管以低成本生产出来。
尽管,已经描述了优选实施例,该技术领域的普通技术人员所作的改变都应包括在由下面的权利要求所描述的本发明的构思范围内。
权利要求
1.一种彩色阴极射线管,包括由屏部分,颈部分和连接所述屏部分和所述颈部分的锥部分构成的真空玻壳;施加在所述屏部分内表面上的荧光膜;和放在所述颈部分中的,用以向所述荧光膜发射电子束的电子枪;所述彩色阴极射线管还包括在所述屏部分的屏面的外表面上的防止场泄漏的涂层膜,该涂层膜是通过粘附双涂层膜得到的,该双层膜包括导电的第一层和第二层,该第一层主要是由金(Au,)银(Ag)或铂(Pt)中的一种或多种颗粒构成,第二层主要是由氧化硅(SiO2)或氟化镁(MgF2)构成的。
2.根据权利要求1的彩色阴极射线管,其中所述防止泄漏场的涂层膜的导电的第一层的折射系数大于所述第二层的折射系数。
3.根据权利要求1的彩色阴极射线管,其中所述防止场泄漏涂层膜的第一导电层的视觉范围的平均光透射率是50至90%。
4.根据权利要求1的彩色阴极射线管,其中所述防止场泄漏的涂层膜的导电的第一层的表面电阻小于1×103Ω/□。
5.一种彩色阴极射线管,包括由屏部分,颈部分和连接所述屏部分和所述颈部分的锥部分构成的真空玻壳;施加在所述屏部分内表面上的荧光膜;和放在所述颈部分中的,用以向荧光膜发射电子束的电子枪;所述彩色阴极射线管还包括在所述屏部分的屏面的外表面上的防止场泄漏的涂层膜,该涂层膜是通过粘附双涂层膜得到的,该双层膜包括导电的高折射第一层,低折射的第二层和低折射的第三层,该第一层主要是由金(Au,)银(Ag)或铂(Pt)贵金属元素中的一种或多种颗粒构成,第二层主要是由氧化硅(SiO2)或氟化镁(MgF2)形成在所说的导电的高折射第一层构成的,第三层是形成在所说的低折射第二层上的不规则的表面。
6.根据权利要求5的彩色阴极射线管,其中所述防止场泄漏涂层膜的第一导电层的视觉范围的平均光透射率是50至90%。
7.根据权利要求5的彩色阴极射线管,其中所述防止场泄漏的涂层膜的导电的第一层的表面电阻小于1×103Ω/□。
8.一种彩色阴极射线管,包括由屏部分,颈部分和连接所述屏部分和所述颈部分的锥部分构成的真空玻壳;施加在所述屏部分的内表面上的荧光膜;和放在所述颈部分中的,用以向荧光膜发射电子束的电子枪;所述彩色阴极射线管还包括在所述屏部分的屏面的外表面上的防止场泄漏的涂层膜,该涂层膜是通过粘附双涂层膜在屏部分的屏的外表面上得到的,该双涂层包括主要是由金(Au,)银(Ag)或铂(Pt)贵金属元素中的一种或多种颗粒构成的导电的高折射第一层,和主要是由氧化硅(SIO2)或氟化镁(MgF2)构成的其表面具有不规则区的低折射的第二层。
9.根据权利要求1~8的彩色阴极射线管,其中所说的防止场泄漏涂层膜的第一导电层的视觉范围的平均光透射率是50至90%。
10.根据权利要求1~8的彩色阴极射线管,其中所说的防止场泄漏的涂层膜的导电的第一层的表面电阻小于1×103Ω/□。
11.一种彩色阴极射线管,包括由屏部分,颈部分和连接所述屏部分和所述颈部分的锥部分构成的真空玻壳;施加在所述屏部分的内表面上的荧光膜;和放在所述颈部分中的,用以向荧光膜发射电子束的电子枪;所述彩色阴极射线管还包括在所述屏部分的屏面的外表面上的防止场泄漏的涂层膜,该涂层膜是通过粘附双涂层膜在屏部分的屏的外表面上得到,该双涂层包括主要是由金(Au,)银(Ag)或铂(Pt)贵金属元素中的一种或多种颗粒构成的,它的表面电阻小于1×103Ω/□的导电的高折射的第一层和主要是由氧化硅(SiO2)或氟化镁(MgF2)叠置在所述导电的高折射第一层和包含在视觉范围有选择吸收特性的着色物质的低折射的第二层。
12.一种彩色阴极射线管,包括由屏部分,颈部分和连接所述屏部分和所述颈部分的漏锥部分构成的真空玻壳;施加在所述屏部分内表面上的荧光膜;和放在所述颈部分中的,用以向荧光膜发射电子束的电子枪;所述彩色阴极射线管还包括在所述屏部分的屏面的外表面上的防止场泄漏的涂层膜,该涂层膜是通过粘附双涂层膜在屏部分的屏的外表面上得到,该双涂层包括主要是由金(Au,)银(Ag)或铂(Pt)贵金属元素中的一种或多种颗粒构成的导电的高折射的第一层和主要是由氧化硅(SiO2)或氟化镁(MgF2)构成的低折射的第二层;所述防止场泄漏的涂层膜的视觉范围的平均光透射率是45至80%,它的表面电阻小于1.6×103Ω/□。
13.根据权利要求12的彩色阴极射线管,其中所述防止场泄漏的导电的第一层是由铂,铑,铷,钯,铱和锇中的一种元素构成的。
14.根据权利要求12的彩色阴极射线管,其中所述防止场泄漏的涂层膜的导电的第一层包含贵金属元素银(Ag)和铂(Pt)。
15.一种彩色阴极射线管,包括由屏部分,颈部分和连接所述屏部分和所述颈部分的锥部分构成的真空玻壳;施加在所述屏部分内表面上的荧光膜;和放在所述颈部分中的,用以向荧光膜发射电子束的电子枪;在所述屏部分的屏外面上的防止场泄漏的涂层膜;所述防止场泄漏的涂层膜是通过如下步骤制造的在屏部分的屏面的外表面上施加贵金属元素金(Au),银(Ag)或铂(Pt)中的一种或多种颗粒组成的扩散溶液;在施加和干燥了所述扩散溶液的所述屏面的外表面上形成导电的高折射第一层;在所述导电的高折射第一层上通过施加由氧化硅(SiO2)或氟化镁(MgF2)构成的溶液涂覆低折射第二层;在涂覆所述低折射第二层以后,通过加热形成在所述屏面的外表面上的低折射第二层。
16.根据权利要求15的彩色阴极射线管,其中所述防止场泄漏的涂层膜是由包括施加金属颗粒步骤后加热形成所述导电的高折射第一层的步骤的生产处理步骤生产的。
全文摘要
一种具有防止场泄漏涂层膜的彩色阴极射线管,包括由屏部分,颈部分和连接所述屏部分和所述颈部分的锥部分构成的真空玻壳;施加在所述屏部分内表面上的荧光膜;放在所述颈部分中的,用以向荧光膜发射电子束的电子枪;该防止场泄漏的涂层膜是通过在彩色阴极射线管的屏部分的屏面的外表面上粘合主要是由金(Au,)银(Ag)或铂(Pt)贵金属元素中的一种或多种颗粒构成的导电的高折射的第一层和主要是由氧化硅(SiO
文档编号H01J29/86GK1195878SQ9810701
公开日1998年10月14日 申请日期1998年2月12日 优先权日1997年2月12日
发明者西泽昌絋, 内山则和, 东条利雄 申请人:株式会社日立制作所, 日立装置工程株式会社
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