1.一种L形半导体加工部件电弧溶射专用保护治具，其特征是：所述的保护治具包括第一主体和第二主体，第一主体和第二主体相对设置，第一主体和第二主体均呈“L”形，第一主体内开设有第一容置槽，第二主体内开设有第二容置槽，第一容置槽和第二容置槽均呈条形，第一容置槽和第二容置槽相对设置，第一主体和第二主体上分别开设有有溶射窗口，第一主体上的溶射窗口与第一容置槽相连通，第二主体上的溶射窗口与第二容置槽相连通，溶射窗口开设在第一主体和第二主体的“L”形拐弯处内侧。
2.根据权利要求1所述的L形半导体加工部件电弧溶射专用保护治具，其特征是：所述的第一主体顶面四周固定设置有挡墙，第二主体顶面相对于挡墙位置处设置有限位台阶。
3.根据权利要求1所述的L形半导体加工部件电弧溶射专用保护治具，其特征是：所述的第一主体和第二主体的“L”形拐弯处内侧分别固定设置有一个侧挡板。
4.根据权利要求1所述的L形半导体加工部件电弧溶射专用保护治具，其特征是：所述的第一容置槽和第二容置槽的尖角处分别开设有圆孔，圆孔的圆心设置在第一容置槽和第二容置槽的尖角位置处。