激光处理设备的制作方法

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年9月18日在韩国知识产权局(kipo)提交的第10-2018-0111786号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。

本发明的实施例涉及激光处理设备和制造所述激光处理设备的方法。

背景技术：

激光处理设备是使用例如用于切割材料、形成图案以及焊接的激光束的装置。在激光处理中使用的激光束具有强的方向性和高的密度。具体来说，大功率的激光能够实现精确的处理，同时不影响周围环境，因此可以用于处理显示面板。

激光处理设备例如可以包括：激光源，所述激光源输出激光束；光学扫描器，所述光学扫描器调节输出的激光束的入射位置；以及透镜单元，所述透镜单元聚集入射位置被确定的激光束。在这样的实施例中，由于透镜单元的负荷，应力可以集中在激光处理设备的局部上，并且激光处理设备的刚性可被降低。

将理解的是，本背景技术部分旨在提供用于理解技术的有用的背景，如此，背景技术部分可以包括相关领域的技术人员在本申请的有效申请日之前还未获知或理解的构思或概念。

技术实现要素：

本发明的实施例的方面涉及具有改善的刚性的激光处理设备。

根据实施例，激光处理设备包括：激光源，所述激光源被配置为发射激光束；光学扫描器，所述光学扫描器沿着所述激光束的路径定位并且被配置为调节所述激光束的所述路径；透镜单元，所述透镜单元沿着所述激光束的所述路径定位，所述透镜单元被配置为聚集所述激光束；第一适配器，所述第一适配器位于所述透镜单元和所述光学扫描器之间并且耦接到所述透镜单元；以及第二适配器，所述第二适配器位于所述第一适配器和所述光学扫描器之间，所述第二适配器耦接到所述第一适配器和所述光学扫描器。

所述透镜单元可以包括：透镜；和透镜壳体，所述透镜壳体包括耦接部和非耦接部，所述透镜壳体容纳所述透镜。

所述耦接部可以具有沿着所述激光束的所述路径定位的第一开口，并且可以具有在所述耦接部的外表面处的螺纹。

所述第一适配器可以在所述第一适配器的内表面处具有螺纹并且可以被配置为螺旋耦接到所述耦接部。

所述耦接部的外径可以小于所述非耦接部的外径。

所述第二适配器可以包括：底部，所述光学扫描器坐置在所述底部处，所述底部具有多个第一紧固件开口和多个第二紧固件开口；相对侧部，所述相对侧部从所述底部弯曲且延伸并且彼此相对，所述光学扫描器插设在所述相对侧部之间；以及支撑部，所述支撑部从所述底部和所述相对侧部弯曲且延伸。

所述光学扫描器可以直接接触所述底部的第一表面，并且所述第一适配器可以直接接触所述底部的与所述第一表面相对的第二表面。

在平面上，所述底部的面积可以大于由所述第一适配器的外表面限定的面积。

所述光学扫描器可以具有分别与所述多个第一紧固件开口对应的多个第一凹槽，并且所述第一适配器可以具有分别与所述多个第二紧固件开口对应的多个第二凹槽。

所述激光处理设备还可以包括：多个第一螺钉，所述多个第一螺钉各自插入所述多个第一紧固件开口中的对应的第一紧固件开口中和所述多个第一凹槽中的对应的第一凹槽中；和多个第二螺钉，所述多个第二螺钉各自插入所述多个第二紧固件开口中的对应的第二紧固件开口中和所述多个第二凹槽中的对应的第二凹槽中。

可以在从所述第二适配器朝向所述光学扫描器的第一方向上插入所述多个第一螺钉，并且可以在从所述第二适配器朝向所述第一适配器的第二方向上插入所述多个第二螺钉。

所述第一方向和所述第二方向可以彼此平行并且彼此相反。

所述多个第一螺钉中的每个第一螺钉的外径可以基本上等于或小于所述多个第二螺钉中的每个第二螺钉的外径。

所述光学扫描器可以不与所述多个第二紧固件开口重叠。

所述激光处理设备还可以包括耦接到所述支撑部的框架。

所述相对侧部中的至少一个可以具有沿着所述激光束的所述路径定位的第二开口。

所述透镜单元可以包括平场聚焦透镜单元，所述平场聚焦透镜单元将入射到所述平场聚焦透镜单元的所述激光束的焦距调节为定值。

附图说明

通过参照附图详细描述本发明的实施例，本发明的更完整的理解将变得更明显，在附图中：

图1是示出根据本发明的实施例的激光处理设备的透视图；

图2是示出根据本发明的实施例的激光处理设备的光学扫描器、透镜单元、第一适配器以及第二适配器的分解透视图；

图3是示意性地示出根据本发明的实施例的透镜单元的光学机构的剖视图；

图4至图6是示出根据本发明的实施例的制造激光处理设备的方法的透视图；并且

图7是示出根据本发明的实施例的第二适配器的透视图。

具体实施方式

在下文中，将参照附图更充分地描述本发明的实施例。然而，本发明可以以各种不同的形式来实施，而不应当被解释为仅限于文中所示出的实施例。相反，提供这些实施例作为示例使得本公开将是全面的和完整的，并将向本领域技术人员充分地传达本发明的方面和特征。因此，可以不描述用于本发明的方面和特征的完整理解的对于本领域普通技术人员而言并非必需的工艺、元件和技术。除非另外指出，否则在整个附图和书面描述中，相同的附图标记表示相同的元件，因此可以不重复对元件的描述。在图中，为了清楚起见，可放大元件、层和区域的相对尺寸。

在图中，为了清楚和易于描述多个层和区域，以放大的方式示出了多个层和多个区域的厚度。当将层、区域或板描述为“在”另一层、另一区域或另一板“上”时，所述层、区域或板可以直接在所述另一层、另一区域或另一板上，或者在所述层、区域或板和所述另一层、另一区域或另一板之间可以存在中间层、中间区域或中间板。相反，当将层、区域或板描述为“直接在”另一层、另一区域或另一板“上”时，在所述层、区域或板和所述另一层、另一区域或另一板之间可以缺少中间层、中间区域或中间板。此外，当将层、区域或板描述为“在”另一层、另一区域或另一板“下方”时，该层、区域或板可以直接在另一层、另一区域或另一板下方，或者在所述层、区域或板和所述另一层、另一区域或另一板之间可以存在中间层、中间区域或中间板。相反，当将层、区域或板描述为“直接在”另一层、另一区域或另一板“下方”时，在所述层、区域或板和所述另一层、另一区域或另一板之间可以缺少中间层、中间区域或中间板。此外，将理解的是，当将元件或层描述为“在”两个元件或两个层“之间”时，该元件或层可以是所述两个元件或两个层之间的唯一元件或唯一层，或者还可以存在一个或多个中间元件或中间层。

为了易于描述，在文中可以使用空间相对术语“在……下方”、“在……之下”、“下面的”、“在……上方”或“上面的”等来描述如图中所示的一个元件或一个组件与另一元件或另一组件之间的关系。将理解的是，除了图中描绘的方位之外，空间相对术语还旨在包含装置在使用或操作中的不同方位。例如，在图中示出的装置被翻转的情况下，位于另一装置“下方”或“之下”的装置可以被放置“在”另一装置“上方”。因此，说明性术语“在……下方”可以包括下面位置和上面位置。所述装置还可以定向在其它方向上，因此，可以根据方位来不同地解释空间相对术语。

在整个说明书中，当将元件描述为“连接到”或“耦接到”另一元件时，该元件可以直接连接到或直接耦接到该另一元件，或者可以电连接到或电耦接到该另一元件并且一个或多个中间元件插入所述元件和所述另一元件之间。还将理解的是，当术语“包括”用于本说明书中时，所述术语说明存在所陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但是不排除存在或添加一个或多个其它特征、其它整体、其它步骤、其它操作、其它元件、其它组件和/或它们的组。

将理解的是，尽管在文中可以使用术语“第一”、“第二”和“第三”等来描述各种元件，但是这些元件不应当受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。因此，在不脱离文中教导的情况下，可以将下面讨论的“第一元件”称为“第二元件”或“第三元件”，并且可以以类似的方式命名“第二元件”和“第三元件”。

文中使用的术语是为了描述具体实施例的目的而非旨在限制本发明。如文中所使用的，除非上下文另外明确指示，否则单数形式“一个”和“一种”也旨在包括复数形式。如文中所使用的，术语“和/或”包括一个或多个所列相关项的任意组合和所有组合。当诸如“中的至少一个”的表述在一系列元件之后时，该表述修饰整个系列的元件，而不修饰所述系列中的个别元件。

考虑到所涉及的测量以及与特定量的测量相关联的误差(即，测量系统的局限性)，如文中所使用的“约”、“基本上”或“近似”包括所陈述的值，并且表示在如由本领域普通技术人员所确定的针对特定值的可接受偏差范围内。例如，“约”可以表示在一个或多个标准偏差内，或者在所陈述的值的±30％、±20％、±10％或±5％以内。此外，当描述本发明的实施例时，使用“可以”指的是“本发明的一个或多个实施例”。此外，当描述本发明的实施例时，使用诸如“或”的可替代语言指的是针对所列出的每个对应项的“本发明的一个或多个实施例”。如文中所使用的，术语“使用”可以被认为与术语“利用”同义。此外，术语“示例性”旨在指的是示例或说明。

除非另外定义，否则文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域的技术人员所通常理解的含义相同的含义。还将理解的是，诸如在通用词典中定义的术语的术语应当被解释为具有与其在相关领域的背景中的含义相一致的含义，并且除非在本说明书中明确地定义，否则将不以理想化或过于形式化的含义来解释该术语。

下文中，参照图1至图6描述本发明的示例性实施例。

图1是示出根据本发明的实施例的激光处理设备10的透视图，图2是示出根据本发明的实施例的激光处理设备10的光学扫描器200、透镜单元300、第一适配器410以及第二适配器420的分解透视图，并且图3是示出根据本发明的实施例的透镜单元300的光学机构的示意性剖视图。

参照图1和图2，根据本发明的实施例的激光处理设备10例如包括激光源100、路径转换构件150、光学扫描器200、透镜单元300、第一适配器410、第二适配器420、平台500以及框架600。

激光源100产生激光束l并且将激光束l发射到路径转换构件150。激光源100可以连续地或不连续地发射激光束l。此外，激光源100可以发射单个光束或者可以发射多个光束。根据所利用的工艺，可以使用单独的控制器来调节激光束l的波长、振幅或能量密度等。

路径转换构件150设置在激光源100和光学扫描器200之间。路径转换构件150改变(例如，被配置为改变)激光束l的路径，使得从激光源100发射的激光束l可以朝向光学扫描器200行进。例如，路径转换构件150可以设置在激光束l的路径上(例如，沿着激光束l的路径或者在激光束l的路径中)。然而，在一些实施例中，可以省略路径转换构件150。例如，当省略路径转换构件150时，从激光源100发射的激光束l可以在(例如，沿着)被发射的方向上(例如，沿着传播方向)直线传播，并且可以入射到光学扫描器200。

光学扫描器200调节入射到光学扫描器200的激光束l的路径。例如，光学扫描器200可以朝向透镜单元300改变入射到光学扫描器200的激光束l的传播方向。光学扫描器200可以包括至少一个反射镜。例如，光学扫描器200可以是包括两个反射镜的流电扫描器(galvanoscanner)。

透镜单元300聚集从光学扫描器200提供的激光束l。由透镜单元300聚集的激光束l可以入射到设置在平台500上的目标物(例如，待处理的目标物)ob。例如，目标物ob可以包括一个或多个基底、玻璃和半导体层。然而，未具体限制目标物ob的类型。

透镜单元300可以是平场聚焦透镜单元。平场聚焦透镜单元具有无论入射到平场聚焦透镜单元的激光束l的入射角如何均聚焦在同一平面上的特性。因此，无论相对于激光束l的位置(或入射角)如何，均可以以基本上恒定的能量处理目标物ob。例如，根据本发明的实施例的透镜单元300可以是具有在从约200mm至约300mm的范围内的焦距的平场聚焦透镜单元，但是实施例不限于此。

透镜单元300包括透镜壳体310和容纳在透镜壳体310中的至少一个透镜(例如，第一透镜321和第二透镜322(见图3))。根据本发明的实施例的透镜壳体310可以具有镜筒形状。

透镜壳体310包括耦接部310a和非耦接部310b。透镜壳体310的耦接部310a可以具有形成在透镜壳体310的外表面处的螺纹，以便螺旋耦接到后面进一步描述的第一适配器410。此外，透镜壳体310可以具有位于激光束l的路径上(例如，在激光束l的路径中或者沿着激光束l的路径)的第一开口(例如，第一通孔)lh1。例如，透镜壳体310的耦接部310a可以具有在耦接部310a的外表面处的螺纹(或者可以具有外螺纹的形状)并且限定第一通孔lh1。

参照图3，根据本发明的实施例的透镜单元300包括容纳在透镜壳体310中的第一透镜321、第二透镜322和窗330。在这样的实施例中，第一透镜321、第二透镜322和窗330可以依次沿着激光束l的传播方向设置。下文中，为了易于描述，将透镜单元300的邻近于(例如，面对)光学扫描器200定位的且激光束l入射到的一侧称作第一侧s01，且将透镜单元300的朝向目标物ob(例如，面对目标物ob)发射激光束l的一侧称作第二侧s02。

在一些实施例中，根据本发明的实施例的透镜单元300可以包括：光圈st，所述光圈st位于透镜单元300的第一侧s01(例如，在透镜单元300的第一侧s01处)；第一透镜321和第二透镜322，所述第一透镜321和第二透镜322各自具有朝向激光束l的传播方向凸出的形状；以及窗330，所述窗330位于透镜单元300的第二侧s02并保护第一透镜321和第二透镜322。

光圈st设置为邻近于光学扫描器200。与光圈st的直径对应的入射光瞳的直径可以是约100mm或更大。因此，可以通过透镜单元300透射足够量的光。然而，实施例不限于此，光圈st可以具有任何适当的直径。

第一透镜321和第二透镜322中的每个可以具有弯月形状，所述弯月形状在(例如，在第一侧s01)第一侧s01处具有凹表面，并且第一透镜321和第二透镜322中的每个可以具有正光焦度(positiverefractivepower)。虽然根据本发明的实施例的第一透镜321和第二透镜322中的每个的在激光束l的传播方向上彼此相对的相对表面被描绘为具有球形表面，但是实施例不限于此。在实施例中，第一透镜321和第二透镜322中的每个的彼此相对的相对表面中的至少一个可以是非球形表面。例如，第一透镜321的与第一侧s01邻近的相对表面中的一个表面(例如，第一表面)可以是球形表面，并且第一透镜321的与第二侧s02邻近的另一表面(例如，第二表面)可以是非球形表面。类似地，第二透镜322的与第一侧s01邻近的相对表面中的一个表面(例如，第三表面)可以是球形表面，并且第二透镜322的与第二侧s02邻近的另一表面(例如，第四表面)可以是非球形表面。

第一透镜321和第二透镜322中的每个例如可以包括具有优异的透光率的硒化锌(znse)或锗(ge)。例如，第一透镜321可以包括硒化锌(znse)，并且第二透镜322可以包括锗(ge)。然而，实施例不限于此，第一透镜321和第二透镜322可以包括本领域技术人员已知的任何适当的材料。

窗330保护被容纳在透镜壳体310中的第一透镜321和第二透镜322。窗330可以具有板状，并且可以耦接到透镜壳体310。窗330可以包括具有透光率的玻璃或塑料，但是实施例不限于此。窗330可以透射穿过透镜单元300的光，并且可以基本上防止来自透镜单元300外部的杂质渗入透镜单元300中。

例如，根据本发明的实施例的透镜单元300可以是包括两个透镜(例如，第一透镜321和第二透镜322)的平场聚焦透镜单元。然而，实施例不限于此，例如，透镜单元300可以包括三个或更多个透镜。此外，根据本发明的实施例的激光处理设备10还可以包括设置在光学扫描器200和透镜单元300之间的反射构件，以便调节入射到透镜单元300的激光束l的角度。

再次参照图1和图2，第一适配器410设置在光学扫描器200和透镜单元300之间，并且第二适配器420设置在第一适配器410和光学扫描器200之间。

第一适配器410耦接到光学扫描器200和透镜单元300中的每个。具体来说，第一适配器410螺旋耦接到透镜单元300的耦接部310a。例如，第一适配器410可以具有内螺纹形状以与透镜壳体310的耦接部310a螺旋耦接。换言之，第一适配器410可以具有位于激光束l的路径上的第二开口(例如，第二通孔)lh2，并且可以具有包围耦接部310a的外围的环的形状。在图中，虽然将根据本发明的实施例的第一适配器410的外表面描绘为在平面图中具有四边形形状，但是实施例不限于此。在实施例中，第一适配器410的外表面在形状上例如可以是圆形、六边形或八边形。

第二适配器420可以耦接到第一适配器410和光学扫描器200中的每个，并且可以直接接触第一适配器410和光学扫描器200。第二适配器420包括底部421、从底部421弯曲且延伸的相对侧部422以及从底部421和相对侧部422弯曲且延伸的支撑部423。第二适配器420的底部421、相对侧部422以及支撑部423可以限定其中容纳有光学扫描器200的空间。

底部421位于第一适配器410和光学扫描器200之间。在一些实施例中，光学扫描器200坐置在底部421的上表面处。底部421可以具有位于激光束l的路径上(例如，在激光束l的路径中或沿着激光束l的路径)的第三开口(例如，第三通孔)lh3。此外，底部421具有待与光学扫描器200和透镜单元300耦接的多个第一紧固件开口(例如，第一螺孔)h1和多个第二紧固件开口(例如，第二螺孔)h2。多个紧固件(例如，螺钉)(见图5和图6中的s1和s2)可以分别插入下面进一步详细描述的多个螺孔h1和h2中。

相对侧部422彼此相对地(例如，面对地)定位，并且光学扫描器200在相对侧部422之间。相对侧部422中的至少一个具有位于激光束l的路径上(例如，沿着激光束l的路径)的第四开口(例如，第四通孔)lh0。例如，从激光源100发射的激光束l可以穿过位于第二适配器420的相对侧部422中的一个上的第四通孔lh0，并且可以入射到光学扫描器200。

支撑部423可以与底部421和相对侧部422一体形成为单一结构，并且可以加强第二适配器420的刚性。此外，支撑部423可以耦接到框架600。支撑部423可以具有待耦接到框架600的至少一个第三紧固件开口(例如，第三螺孔)h0。在一些实施例中，框架600可以具有与支撑部423的第三螺孔h0对应的凹槽(例如，螺旋凹槽)或第四紧固件开口(例如，第四螺孔)，并且支撑部423和框架600可以使用至少一个紧固件(例如，至少一个螺钉)彼此耦接。然而，实施例不限于此，支撑部423和框架600可以通过各种已知的技术彼此耦接。

第一适配器410和第二适配器420中的每个可以包括例如不锈钢的刚性金属材料或者例如铝或铝合金的具有良好的散热性能的材料。第一适配器410和第二适配器420可以通过压模成型工艺形成，以便例如具有孔(或开口)并且包括弯曲部。

此外，根据本发明的实施例的激光处理设备10还可以包括连接到框架600的电机。例如，激光处理设备10可以包括直线伺服电机，并且可以通过直线伺服电机使耦接到框架600的第二适配器420垂直地(例如，上下)移动。直线伺服电机不需要中间传动机构，例如，皮带和轮、滚珠螺杆以及齿条和齿轮。通过使用线性编码器，直线伺服电机可以更适合用于高精度对准。

下文中，参照图4、图5和图6另外详细地描述根据本发明的实施例的激光处理设备10。此外，描述制造激光处理设备10的方法。

首先，参照图4，透镜单元300和第一适配器410彼此耦接。根据实施例，具有内螺纹形状的第一适配器410耦接(例如，螺旋耦接)到具有外螺纹形状的透镜壳体310的耦接部310a。例如，透镜壳体310的耦接部310a可以具有形成在耦接部310a的外表面处的螺纹和螺谷(screwvalley)，并且第一适配器410可以具有形成在第一适配器410的内表面处的螺纹和螺谷。

透镜单元300包括容纳在透镜壳体310中的至少一个透镜(例如，第一透镜321和/或第二透镜322)。当用于将螺钉插入其中的附加的开口(或孔)被限定在透镜壳体310处时，可以发生其中杂质可以流入透镜壳体310或容纳在透镜壳体310中的透镜(例如，第一透镜321和/或第二透镜322)中的问题，这可导致当耦接螺钉时的损坏。由于根据本发明的实施例的透镜壳体310包括耦接部310a，所述耦接部310a具有在耦接部310a的外表面处的螺纹并且耦接到具有在第一适配器410的内表面处的螺纹的第一适配器410，因此可以基本上防止这种问题，或者可以降低这种问题的可能性。

在这种实施例中，在重量上相对重的透镜单元300可以位于例如夹具的单独的结构处，然后可以使在重量上相对轻的第一适配器410旋转，使得第一适配器410可以耦接到透镜单元300。因此，操作者可以将透镜单元300和第一适配器410更容易地耦接到彼此，并且可以基本上防止通过操纵相对重的透镜单元300可发生的意外，或者减小通过操纵相对重的透镜单元300可发生的意外的可能性。

根据本发明的实施例的透镜壳体310的耦接部310a具有比非耦接部310b的外径小的外径。例如，如图4中所示，当将耦接部310a的外径称作第一外径d1并将非耦接部310b的最小外径称作第二外径d2时，第一外径d1小于第二外径d2。因此，非耦接部310b可以用作限位器，因而第一适配器410不可连续地旋转，并且可以停止以便位于与非耦接部310b的上表面直接接触的位置处。

接下来，参照图5，光学扫描器200和第二适配器420通过多个第一螺钉s1彼此耦接。例如，第二适配器420的底部421具有多个第一螺孔h1，并且光学扫描器200具有分别与多个第一螺孔h1对应的多个第一螺旋凹槽g1。多个第一螺钉s1插入多个第一螺孔h1和多个第一螺旋凹槽g1中，使得光学扫描器200和第二适配器420可以稳定地耦接到彼此。

多个第一螺钉s1中的每个的外径可以在从约4mm至约6mm的范围内，但是实施例不限于此。在图中，将实施例示出为包括四个第一螺孔h1、四个第一螺旋凹槽g1以及四个第一螺钉s1，但是实施例不限于此，并且可以包括任何适当数量的第一螺孔h1、第一螺旋凹槽g1以及第一螺钉s1。

在从第二适配器420朝向光学扫描器200的第一方向dr1上插入多个第一螺钉s1。例如，如图5中所示，当将底部421的上表面称作第一表面s11并将底部421的下表面称作第二表面s12时，光学扫描器200可以设置为与底部421的第一表面s11直接接触。此外，多个第一螺钉s1中的一个可以在从第二表面s12朝向第一表面s11的第一方向dr1上插入多个第一螺孔h1中的对应的第一螺孔h1和多个第一螺旋凹槽g1中的对应的第一螺旋凹槽g1。此外，多个第一螺钉s1中的每个可以完全插入多个第一螺孔h1中的对应的第一螺孔h1和多个第一螺旋凹槽g1中的对应的第一螺旋凹槽g1中，或者多个第一螺钉s1中的每个第一螺钉s1的仅一部分可以插入，使得各个第一螺钉s1的头部可以从底部421的第二表面s12突出。

根据本发明的实施例的光学扫描器200沿着第一方向dr1与限定在底部421处的第三通孔lh3和多个第一螺孔h1重叠，但是不与限定在底部421处的多个第二螺孔h2重叠。因此，操作者可以在随后的工艺中使用多个第二螺孔s2将第一适配器410和第二适配器420容易地耦接到彼此。

接下来，参照图6，第一适配器410和第二适配器420通过多个第二螺钉s2彼此耦接。例如，耦接到透镜单元300的第一适配器410和耦接到光学扫描器200的第二适配器420通过多个第二螺钉s2彼此耦接。例如，第二适配器420的底部421具有多个第二紧固件开口(例如，第二螺孔)h2，并且第一适配器410具有分别与多个第二螺孔h2对应的多个第二紧固件凹槽(例如，第二螺旋凹槽)g2。多个第二螺钉s2插入多个第二螺孔h2和多个第二螺旋凹槽g2中，使得第二适配器420和第一适配器410可以稳定地耦接到彼此。

多个第二螺钉s2固定与光学扫描器200相比在重量上相对重的透镜单元300和耦接到透镜单元300的第一适配器410。多个第二螺钉s2中的每个的外径可以基本上等于或大于多个第一螺钉s1中的每个的外径。例如，多个第二螺钉s2中的每个的外径可以在从约6mm至约8mm的范围内，但是实施例不限于此。在图中，将实施例示出为包括四个第二螺孔h2、四个第二螺旋凹槽g2以及四个第二螺钉s2，但是实施例不限于此，并且可以包括任何适当数量的第二螺孔h2、第二螺旋凹槽g2以及第二螺钉s2。

在从第二适配器420朝向第一适配器410的第二方向dr2上插入多个第二螺钉s2。在这样的实施例中，第一方向dr1和第二方向dr2彼此平行且彼此相反。例如，如图6中所示，当将底部421的上表面称作第一表面s11并将底部421的下表面称作第二表面s12时，第一适配器410可以直接接触底部421的第二表面s12。此外，多个第二螺钉s2中的一个可以在从第一表面s11朝向第二表面s12的第二方向dr2上插入多个第二螺孔h2中的对应的第二螺孔h2和多个第二螺旋凹槽g2中的对应的第二螺旋凹槽g2。此外，多个第二螺钉s2中的每个可以完全插入多个第二螺孔h2中的对应第二螺孔h2和多个第二螺旋凹槽g2中的对应第二螺旋凹槽g2中，或者多个第二螺钉s2中的每个第二螺钉s2的仅一部分可以插入，使得多个第二螺钉s2中的每个第二螺钉s2的头部可以从底部421的第一表面s11突出。

根据本发明的实施例的第二适配器420的底部421可以具有比由第一适配器410的外表面限定的面积大的面积。因此，可以进一步改善第二适配器420的刚性，并且第二适配器420可以稳定地耦接到光学扫描器200和第一适配器410中的每个。

如此，由于根据本发明的实施例的激光处理设备10包括设置在光学扫描器200和透镜单元300之间的例如第一适配器410和第二适配器420的两个适配器，因此可以基本上防止在重量上相对重的透镜单元300的负荷集中到局部区域。此外，可以进一步改善激光处理设备10的刚性。

下文中，参照图7描述了本发明的另一实施例。为了便于说明，可以省略与上述配置基本上相同的配置的描述。

图7是示出根据本发明的另一实施例的第二适配器420'的透视图。

参照图7，根据本发明的另一实施例的第二适配器420'包括底部421、从底部421弯曲且延伸的相对侧部422'以及从底部421和相对侧部422'弯曲且延伸的支撑部423。在这样的实施例中，相对侧部422'在相对侧部422'的横截面上可以具有具备第五开口lh0'的环的形状。

相对侧部422'彼此相对，并且光学扫描器200设置在相对侧部422'之间。与上述第四通孔lh0的尺寸相比，根据本发明的另一实施例的限定在相对侧部422'处的第五开口lh0'具有相对大的尺寸。因此，可以更容易地调节入射到光学扫描器200的激光束l的路径。

然而，第二适配器420和420'的形状不限于上述实施例，第二适配器420和420'可以具有本领域技术人员已知的任何适当的形状。

如在上文中所阐述的，根据本发明的一个或多个实施例的激光处理设备可以通过包括第一适配器和第二适配器来改善激光处理设备的刚性。

尽管已经参照本发明的实施例示出和描述了本发明，但是对于本领域普通技术人员而言将明显的是，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，可以对所描述的实施例进行各种修改和改变。