1.一种压延铜箔制造方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的压延铜箔制造方法，其特征在于，所述将阴极电解铜熔炼制成铜杆后再挤压成铜带坯的步骤，进一步包括：采用阴极电解铜作为原料，并经过1160℃-1200℃的熔化、上引拉铸获得铜杆；
3.根据权利要求1所述的压延铜箔制造方法，其特征在于，所述将所述铜带坯轧制成厚度为0.15mm的铜带的步骤，进一步包括：
4.根据权利要求3所述的压延铜箔制造方法，其特征在于，所述第一次退火还包括：对所述罩式炉内的铜卷进行氮气保护，在所述保温5小时后，先对所述铜卷进行风冷再水冷降温，所述风冷将所述铜卷降温到280℃时，转为水冷降温，水冷降温到60℃时所述第一次退火结束；
5.根据权利要求4所述的压延铜箔制造方法，其特征在于，所述抛光采用抛光刷抛光，所述抛光刷采用2000目不织布与碳化硅颗粒的组合。
6.根据权利要求1所述的压延铜箔制造方法，其特征在于，在所述将所述厚度为0.15mm的铜带轧制成厚度为0.01mm的铜箔的步骤之前，还包括：
7.根据权利要求1所述的压延铜箔制造方法，其特征在于，将所述厚度为0.15mm的铜带轧制成厚度为0.01mm的铜箔的步骤，进一步包括：
8.根据权利要求1所述的压延铜箔制造方法，其特征在于，
9.根据权利要求8所述的压延铜箔制造方法，其特征在于，在所述碳氢清洗的步骤之后，还包括：
10.一种压延铜箔，其特征在于，采用权利要求1-9任意一项所述的压延铜箔制造方法制造而成。