专利名称：研磨抛光机台及研磨抛光方法
技术领域：
本发明涉及一种研磨抛光机台及研磨抛光方法，尤其涉及一种玻璃面板的研磨抛光机台及使用此研磨抛光机台的研磨抛光方法。
背景技术：
随着3C(Computer，Communications and Consumer)产业的发展，越来越多的人会使用手持装置(handheld device)作为生活中的辅助工具。举例来说，常见的手持装置包含个人数字助理(personal digital assistant；PDA)、移动电话(mobile phone)、智能型手机(smart phone)等，这些手持装置的体积小，携带方便，因此使用的人数越来越多，所需的功能也越来越广。
为了提高手持装置携带时的便利性，手持装置的面板常需进行玻璃薄化处理，以使手持装置的体积更为轻薄。传统式的研磨抛光机台在薄化玻璃面板时，可利用研磨头上贯穿孔的真空吸力，将玻璃面板吸附于研磨头上，然而，此种方式会使玻璃面板在贯穿孔吸附处产生凹陷，致使玻璃面板研磨不均。且若仅以真空吸附的方式固定玻璃面板与研磨头，那么在处理中常会因真空吸力不足，造成玻璃面板抛片而导致破片。或者，在贯穿孔解除真空时，若是某些贯穿孔的空气先冲出并形成通道，则大部分的空气便会经此通道离开，造成其它贯穿孔的气量不足，而无法完全地解除真空。
为解决上述问题，也有以人工方式进行玻璃面板取卸片步骤的，包含以人工拍打的方式贴附于玻璃吸着垫上的玻璃面板，使玻璃面板吸附于研磨头上的玻璃吸着垫上。而在将玻璃面板自研磨头取下时，需在机台内部将加工后的玻璃面板洗净，再以人工使用气枪吹气，破坏研磨头上的玻璃吸着垫与玻璃面板之间的吸附状态，最后，将玻璃面板从玻璃吸着垫上取下。由于过程中以清水清洗玻璃面板时，清水与残留的研磨液会流回机台，若是将其排掉，则会造成成本的提高，若不排掉，又会稀释机台内部的研磨液浓度。且人工取卸片时，容易因为人工操作时的碰撞，会造成玻璃面板的损伤，而影响产品的合格率。
发明内容
因此本发明的主要目的就是在提供一种研磨抛光机台，用以在清洗玻璃面板时，维持研磨液的浓度。
根据本发明的上述目的，提出了一种研磨抛光机台，用以薄化一玻璃面板。研磨抛光机台包含一回转手臂、一研磨头以及一研磨垫。研磨头与回转手臂相连，且研磨头包含一玻璃吸着垫与多个贯穿孔。研磨垫相对于研磨头设置，并通过将玻璃面板吸附于玻璃吸着垫上，使研磨头上的玻璃面板与研磨垫进行抛光研磨。研磨抛光机台还包含一卸载平台，玻璃面板在研磨抛光机台上进行一研磨抛光步骤，并利用回转手臂将玻璃面板移动至卸载平台进行一取卸片步骤。卸载平台还包含至少一吹气管，可在卸片时配置于玻璃面板与玻璃吸着垫之间，以在玻璃面板与玻璃吸着垫之间注入压缩气体。玻璃吸着垫由多个吸盘组成，玻璃面板可通过吸盘吸附于玻璃吸着垫上。其中，贯穿孔可配置于吸盘之间。研磨抛光机台还包含一压力控制单元，压力控制单元与贯穿孔相连，以向贯穿孔提供一压力源。其中压力源若为一负压源，则贯穿孔会形成真空吸附孔，压力源若为一压缩气体，则贯穿孔会形成吹气道。回转手臂还可包含一升降装置，以向研磨头提供一上提力，此升降装置可为一气压缸。
本发明的另一形式为一种研磨抛光方法，用以薄化玻璃面板。研磨抛光方法包含一取片步骤、一预压研磨步骤、一本体重量研磨步骤以及一卸片步骤。取片步骤包含利用研磨头的多个真空吸附孔将玻璃面板贴附于研磨头上。预压研磨步骤包含在研磨时利用升降装置向研磨头提供上提力。本体重量研磨步骤包含解除真空效应及上提力，以利用研磨头的本体重量进行研磨。卸片步骤包含在玻璃面板与研磨头之间注入压缩气体，以使玻璃面板与研磨头脱离。上提力的大小约为本体重量的30％至55％，其中预压研磨步骤的研磨时间为等于或少于20秒。其中取片步骤与卸片步骤在卸载平台上进行，预压研磨步骤与本体重量研磨步骤在研磨抛光机台上进行，玻璃面板可利用与研磨头相连的一回转手臂，移动于卸载平台与研磨抛光机台之间。卸片步骤可利用研磨头的吹气道与卸载平台的吹气管，在研磨头与玻璃面板之间注入压缩气体。其中，吹气道与真空吸附孔为配置于研磨头的贯穿孔，并由压力控制单元控制。研磨头包含玻璃吸着垫，玻璃吸着垫由吸盘所组成，以将玻璃面板吸附于玻璃吸着垫上，其中贯穿孔设置于吸盘之间。
本发明的有益技术效果在于通过使用所述研磨抛光机台，玻璃面板可利用回转手臂的移动，而分别在卸载平台与研磨抛光机台上进行取卸片步骤与抛光研磨步骤，这样，在清洗玻璃面板上残存的研磨液时，清水与残存的研磨液不会回流至研磨抛光机台影响研磨液的浓度。此外，研磨抛光方法可利用预压研磨步骤，使玻璃面板的取片得以自动化，而不会使玻璃面板因真空凹陷致使研磨不均。此外，通过卸载平台的吹气管，可避免因贯穿孔出气量不一致，致使卸片失败的情形出现。
为让本发明的上述和其它目的、特征、优点与实施例能更明显易懂，附图的详细说明如下图1A为本发明的研磨抛光机台一较佳实施例的示意图。
图1B为本发明的研磨抛光平台一较佳实施例的局部放大图。
图2为本发明的抛光研磨机台另一较佳实施例的示意图。
图3为图2中虚线部分的局部放大图。
图4为本发明的研磨抛光方法一较佳实施例的流程图。
其中，附图标记说明如下100研磨抛光机台110研磨垫 120回转手臂122升降装置130研磨头 132玻璃吸着垫133虚线部分140卸载134贯穿孔150压力控制单元136吸盘300方法142吹气管 320步骤200玻璃面板340步骤310步骤330步骤具体实施方式
以下将以附图及详细说明清楚说明本发明的精神，本领域的技术人员在了解本发明的较佳实施例后通过本发明所教导的技术而进行的改变及修饰，均不脱离本发明的精神与范围。
同时参照图1A及图1B，其分别示出了本发明的研磨抛光机台一较佳实施例的示意图及局部放大图。研磨抛光机台100用以研磨抛光一玻璃面板200，并将玻璃面板200薄化。研磨抛光机台100包含一研磨垫110、一回转手臂120以及一研磨头130。其中研磨头130与回转手臂120相连，研磨垫110相对于研磨头130设置。研磨头130包含一玻璃吸着垫132以及多个贯穿孔134，其中贯穿孔134穿设于玻璃吸着垫132，并与一压力控制单元150相连通。玻璃吸着垫132可为一黑胶垫。其中回转手臂120还包含一升降装置122，以向研磨头130提供一上提力。
玻璃面板200可利用玻璃吸着垫132吸附于研磨头130，以利用研磨头130与研磨垫110对玻璃面板200进行抛光研磨，以薄化玻璃面板200。由于研磨抛光机台100还包含一卸载平台140，利用回转手臂120可将研磨头130移动至卸载平台140，进行玻璃面板200的取卸片，因此，利用清水清洗玻璃面板200上残存的研磨液时，清水及残存的研磨液不会回流至研磨垫110，进而影响到研磨垫110的研磨液浓度。
参照图2，其示出了本发明的抛光研磨机台另一较佳实施例的示意图。贯穿孔134设置于玻璃吸着垫132之中，并与压力控制单元150相连，以通过压力控制单元150向贯穿孔134提供一压力源。当压力控制单元150所提供的压力为负压源时，相连的贯穿孔134会形成真空吸附孔，以提供真空吸力，进而将玻璃面板200牢固地吸附于玻璃吸着垫132上，以进行玻璃面板200的取片动作。当压力控制单元150所提供的压力源为压缩气体时，研磨头130的贯穿孔134会形成吹气道，压缩气体则可经由贯穿孔134的吹气道冲出，以解除玻璃面板200与玻璃吸着垫132之间的吸附状态，使玻璃面板200与研磨头130分离，进而完成玻璃面板200的卸片动作。
卸载平台140还可包含一吹气管142，吹气管142可在玻璃面板200卸片时，配置于玻璃面板200与玻璃吸着垫132之间，以经由吹气管142在玻璃面板200与玻璃吸着垫132之间注入压缩气体，辅助贯穿孔134的吹气道，以避免贯穿孔134的气量分布不均匀，致使玻璃面板200卸片失败。
同时参照图2及图3，图3示出了图2中虚线部分的局部放大图。由图3中虚线部分133的放大图可知，研磨头130的玻璃吸着垫132由多个微小的吸盘136所组成，上述微小的吸盘136可进一步地吸附玻璃面板200于玻璃吸着垫132上。其中，贯穿孔134穿设于吸盘136之间。玻璃吸着垫132的材料可为黑胶垫。
同时参照图1A、图1B及图4，图4示出了本发明的研磨抛光方法一较佳实施例的流程图。研磨抛光方法300用以薄化一玻璃面板200。研磨抛光方法300包含一取片步骤310、一预压研磨步骤320、一本体重量研磨步骤330以及一卸片步骤340。其中，取片步骤310是在卸载平台140上进行的，该步骤包含利用研磨头130的贯穿孔134所形成的真空吸附孔，将玻璃面板200利用真空效应贴附于研磨头130上。接着，利用回转手臂120将玻璃面板200移动至研磨抛光机台100，以进行玻璃面板200的抛光研磨。
预压研磨步骤320是在研磨时利用回转手臂120的升降装置122，如气压缸，向研磨头130提供上提力。在上述预压研磨步骤320中，由于玻璃面板200仍利用贯穿孔134的真空效应与研磨头130贴合，此时若是直接进行研磨抛光的动作，则容易因为抛片而使得研磨失败。预压研磨步骤320利用升降装置122所提供的上提力，可缓缓地向玻璃面板200与研磨头130提供预压力，使玻璃面板200通过所述预压力与研磨头130上的玻璃吸着垫132的吸盘136紧紧贴合。上提力的大小约为研磨头130本体重量的30％至55％。由于此步骤的研磨时间不超过20秒，因此玻璃面板200的切削量小，不至于影响研磨抛光的质量。
本体重量研磨步骤330包含解除贯穿孔134的真空效应，此时，玻璃面板200完全利用玻璃吸着垫132的吸盘136固定于研磨头130。这样，可避免因贯穿孔134的真空效应，而使玻璃面板200产生凹陷致使研磨不均的情形。所述步骤中，还包含解除升降装置122的上提力，以使研磨头130利用研磨头130的本体重量进行研磨，以降低研磨抛光的时间。接着，利用回转手臂120将研磨头130及玻璃面板200移动到卸载平台140。
卸片步骤340是在卸载平台140上进行的，包含在玻璃面板200与研磨头130之间注入压缩气体，以解除玻璃面板200与玻璃吸着垫132间的吸附状态，使玻璃面板200脱离研磨头130。卸片步骤340的注入压缩气体过程包含利用研磨头130的贯穿孔134形成的吹气道，与配置于卸载平台140的吹气管142同时吹气，贯穿孔134中的气体会在玻璃面板200与玻璃吸着垫132间产生气道流出，吹气管142的气体可经由此气道灌入，撑开玻璃面板200与玻璃吸着垫132，使玻璃面板200与玻璃吸着垫132脱离。此步骤可避免因贯穿孔134出气量不均匀，而造成卸片失败的情形。
由上述本发明较佳实施例可知，本发明具有下列优点。玻璃面板可利用回转手臂的移动，而分别在卸载平台与研磨抛光机台上进行取卸片步骤与抛光研磨步骤，这样，在清洗玻璃面板上残存的研磨液时，清水与残存的研磨液不会回流至研磨抛光机台，进而影响研磨液的浓度。此外，研磨抛光方法可利用预压研磨步骤，使玻璃面板的取片得以自动化，而不会使玻璃面板因真空凹陷致使研磨不均。此外，通过卸载平台的吹气管，可避免因贯穿孔出气量不一致，致使卸片失败的情形。
虽然本发明已以一较佳实施例公开如上，然其并非用以限定本发明的保护范围。本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，可作各种更动与润饰，因此，本发明的权利保护范围应以权利要求的范围为准。
权利要求
1.一种研磨抛光机台，用以薄化一玻璃面板，其包含一回转手臂；一研磨头，与该回转手臂相连，且该研磨头包含一玻璃吸着垫与多个贯穿孔；以及一研磨垫，相对于该研磨头设置，通过将该玻璃面板吸附于该玻璃吸着垫上，使该研磨头上的该玻璃面板与该研磨垫进行抛光研磨。
2.如权利要求1所述的研磨抛光机台，其中该研磨抛光机台还包含一卸载平台，该玻璃面板在该研磨抛光机台上进行研磨抛光处理，并利用该回转手臂移动至该卸载平台进行取卸片处理。
3.如权利要求2所述的研磨抛光机台，其中该卸载平台还包含至少一吹气管，其可在卸片时配置于该玻璃面板与该玻璃吸着垫之间，以在玻璃面板与该玻璃吸着垫之间注入一压缩气体。
4.如权利要求1所述的研磨抛光机台，其中该玻璃吸着垫由多个吸盘所组成，其中该玻璃面板通过所述吸盘吸附于该玻璃吸着垫上。
5.如权利要求4所述的研磨抛光机台，其中所述贯穿孔穿设于所述吸盘之间。
6.如权利要求1所述的研磨抛光机台，其中该研磨抛光机台还包含一压力控制单元，其与所述贯穿孔相连，以向所述贯穿孔提供一压力源。
7.如权利要求6所述的研磨抛光机台，其中该压力源为一负压源，以使所述贯穿孔形成多个真空吸附孔。
8.如权利要求6所述的研磨抛光机台，其中该压力源为一压缩气体，以使所述贯穿孔形成多个吹气道。
9.如权利要求1所述的研磨抛光机台，其中该回转手臂还包含一升降装置，以向该研磨头提供一上提力。
10.如权利要求9所述的研磨抛光机台，其中该升降装置为一气压缸。
11.一种研磨抛光方法，用以薄化一玻璃面板，包含一取片步骤，包含利用一研磨头的多个真空吸附孔，将该玻璃面板贴附于该研磨头上；一预压研磨步骤，包含在研磨时利用一升降装置向该研磨头提供一上提力；一本体重量研磨步骤，包含解除该真空效应及该上提力，以利用该研磨头的一本体重量进行研磨；以及一卸片步骤，包含在该玻璃面板与该研磨头之间注入一压缩气体，以使该玻璃面板与该研磨头脱离。
12.如权利要求11所述的研磨抛光方法，其中该上提力的大小约为该本体重量的30％至55％。
13.如权利要求11所述的研磨抛光方法，其中该预压研磨步骤的研磨时间为等于或少于20秒。
14.如权利要求11所述的研磨抛光方法，其中该取片步骤与该卸片步骤在一卸载平台上进行。
15.如权利要求14所述的研磨抛光方法，其中该预压研磨步骤与该本体重量研磨步骤在一研磨抛光机台上进行。
16.如权利要求15所述的研磨抛光方法，其中该研磨抛光方法还包含使用与该研磨头相连的一回转手臂，在该卸载平台与该研磨抛光机台之间移动该玻璃面板。
17.如权利要求14所述的研磨抛光方法，其中该卸片步骤是利用该研磨头的多个吹气道与该卸载平台的一吹气管，在该研磨头与该玻璃面板之间注入该压缩气体。
18.如权利要求17所述的研磨抛光方法，其中所述吹气道与所述真空吸附孔为配置于该研磨头上的多个贯穿孔，并由一压力控制单元控制。
19.如权利要求18所述的研磨抛光方法，其中该研磨头包含一玻璃吸着垫，该玻璃吸着垫由多个吸盘所组成，以将该玻璃面板吸附于该玻璃吸着垫上，其中所述贯穿孔穿设于所述吸盘之间。
全文摘要
一种研磨抛光机台及使用此机台的研磨抛光方法，以薄化一玻璃面板。该研磨抛光机台包含一研磨头、一研磨垫，一回转手臂。玻璃面板贴附于研磨头上，并利用与研磨头相连的回转手臂移动于研磨抛光机台与一卸载平台之间。其中，玻璃面板在卸载平台上进行取卸片的步骤，在研磨抛光机台上进行抛光研磨的步骤。回转手臂包含一升降装置，以向研磨头提供一上提力。本发明解决了清水与残存的研磨液回流至研磨抛光机台影响研磨液浓度，以及因贯穿孔出气量不一致造成卸片失败的问题，其所采用的研磨抛光方法中，利用预压研磨步骤，使玻璃面板不会因真空凹陷致使研磨不均。
文档编号B24B41/06GK1994674SQ20071000147
公开日2007年7月11日 申请日期2007年1月10日 优先权日2007年1月10日
发明者刘象强, 卢聪林, 刘荣其, 魏仲立, 曾建春 申请人:友达光电股份有限公司